光刻刻蚀制造微织构摩擦表面的方法技术

本发明专利技术公开了一种通过光刻刻蚀制造微织构摩擦表面的方法，可以显著改善表面摩擦性能；由预热、涂胶、预烘、掩模、曝光、烘焙、显影、硬烘、刻蚀、去胶等工艺组成。本发明专利技术的方法无需大型设备、工艺简便、图案易控，在减摩润滑材料等领域有重要的应用价值。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及先进制造领域，具体的说是一种光刻刻蚀制造微织构摩擦表面的方法。
技术介绍
摩擦是自然界最常见的自然现象之一，而由摩擦导致的磨损是材料失效的主要表现形式。如何控制材料的摩擦磨损行为一直是科研人员追求的目标。近年来，人们发现在材料表面进行微织构可以有效起到抗磨减摩的作用。如，Etsion曾报道了采用激光表面微织构方法(TribologyLetters,2004,17(17):733-737)加工的表面摩擦性能，研究发现和未织构表面相比，织构后的表面载荷承载能力、耐磨性、减摩性显著改善，其主要原因是在乏油润滑时，微坑能起到油槽储油润滑以及收纳磨屑的功能。中国专利(申请号：2013105020736)公开了一种活塞环激光微织构方法，通过脉冲激光微加工工艺，在活塞环摩擦面进行激光微织构处理，织构后的活塞环摩擦系数、摩擦功耗明显降低，活塞环使用寿命延长。这些表面微织构方法采用的都是激光加工。采用激光微织构方法主要是利用激光的烧蚀功能，缺点是加工后的凹坑底部和周围有材料堆积，需要进行二次处理，否则影响织构的效果，甚至起到加剧磨粒磨损的作用；此外，对于一些复杂规则的图案，采用激光加工本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光刻刻蚀制造微织构摩擦表面的方法，其特征在于，是由预热、涂胶、预烘、掩模、曝光、烘焙、显影、硬烘、刻蚀、去胶十个工艺操作组成，所述的摩擦表面是指铁基材料的摩擦表面，具体操作步骤如下：1)预热：将铁基材料在100～120℃下预热3～6min；2)涂胶：将S1813光刻胶滴在铁基材料表面铺满，然后将材料放在旋涂机中，将其固定在真空卡盘上，在氮气保护气氛中，分别在300rpm旋转10s，900～1100rpm旋转10s，4000rpm旋转60s；3)预烘：将所得材料在110～120℃预烘2～4min；4)掩模：将所需的模板覆盖在摩擦表面上，其中需要织构部分为透光层，其余部分为黑色吸光层；5)曝光...

【技术特征摘要】
1.一种光刻刻蚀制造微织构摩擦表面的方法，其特征在于，是由预热、涂胶、预烘、掩模、曝光、烘焙、显影、硬烘、刻蚀、去胶十个工艺操作组成，所述的摩擦表面是指铁基材料的摩擦表面，具体操作步骤如下：1)预热：将铁基材料在100～120℃下预热3～6min；2)涂胶：将S1813光刻胶滴在铁基材料表面铺满，然后将材料放在旋涂机中，将其固定在真空卡盘上，在氮气保护气氛中，分别在300rpm旋转10s，900～1100rpm旋转10s，4000rpm旋转60s；3)预烘：将所得材料在110～120℃预烘2～4min；4)掩模：将所需的模板覆盖在摩擦表面上，其中需要织构部分为透光层，其余部分为黑色吸光层；5)曝光：将...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐玉福，彭玉斌，泰索·威尔福瑞德，阿布拉汗·拉莎，尤涛，胡献国，
申请(专利权)人：合肥工业大学，
类型：发明
国别省市：安徽;34