【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及数据存储系统,并且更具体地,本专利技术涉及利用在低电流下振荡的自旋转矩振荡器(STO)的微波辅助磁记录(MAMR)头。
技术介绍
计算机的心脏是硬磁盘驱动器(HDD),其通常包括旋转磁盘、具有读头和写头的滑动块、在转盘上方的悬臂和使悬臂摆动以将读头和/或写头放置在转盘上所选择的数据轨道上的致动器臂。悬臂使滑动块致偏以当盘不旋转时与盘的表面相接触,当盘旋转时,空气通过与滑动块的空气轴承表面(ABS)相邻的转盘打旋,促使滑动块骑跨在离转盘的表面微小距离的空气轴承上。当滑动块骑跨在空气轴承上时,写头和读头被用于将磁印象(magneticimpression)写入到转盘以及从转盘读取磁信号场。读写头连接到处理电路,其根据计算机程序工作以实现写入和读取功能。在信息时代下信息处理的量迅速增加。具体地,期望HDD能够将更多信息存储在它们有限的区域和量中。该期望的技术方法是通过增加HDD的记录密度来增加容量。为了实现更高的记录密度,可以使用微波辅助磁记录(MAMR)。在MAMR中,为了实现期望的辅助影响,有必要通过自旋转矩振荡器(STO)施加大量电流。然而,由于这种大电流,因热量的产生和电迁移公差,可靠性成为问题。为了提高可靠性,以较小的电流使STO振荡的一些方式将是有益的。
技术实现思路
在一个实施例中,磁头包括:主磁极,其被配置成当电流被施加到写线圈时产生写磁场;和自 ...
【技术保护点】
一种磁头,包括:主磁极,所述主磁极被配置成当电流被施加于写线圈时生成写磁场;和定位成与所述主磁极相邻的自旋转矩振荡器(STO),所述STO被配置成当电流被施加于其时生成高频磁场,其中,所述高频磁场与所述写磁场同时产生,其中,所述STO包括:自旋极化层(SPL);定位成与所述SPL相邻的场产生层(FGL);和定位在所述SPL与所述FGL之间的一个或多个中间层,以及其中,所述SPL的易磁化轴定位在面内方向上,使得所述SPL不存在垂直磁各向异性。
【技术特征摘要】
2014.11.26 US 14/555,4841.一种磁头,包括:
主磁极,所述主磁极被配置成当电流被施加于写线圈时生成写磁
场;和
定位成与所述主磁极相邻的自旋转矩振荡器(STO),所述STO
被配置成当电流被施加于其时生成高频磁场,其中,所述高频磁场与
所述写磁场同时产生,
其中,所述STO包括:
自旋极化层(SPL);
定位成与所述SPL相邻的场产生层(FGL);和
定位在所述SPL与所述FGL之间的一个或多个中间层,以及
其中,所述SPL的易磁化轴定位在面内方向上,使得所述SPL不
存在垂直磁各向异性。
2.如权利要求1所述的磁头,进一步包括定位在所述STO的SPL
侧上的尾屏蔽件,所述尾屏蔽件被配置成用作返回电极,其中,所述
STO定位在面对介质的表面处,在所述主磁极和所述尾屏蔽件之间与
所述主磁极相邻。
3.如权利要求1所述的磁头,进一步包括定位在所述STO的FGL
侧上的尾屏蔽件,所述尾屏蔽件被配置成用作返回电极,其中,所述
STO定位在面对介质的表面处,在所述主磁极和所述尾屏蔽件之间与
主磁极相邻。
4.如权利要求1所述的磁头,其中,所述SPL的饱和磁通密度
(Bs_SPL)乘以所述SPL的厚度(t_SPL)小于所述FGL的饱和磁通
密度(Bs_FGL)乘以所述FGL的厚度(t_FGL)。
5.如权利要求1所述的磁头,其中,所述SPL包括Ni、Fe、和
\tCo中的至少一种,并且其中,所述SPL的饱和磁通密度(Bs_SPL)与
所述SPL的厚度(t_SPL)的乘积不大于约10nmT。
6.如权利要求5所述的磁头,其中,所述SPL还包括从由Cu、
Ge、Si、和B构成的组中选择的非磁性材料(X),并且其中,Bs_SPL
*t_SPL≤5nmT。
7.如权利要求6所述的磁头,其中,当所述SPL包括NiX时,所
述非磁性材料构成所述NiX的从约0.1at%至约50at%。
8.如权利要求6所述的磁头,其中,当所述SPL包括CoFeX时,
所述非磁性材料构成所述CoFeX的从约20at%至约80at%。
9.如权利要求1所述的磁头,其中,所述SPL的厚度在从约0.5nm
至约10nm的范围内。
10.如权利要求1所述的磁头,其中,电流在从所述FGL到所述
SPL的方向上流经所述STO。
11.一种磁数据存储系统,包括:
至少一个如权利要求1所述的磁头;
磁记录介质;
驱动机构,所述驱动机构用于使所述磁记录介质经过所述至少一
个磁头;和
控制器,所述控制器电联接到所述至少一个磁头,用于控制所述
至少一个磁头...
【专利技术属性】
技术研发人员:佐藤阳,椎本正人,五十岚万寿和,长坂惠一,冈村进,佐藤雅重,
申请(专利权)人:HGST荷兰有限公司,
类型:发明
国别省市:荷兰;NL
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