一种制造悬式瓷绝缘子用上釉机中的釉缸制造技术

技术编号:14993850 阅读:113 留言:0更新日期:2017-04-03 23:47
本实用新型专利技术公开了一种制造悬式瓷绝缘子用上釉机中的釉缸,包括釉缸本体,所述釉缸本体的外底面设有至少三个用于支撑釉缸本体的可调节釉缸本体高度的丝杠。所述釉缸本体为具有内层缸体和外层缸体的双层缸体,所述内层缸体和外层缸体之间为20cm~30cm宽的夹层,该夹层内充水。所述釉缸本体的内底面均匀铺设有若干根不锈钢管,所述不锈钢管管体侧部开设若干直径为5mm~10mm的通孔,所述不锈钢管外接空气压缩机。所述丝杠带有刻度。本实用新型专利技术能够降低操作难度、增加对上釉对象的适应性、减少干燥时间、提高釉浆均匀性,烧成后的悬式瓷绝缘子釉面光滑、颜色均匀、无堆釉、粘釉等缺陷,大幅度降低了因釉面造成的废品,显著提高了瓷检合格率。

【技术实现步骤摘要】

本技术属于机械设备领域,特别涉及一种制造悬式瓷绝缘子用上釉机中的釉缸
技术介绍
随着国家经济的发展,电网建设也如火如荼的进行。相应的,对悬式瓷绝缘子的要求也越来越高。上釉是悬式瓷绝缘子生产的关键工序之一,上釉效果的好坏直接影响产品的质量。传统的上釉机中的釉缸具有下述缺点:第一,釉缸高度固定不变,因此使用不灵活,由于不同大小和形状的悬式瓷绝缘子坯件,对釉缸的高度要求是不同的。为了调节釉缸的高度,工厂一般使用木板、砖块等土办法来垫高釉缸,其结果就是费时、费力、定位难、精度差,影响上釉效果。第二,传统釉缸都是单层缸体,当气温较低时,釉缸内的釉浆温度也较低,釉浆的流动性下降,干燥时间延长,上釉产品容易发生堆釉和粘釉现象,影响上釉效果,造成釉面缺陷废品。第三,没有设置专门的搅拌装置,一般都是依靠人工间歇性搅拌釉浆,搅拌不够均匀、搅拌后不久釉浆又会沉淀分层,还会遇到员工忘记搅拌的情况,釉浆极易发生沉淀分层,影响上釉效果,造成釉面缺陷废品。因此,为保证上釉效果,减少釉面缺陷废品,提升悬式瓷绝缘子的产品质量,急需一种能解决上述问题的釉缸。
技术实现思路
现有上釉机中的釉缸由于高度固定不变,缸体为单层,没有设置专门的搅拌装置,上釉效果差。本技术的目的在于,针对上述现有技术的不足,提供一种改进了的制造悬式瓷绝缘子用上釉机中的釉缸。为解决上述技术问题,本技术所采用的技术方案是:一种制造悬式瓷绝缘子用上釉机中的釉缸,包括釉缸本体,所述釉缸本体的外底面设有至少三个用于支撑釉缸本体的可调节釉缸本体高度的丝杠。借由上述结构,针对不同大小和形状的悬式瓷绝缘子坯件,可以通过调节丝杠的高度来调节釉缸的高度。进一步地,所述釉缸本体为具有内层缸体和外层缸体的双层缸体,所述内层缸体和外层缸体之间为20cm~30cm宽的夹层,该夹层内充水。借由上述结构,内层缸体内盛装釉浆,夹层内盛装水,在气温较低的时候,可以通过加热夹层里面的水来加热内层釉缸装盛的釉浆,提高了釉浆的流动度,加快了釉浆的干燥速度,减少了堆釉、粘釉等现象。进一步地,所述釉缸本体的内底面均匀铺设有若干根不锈钢管,所述不锈钢管管体侧部开设若干直径为5mm~10mm的通孔,所述不锈钢管外接空气压缩机。借由上述结构,在上釉机工作的时候打开外接空气压缩机处的接入阀门,从而通孔均匀喷出空气,对釉浆进行持续不间断搅拌,搅拌效果好,避免了沉淀分层、忘记搅拌等问题。进一步地,所述丝杠带有刻度。带有刻度的丝杠进一步提高了釉缸高度调节的精确度。进一步地,所述内层缸体的内底面均匀铺设有若干根不锈钢管,所述不锈钢管管体侧部开设若干直径为5mm~10mm的通孔,所述不锈钢管外接空气压缩机。与现有技术相比,本技术能够降低操作难度、增加对上釉对象的适应性、减少干燥时间、提高釉浆均匀性,烧成后的悬式瓷绝缘子釉面光滑、颜色均匀、无堆釉、粘釉等缺陷,大幅度降低了因釉面缺陷造成的废品,显著提高了瓷检合格率。附图说明图1为本技术一实施例的主视图。图2为图1的仰视图。图3为图1中的A-A剖视图,其中B处外接空气压缩机。其中,1为丝杠,2为外层缸体,3为内层缸体,4为不锈钢管,5为夹层,6为通孔,7为釉缸本体。具体实施方式如图1至图3所示,本技术的一实施例包括釉缸本体7,所述釉缸本体7的外底面设有四个用于支撑釉缸本体7的可调节釉缸本体7高度的丝杠1。所述丝杠1带有刻度。所述釉缸本体7为具有内层缸体3和外层缸体2的双层缸体,所述内层缸体3和外层缸体2之间为20cm~30cm宽的夹层5,该夹层5内充水。所述内层缸体3的内底面均匀铺设有若干根不锈钢管4,所述不锈钢管4管体两侧各开设一排直径为5mm~10mm的通孔6,所述不锈钢管4外接空气压缩机。实施例1分别利用本技术所述上釉机中的釉缸和传统的上釉机中的釉缸对悬式瓷绝缘子进行上釉,使用效果对比如下:序号项目单位传统釉缸本技术1调整釉缸高度用时间分钟10~151~32气温10℃时釉浆干燥时间分钟523气温10℃时堆釉、粘釉废品%3~70.5~14因釉浆沉淀、分层造成的釉面废品%1~40~0.03本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种制造悬式瓷绝缘子用上釉机中的釉缸,包括釉缸本体(7),其特征在于,所述釉缸本体(7)的外底面设有至少三个用于支撑釉缸本体(7)的可调节釉缸本体(7)高度的丝杠(1)。

【技术特征摘要】
1.一种制造悬式瓷绝缘子用上釉机中的釉缸,包括釉缸本体(7),其特征在于,所述釉缸本体(7)的外底面设有至少三个用于支撑釉缸本体(7)的可调节釉缸本体(7)高度的丝杠(1)。
2.如权利要求1所述的制造悬式瓷绝缘子用上釉机中的釉缸,其特征在于,所述釉缸本体(7)为具有内层缸体(3)和外层缸体(2)的双层缸体,所述内层缸体(3)和外层缸体(2)之间为20cm~30cm宽的夹层(5),该夹层(5)内充水。
3.如权利要求1所述的制造悬式瓷绝缘子用上釉机中的釉缸,其特征在于,所述釉缸本体(...

【专利技术属性】
技术研发人员:赵明彪
申请(专利权)人:萍乡华维电瓷科技股份有限公司
类型:新型
国别省市:江西;36

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