一种多真空室的电阻式蒸发镀膜机制造技术

本实用新型专利技术适用于镀膜机领域，提供了一种多真空室的电阻式蒸发镀膜机，包括装取片室、镀膜室和蒸发室，所述装取片室与蒸发室均与所述镀膜室连通，且所述装取片室与所述镀膜室之间设有控制其连通与闭合的第一阀门，所述蒸发室与所述镀膜室之间设有控制其连通与闭合的第二阀门，所述装取片室与所述镀膜室之间还设有用于带动工件进出所述镀膜室的传动装置，所述蒸发室内具有镀料组件和用于加热所述镀料组件的电阻片，所述镀料组件紧贴在所述电阻片上。该镀膜机包括装取片室、镀膜室和蒸发室，使其镀膜室一直处于真空状态，无需因装取片而破真空导致吸附水汽等杂质，镀膜状态时没有水汽等杂质的干扰，气体气氛相对稳定，从而提高了镀膜品质和稳定性。

【技术实现步骤摘要】

本技术属于镀膜机领域，尤其涉及一种多真空室的电阻式蒸发镀膜机。
技术介绍
现有的真空电阻式蒸发镀膜机，一般采用一个真空室，利用电阻加热法将待镀材料紧贴在电阻片或电阻丝上熔融汽化，从而蒸发沉积到基片上，并且每炉装取片和蒸发镀膜均在该真空室完成。由于待镀材料加热会熔融为液体，受液体向下重力影响，待镀材料需位于电阻片或电阻丝上方，并朝上方蒸发。待镀材料一般为一次性材料，每炉镀膜完成后需要换一次。现有的单一真空室电阻式蒸发镀膜机的装取片、抽真空、镀膜均在该真空室内完成，每炉装取片时镀膜室都会破真空至大气状态，镀膜室内壁会吸附水汽等杂质，在镀膜状态时，水汽等杂质会影响镀膜品质和稳定性。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题为提供一种多真空室的电阻式蒸发镀膜机，旨在避免镀膜室内壁会吸附水汽等杂质，提高镀膜品质和稳定性。为解决上述技术问题，本技术是这样实现的，一种多真空室的电阻式蒸发镀膜机，包括装取片室、镀膜室和蒸发室，所述装取片室与所述蒸发室均与所述镀膜室连通，且所述装取片室与所述镀膜室之间设有控制其连通与闭合的第一阀门，所述蒸发室与所述镀膜室之间设有控制其连通与闭合的第二阀门，所述装取片室与所述镀本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种多真空室的电阻式蒸发镀膜机，其特征在于，包括装取片室、镀膜室和蒸发室，所述装取片室与所述蒸发室均与所述镀膜室连通，且所述装取片室与所述镀膜室之间设有控制其连通与闭合的第一阀门，所述蒸发室与所述镀膜室之间设有控制其连通与闭合的第二阀门，所述装取片室与所述镀膜室之间还设有用于带动工件进出所述镀膜室的传动装置，所述蒸发室内具有镀料组件和用于加热所述镀料组件的电阻片，所述镀料组件紧贴在所述电阻片上。

【技术特征摘要】
1.一种多真空室的电阻式蒸发镀膜机，其特征在于，包括装取片室、镀膜室和蒸发室，所述装取片室与所述蒸发室均与所述镀膜室连通，且所述装取片室与所述镀膜室之间设有控制其连通与闭合的第一阀门，所述蒸发室与所述镀膜室之间设有控制其连通与闭合的第二阀门，所述装取片室与所述镀膜室之间还设有用于带动工件进出所述镀膜室的传动装置，所述蒸发室内具有镀料组件和用于加热所述镀料组件的电阻片，所述镀料组件紧贴在所述电阻片上。2.如权利要求1所述的多真空室的电阻式蒸发镀膜机，其特征在于，所述镀料组件包括镀料载体和待镀材料，所述待镀材料放置在所述镀料载体内，所述镀料载体的一端具有开口，并紧贴在所述电阻片上，所述镀料载体的开口一端不接触所述电阻片并朝向所述工件。3.如权利要求2所述的多真空室的电阻式蒸发镀膜机，其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员：胡伟，徐平，
申请(专利权)人：深圳市力沣实业有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44