当前位置: 首页 > 专利查询>张文一专利>正文

气体产生剂的制造方法技术

技术编号:1498186 阅读:169 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术是一种气体产生剂的制造方法,主要是利用湿式研磨的方式,将气体产生剂的原料混合磨细后制锭的过程,通过湿式研磨的方式,使得原料可以混合研磨,并且使得研磨的速度增快,进而提升制程的速度与便利。(*该技术在2022年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本专利技术是有关一种,特指一种以湿式研磨方式,制造出气体产生剂的方式,可以提供更快及更方便的制程,节省工业上所花费的成本与能源。
技术介绍
在生活中,例如安全气囊或是一些充气垫等,需要在短时间充满气体,才能达到其保护的功效。以安全气囊为例,当汽车相撞或撞上其它东西时,驾驶座及前排乘客前面的一个袋子便迅速膨胀,以免驾驶员或乘客撞上方向盘或挡风玻璃,这就是安全气囊。类似这种紧急时使用需要来保护人体的气囊或是充气垫,由于需要迅速膨胀,最好在千分之20-60秒内,才能在紧急的时候,达到保护的功用。而能够在如此短暂的时间内产生大量的气体,以一般传统的泵体打气或输人气体的方式是不可能达到的,因此最迅速便利的方式便是利用气体产生剂进行化学反应产生气体,才能在短时间内产生大量的气体充满气囊。 因此,在这类需要立即充气来缓冲或是保护的充气垫工业中,气体产生剂制造便极为重要。但由于反应产生气体的原料,具有氧化剂与还原剂,虽然在紧急时,可能会经由电流引起火花或是其它的触发产生反应,但是在制造的过程中也可能因为其它的触发产生反应,反而引起危险,因此便十分重要,以免造成意外。 传统的气体产生剂的制造流程如下步骤一将5.5’-偶氮四唑胍盐(KZT)、5-胺基四唑单水合物(5AT)、硝酸钡(Ba(NO3)2)、硝酸钾(KNO3)、二氧化硅(SiO2)五种原料,分别利用球磨机研磨,之后确定粉体粒径的大小; 步骤二加入溶剂分散原料;步骤三将五种原料以擂溃机拌合;步骤四溶剂挥发;步骤五以70℃烘箱烘制;步骤六进入制锭过程。 使用传统的中,由于传统的干式研磨(球磨机)是将粉体倒入瓷坛中,再加入一些瓷球之后,将坛盖封紧。而后将瓷坛置于两个转动轴上,瓷坛受到转动轴的带动,会依转动轴向360度转,在瓷坛内的瓷球则会持续的撞击粉体,进而达到将粉体磨细的结果。其主要缺陷在于一、干式研磨效率不佳。例如将150μm的粉体研磨至100μm,可能仅需20分钟,但要将100μm研磨至20μm,可能需要耗时3个小时。 二、五种原料需要分开研磨。由于干式研磨是利用硬瓷球强力撞击粉体,而对于气体产生剂而言,这五种原料含有氧化剂及还原剂,若一起研磨,可能会由于研磨时硬瓷球的撞击,使温度提升或因为撞击产生火花等,使得原料产生氧化还原反应,发生意外,像是爆炸的情况,因此利用干式研磨时,必须将个别成分分开研磨,以避免意外的产生。 三、研磨至较小的粒径需要较高的速度,干式研磨本身即有速度的限制,无法高速研磨,且此气体产生剂的原料中,含有氧化剂及还原剂,若是快速研磨,会使得原料产生氧化还原反应,而产生爆炸的意外,因此使得干式研磨无法研磨出更细微的粉体。 四、研磨瓷球粒径大小会影响研磨粉体的粒径与研磨效率,干式研磨的瓷球直径为2~3cm,若是干式研磨槽使用粒径更小的瓷球研磨,瓷球会分散无法研磨,使得干式研磨槽仅能使用较大粒径的瓷球,而造成研磨可得的粒径受到限制。 由于干式研磨具有上述的缺陷,不仅需要耗费较多的时间与能源,对于工业的制程也会提升成本的支出。 针对上述缺陷,本专利技术人遂竭其心智悉心研究克服,凭其从事该项产业的累积经验,创造出本专利技术的技术方案。
技术实现思路
本专利技术的主要目的是提供一种,通过湿式研磨的方式,使得研磨的速度加快,并且可以将原料混合研磨,达到使气体产生剂的制造更为便利迅速的目的。 本专利技术的目的是这样实现的一,其特征是它包括如下步骤a.选料,按照所需的配比秤取干燥的原料细粒,该原料为5.5’-偶氮四唑胍盐3-10、5-胺基四唑单水合物25-35、硝酸钾40-60、三氧化二铁2-10、二氧化硅和聚醋酸乙烯酯;b.混合,将原料细粒与挥发性溶剂放入预拌槽中,经均匀混合后,以泵体抽入湿式研磨槽中;c、研磨,在湿式研磨槽与磨料混合后,研磨至需求粒径后,即制成气体产生剂;该气体产生剂经后续溶剂分离及制锭步骤,而制成药锭。 该原料的重量份数比例为5.5’-偶氮四唑胍盐3-10、5-胺基四唑单水合物25-35、硝酸钾40-60、三氧化二铁2-10、二氧化硅5-10和聚醋酸乙烯酯0.5以下;该原料细粒的粒径保持在200μm。该挥发性溶剂选自乙酸乙酯或乙醇。该研磨步骤中,磨料为超硬陶瓷球。该超硬陶瓷球的球径为0.35~1.5mm之间。该陶瓷球占研磨室容积的75%以下。该进料固料与溶剂的重量比在0.1~0.8之间。 下面结合较佳实施例对本专利技术详细说明。 具体实施方式 本专利技术的包括如下步骤步骤一将5.5’-偶氮四唑胍盐(GZT)、5-胺基四唑单水合物(5AT)、硝酸钾(KNO3)、三氧化二铁(Fe2O3)、二氧化硅(SiO2)和聚醋酸乙烯酯(Polyvinylacate)六种原料,分别烘干,以如下重量份数配比调配5.5’-偶氮四唑胍盐(GZT)3-10、5-胺基四唑单水合物(5AT)25-35、硝酸钾(KNO3)40-60、三氧化二铁(Fe2O3)2-10、二氧化硅(SiO2)5-10和聚醋酸乙烯酯0.5以下;步骤二将六种原料分别以干式研磨方式,将粒径保持约在200μm,如果原料的起始粒径低于200μm以下,则不作研磨;步骤三将六种以比例秤好的原料,放入预扮槽内,加入适当的溶剂(具挥发性),如乙酸乙酯(EAC)或乙醇。其中进料固料与溶剂的重量比在0.1~0.8之间;步骤四原料在预扮槽中混合均匀后,再以泵体将溶剂及六种原料抽入湿式研磨槽中。此外,原料亦可五种一起放,然后再加上另一种,或是原料分开研磨后,再放人研磨槽;步骤五原料在湿式研磨槽中研磨一段时间后,即由槽体流出;步骤六由槽体流出后的浆料,注入溶剂回收设备,此设备是利用加热方式将溶剂蒸发,再用冷凝的方式将溶剂回收重复使用;步骤七干燥后进入制锭过程。 通过本专利技术的适用于,可以构成以下的特点一、湿式研磨槽内,超硬陶瓷球直径很小,其直径在0.35~1.5mm之间,陶瓷球占研磨室容积在75%以下。由于湿式研磨槽中的瓷球数量多,且粒径小,因此湿式研磨槽的研磨效率远高于干式研磨(尤其对于超微细的粉体)。例如将100μm研磨至20μm,仅需要5分钟,因此湿式研磨制程,其效率为传统技术的10倍以上。 二、湿式研磨槽中充满着低温的溶剂,如本专利技术中所使用的乙酸乙酯,由于其沸点低(约为77℃),挥发速度快,因此当瓷球撞击粉体后产生的热量与火花,会立刻被低温的溶剂,如本专利技术中的乙酸乙酯带走,所以不会产生意外反应造成危险。因此湿式研磨机可以研磨五种原料,且具备混合的效果,无须如同传统技术需要将五种原料分开研磨后,再以擂溃机混合,提升了制程速度与方便性。另外,为增加研磨的安全性,亦可在研磨槽外以10℃以下的冰水作为降低陶瓷球高速撞击所产生的升温问题。 承前所述,本专利技术较传统技术的,具有上述的优点与方便及实用的价值,具有新颖性、创造性和实用性。 虽然本专利技术已以较佳实施例揭露如上,但并非用以限定本专利技术的保护范围,任何熟习此项技艺者,在不脱离本专利技术的精神与范围内,所做些许的变动与润饰,及依本专利技术所作的均等变化与修饰,均应属于本专利技术的保护范围之内。本文档来自技高网
...

【技术保护点】
一气体产生剂的制造方法,其特征是:它包括如下步骤:a.选料,按照所需的配比秤取干燥的原料细粒,该原料为5.5’-偶氮四唑胍盐3-10、5-胺基四唑单水合物25-35、硝酸钾40-60、三氧化二铁2-10、二氧化硅和聚醋酸乙烯酯; b.混合,将原料细粒与挥发性溶剂放入预拌槽中,经均匀混合后,以泵体抽入湿式研磨槽中;c、研磨,在湿式研磨槽与磨料混合后,研磨至需求粒径后,即制成气体产生剂;该气体产生剂经后续溶剂分离及制锭步骤,而制成药锭。

【技术特征摘要】
1.一气体产生剂的制造方法,其特征是它包括如下步骤a.选料,按照所需的配比秤取干燥的原料细粒,该原料为5.5’-偶氮四唑胍盐3-10、5-胺基四唑单水合物25-35、硝酸钾40-60、三氧化二铁2-10、二氧化硅和聚醋酸乙烯酯;b.混合,将原料细粒与挥发性溶剂放入预拌槽中,经均匀混合后,以泵体抽入湿式研磨槽中;c、研磨,在湿式研磨槽与磨料混合后,研磨至需求粒径后,即制成气体产生剂;该气体产生剂经后续溶剂分离及制锭步骤,而制成药锭。2.根据权利要求1所述的气体产生剂的制造方法,其特征是该原料的重量份数比例为5.5’-偶氮四唑胍盐3-10、5-胺基四唑单水合物25-35、硝酸钾40-60、三氧化二...

【专利技术属性】
技术研发人员:张文一
申请(专利权)人:张文一
类型:发明
国别省市:71[中国|台湾]

相关技术
    暂无相关专利
网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1
相关领域技术
  • 暂无相关专利