环形真空电阻炉制造技术

技术编号:15030011 阅读:121 留言:0更新日期:2017-04-05 07:51
本实用新型专利技术公开一种环形真空电阻炉,包括壳体、盖体、抽真空机构和水冷机构,盖体包括上盖和下盖,壳体包括环状内壳和环状外壳,环状内壳和环状外壳围成的环形空腔内壁设置多个壳体支撑机构,抽真空机构通过真空管道与所述环形空腔相连通,壳体支撑机构的另一端设置壳体电加热机构,壳体电加热机构与环状内壳和环状外壳之间均设置壳体隔热层,上盖和下盖内侧均设置盖体隔热层,壳体隔热层与盖体隔热层相接触后围成加热腔体。本实用新型专利技术通过设置环状壳体结构,有利于电加热机构的支撑结构的空间布置,而且在壳体中间设置水冷通道对壳体进行降温,有效增加本实用新型专利技术的使用寿命。

【技术实现步骤摘要】

本技术属于真空炉
,尤其涉及一种环形真空电阻炉。
技术介绍
真空炉通常有工频式、感应式、电阻式,工频式和感应式通常用于金属的熔化,电阻式通常用于热处理或烧结,电阻式真空炉的电阻丝或电阻带通常沿炉体内壁布置,对于炉体不是太大的电阻式真空炉,炉体较小中间通常是没有加热电阻丝的,而且炉体内的温度可看作是均匀的,可满足工件对炉体内温度要求是严格一致的要求,但对于炉体较大真空炉,为保证炉体内温度分布均匀,需要在炉体中间增设电加热机构,此时在真空炉中间部位设置占位较大的支撑机构用于支撑电加热机构,由于支撑机构难以承受长时间的高温,需频繁的检修、更换,所以该方法可以解决短时所需,不利于大规模批量生产。
技术实现思路
有鉴于此,本技术的目的是针对现有技术的不足,提供一种环形真空电阻炉,通过设置环状壳体结构,有利于电加热机构的支撑结构的空间布置,而且在壳体中间设置水冷通道对壳体进行降温,有效增加本技术的使用寿命。为达到上述目的,本技术采用以下技术方案:环形真空电阻炉,包括壳体、盖体、抽真空机构和水冷机构,所述盖体包括上盖和下盖,所述壳体包括环状内壳和环状外壳,所述上盖为在环状外壳和环状外壳之间形成的向本文档来自技高网...

【技术保护点】
环形真空电阻炉,包括壳体、盖体、抽真空机构和水冷机构,所述盖体包括上盖和下盖,其特征在于:所述壳体包括环状内壳和环状外壳,所述上盖为在环状外壳和环状外壳之间形成的向上凸起的弧形环状结构,下盖为在环状内壳和环状外壳之间形成的向下凸起的弧形环状结构,所述环状内壳、环状外壳、上盖和下盖均为双层结构,双层结构的中间为水冷通道,所述水冷通道通过水冷管道与所述水冷机构连通,所述上盖和下盖通过法兰与所述环状内壳和环状外壳密封连接,所述环状内壳和环状外壳围成的环形空腔内壁设置多个壳体支撑机构,所述抽真空机构通过真空管道与所述环形空腔相连通,所述壳体支撑机构的另一端设置壳体电加热机构,所述壳体电加热机构与所述环...

【技术特征摘要】
1.环形真空电阻炉,包括壳体、盖体、抽真空机构和水冷机构,所述盖体包括上盖和下盖,其特征在于:所述壳体包括环状内壳和环状外壳,所述上盖为在环状外壳和环状外壳之间形成的向上凸起的弧形环状结构,下盖为在环状内壳和环状外壳之间形成的向下凸起的弧形环状结构,所述环状内壳、环状外壳、上盖和下盖均为双层结构,双层结构的中间为水冷通道,所述水冷通道通过水冷管道与所述水冷机构连通,所述上盖和下盖通过法兰与所述环状内壳和环状外壳密封连接,所述环状内壳和环状外壳围成的环形空腔内壁设置多个壳体支撑机构,所述抽真空机构通过真空管道与所述环形空腔相连通,所述壳体支撑机构的另一端设置壳体电加热机构,所述壳体电加热机构与所述环状内壳和环状外壳之间均设置壳体隔热层,所述上盖和下盖内侧均设置盖体隔热层,所述壳体隔热层与盖体隔热层相接触后围成加热腔体。2.根据权利要求1所述的环形真空电阻炉,其特征在于:所述壳体隔热层和盖体隔热层为多层金属反射屏或多层碳毡...

【专利技术属性】
技术研发人员:朱书成赵家亮王希彬
申请(专利权)人:西峡龙成特种材料有限公司
类型:新型
国别省市:河南;41

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