用于补偿电子设备中的工艺变化的装置和方法制造方法及图纸

提供了用于补偿工艺变化的电子设备。该电子设备包括第一电路和第二电路，第一电路被配置为消耗供应给第一电路的电流，第二电路被配置为控制供应给第一电路的电流。第二电路被配置为：基于使用与第一电路的第一元件的种类相同的种类的第二元件生成的脉冲信号的频率，来生成用于控制供应给所述电路的电流的信号。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本公开涉及根据电子设备中的工艺变化(processvariation)的对电路元件(circuitcomponent)的特性差异补偿。
技术介绍
电子设备包括许多电路。特别地，通信电子设备可以包括用于控制射频(RF)的电路，并且该电路主要包括用于生成信号的频率合成器。在频率合成器中，用于生成具有期望的频率的信号的部件被称为压控振荡器(VCO)，并且VCO是消耗相对大量电流的电路之一。当半导体电路被制造时，由于在晶圆上的位置，可能发生工艺变化。在互补金属氧化物半导体(CMOS)工艺中，晶体管相对容易遭受大的工艺变化。例如，基于工艺变化，晶体管在慢-慢(Slow-Slow，SS)角中工作缓慢，在快-块(Fast-Fast，FF)角中工作快速，并且在典型-典型(Typical-Typical，TT)角中正常工作。被设计为即使在工艺变化中仍然稳定工作的诸如VCO的电路被典型地基于最差工艺条件(也就是说，基于其中晶体管最缓慢地工作的工艺特性)来设计。结果，具有相对不同工作速度的设备本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种电子设备，包括：第一电路，被配置为消耗供应给第一电路的电流；以及第二电路，被配置为控制供应给第一电路的电流，其中，第二电路被配置为：基于使用与第一电路的第一元件的种类相同的种类的第二元件生成的脉冲信号的频率，来生成用于控制供应给第一电路的电流的信号。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2013.11.12 KR 10-2013-01370171.一种电子设备，包括：
第一电路，被配置为消耗供应给第一电路的电流；以及
第二电路，被配置为控制供应给第一电路的电流，
其中，第二电路被配置为：基于使用与第一电路的第一元件的种类相同
的种类的第二元件生成的脉冲信号的频率，来生成用于控制供应给第一电路
的电流的信号。
2.如权利要求1所述的电子设备，还包括环形压控振荡器(VCO)，其
被配置为生成所述脉冲信号。
3.如权利要求1所述的电子设备，其中，第二电路被配置为基于所述频
率确定第一电路的第一元件的工艺特性，以及生成与所述工艺特性相对应的
信号。
4.如权利要求1所述的电子设备，其中，第二电路被配置为确定信号值，
然后被关断。
5.如权利要求1所述的电子设备，其中，第二电路被配置为在电子设备
初始操作时进行操作。
6.一种用于操作电子设备的方法，该方法包括：
使用与电路的第一元件的种类相同的种类的第二元件来生成脉冲信号，
所述电路消耗供应给所述电路的电流；以及
基于所述脉冲信号的频率生成用于控制供应给所述电路的电流的信号。
7.如权利要求6所述的方法，其中...

【专利技术属性】
技术研发人员：李准熙，崔钟元，韩相昱，李诚俊，李永宅，夫荣健，
申请(专利权)人：三星电子株式会社，
类型：发明
国别省市：韩国;KR