一种石斛人工种植环境控制系统技术方案

技术编号:15002939 阅读:68 留言:0更新日期:2017-04-04 11:36
本实用新型专利技术涉及一种石斛人工种植环境控制系统,属于石斛人工种植操作控制领域。包括大棚、苗床、洒水装置、外遮阳装置和加温装置,所述外遮阳装置设在大棚顶部,所述苗床设在大棚内部,苗床上有基质,所述洒水装置设在苗床中间,所述加温装置设在大棚内部,其特征在于,还包括控制系统和传感器,所述传感器输入端接入PLC控制器,所述PLC输出端接入洒水装置、外遮阳装置和加温装置,是一种基于PLC控制系统调节光照、温度、湿度等环境因素的石斛人工种植环境控制系统。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种石斛人工种植环境控制系统,属于石斛人工种植操作控制领域。
技术介绍
石斛人工种植的大棚里面,很多因素都会影响石斛的生长,目前,都是通过人工控制调节大棚内的环境因素,劳动强度大且繁琐。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题在于:提供一种基于PLC控制系统调节光照、温度、湿度等环境因素的石斛人工种植环境控制系统。本技术所要解决的技术问题采取以下技术方案来实现:一种石斛人工种植环境控制系统,包括大棚、苗床、洒水装置、外遮阳装置和加温装置,所述外遮阳装置设在大棚顶部,所述苗床设在大棚内部,苗床上有基质,所述洒水装置设在苗床中间,所述加温装置设在大棚内部,其特征在于,还包括控制系统和传感器,所述传感器包括多个光照度传感器、多个温度传感器和多个湿度传感器,所述控制系统包括可编程的PLC控制器和与PLC控制器相连的人机界面,所述光照度传感器设在大棚上,信号输入端与PLC控制器连接,所述温度传感器设和在苗床上,信号输入端与PLC控制器连接,所述湿度传感器设在苗床上的基质内,信号输入端与PLC控制器连接,所述洒水装置包括控制阀,所述PLC控制器信号输出端与控制阀连接,所述外遮阳装置包括驱动装置,所述PLC控制器信号输出端与驱动装置连接,所述加温装置包括控制器,所述PLC控制器信号输出端与控制器连接。作为优选实例,所述洒水装置包括出口管、电磁阀和流量传感器,所述电磁阀和流量传感器设在出口管上。作为优选实例,还包括与PLC控制器连接的报警装置。本技术的有益效果是:传感器用于采集现场的环境数据,PLC控制器通过根据预存的标准控制模型对采集数据进行处理运算,并在收到人机界面反馈的操作信号后对运算值为相应的调整控制量输出至执行机构如洒水装置、外遮掩装置或加温装置,执行机构根据调整控制量执行相关操作。以达到智能控制大棚内的环境因素。附图说明图1为本技术系统示意图。具体实施方式为了对本技术的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体图示,进一步阐述本技术。如图1所示,一种石斛人工种植环境控制系统,包括大棚、苗床、洒水装置、外遮阳装置和加温装置,所述外遮阳装置设在大棚顶部,所述苗床设在大棚内部,苗床上有基质,所述洒水装置设在苗床中间,所述加温装置设在大棚内部,其特征在于,还包括控制系统和传感器,所述传感器包括多个光照度传感器、多个温度传感器和多个湿度传感器,所述控制系统包括可编程的PLC控制器和与PLC控制器相连的人机界面,所述光照度传感器设在大棚上,信号输入端与PLC控制器连接,所述温度传感器设和在苗床上,信号输入端与PLC控制器连接,所述湿度传感器设在苗床上的基质内,信号输入端与PLC控制器连接,所述洒水装置包括控制阀,所述PLC控制器信号输出端与控制阀连接,所述外遮阳装置包括驱动装置,所述PLC控制器信号输出端与驱动装置连接,所述加温装置包括控制器,所述PLC控制器信号输出端与控制器连接。进一步的,所述洒水装置包括出口管、电磁阀和流量传感器,所述电磁阀和流量传感器设在出口管上。进一步的,还包括与PLC控制器连接的报警装置。传感器用于采集现场的环境数据,并将数据发送到PLC控制器上,传感器包括光照度传感器、温度传感器、湿度传感器等,光照度传感器设在大棚顶部四个区域内,采集照射在大棚内的太阳光强度,温度传感器设在苗床上,采集大棚内的温度数据,湿度传感器设在每一个苗床上的基质内,采集每个苗床的湿度数据;PLC控制器对采集到的数据进行运算,并输送到人机界面上,计算过程是:PLC控制器中有预先设定好的标准控制模型,当计算出的数据在标准控制模型数据范围内,则执行机构如如洒水装置、外遮阳装置或加温装置就不需要调整,当出现偏差,执行机构开始工作直到消除偏差。以上显示和描述了本技术的基本原理和主要特征和本技术的优点。本行业的技术人员应该了解,本技术不受上述实施例的限制,在不脱离本技术精神和范围的前提下,本技术还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本技术范围内。本技术要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种石斛人工种植环境控制系统,包括大棚、苗床、洒水装置、外遮阳装置和加温装置,所述外遮阳装置设在大棚顶部,所述苗床设在大棚内部,苗床上有基质,所述洒水装置设在苗床中间,所述加温装置设在大棚内部,其特征在于,还包括控制系统和传感器,所述传感器包括多个光照度传感器、多个温度传感器和多个湿度传感器,所述控制系统包括可编程的PLC控制器和与PLC控制器相连的人机界面,所述光照度传感器设在大棚上,信号输入端与PLC控制器连接,所述温度传感器设和在苗床上,信号输入端与PLC控制器连接,所述湿度传感器设在苗床上的基质内,信号输入端与PLC控制器连接,所述洒水装置包括控制阀,所述PLC控制器信号输出端与控制阀连接,所述外遮阳装置包括驱动装置,所述PLC控制器信号输出端与驱动装置连接,所述加温装置包括控制器,所述PLC控制器信号输出端与控制器连接。

【技术特征摘要】
1.一种石斛人工种植环境控制系统,包括大棚、苗床、洒水装置、外遮
阳装置和加温装置,所述外遮阳装置设在大棚顶部,所述苗床设在大棚内部,
苗床上有基质,所述洒水装置设在苗床中间,所述加温装置设在大棚内部,
其特征在于,还包括控制系统和传感器,所述传感器包括多个光照度传感器、
多个温度传感器和多个湿度传感器,所述控制系统包括可编程的PLC控制器
和与PLC控制器相连的人机界面,所述光照度传感器设在大棚上,信号输入
端与PLC控制器连接,所述温度传感器设和在苗床上,信号输入端与PLC控
制器连接,所述湿度传感器设...

【专利技术属性】
技术研发人员:伍连明
申请(专利权)人:安徽省霍山县福康石斛开发有限公司
类型:新型
国别省市:安徽;34

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