本发明专利技术提供了一种振动上料装置和振动上料装置中的姿态校正方法，振动上料装置包括振动上料器，振动上料器上具有运送磁材工件的上料通道，在上料通道通过的一段区域内设置有变化磁场，变化磁场在第一状态和第二状态之间进行变化，第一状态的磁场强度大于第二状态的磁场强度，变化磁场在第一状态时对经过该区域的磁材工件进行姿态校正，变化磁场在第二状态时放行磁材工件。姿态校正方法应用于振动上料装置，使用变化磁场对磁材工件进行姿态校正。本发明专利技术中，磁材工件在振动上料过程中受变化磁场的影响，在第一状态时进行姿态校正，在第二状态时放行磁材工件，从而既能够校正磁材工件的姿态，又不影响磁材工件的正常振动上料过程。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术总体而言涉及振动上料领域，具体而言，涉及一种可以在上料过程中校正磁材工件姿态的振动上料装置。
技术介绍
目前，磁材工件在振动上料时，一般采用重力分选或者吹气分选方式将姿态不正确的工件筛落，导致振动上料中的工件并不连续甚至上料通道上工件密度很低，从而直接降低了上料的效率。另外，磁材工件在振动上料后，其姿态可能不能仍满足后续工序的需要，一般需要人工手动干预，降低了工作效率和准确性，从而降低了整个工艺过程的自动化程度。因此，如何在振动上料的过程中实现“非筛落式”主动校正工件姿态提高上料效率，如何使得磁材工件按照预设要求的姿态进行上料，是业界急需解决的问题。
技术实现思路
本专利技术的一个主要目的在于克服上述现有技术的至少一种缺陷，提供一种可以在上料过程中校正磁材工件姿态的振动上料装置和振动上料装置中的姿态校正方法。为实现上述专利技术目的，本专利技术采用如下技术方案：根据本专利技术的一个方面，提供了一种振动上料装置，用于对磁材工件进行振动上料，所述磁材工件为未充磁状态，包括振动上料器，所述振动上料器上具有运送所述磁材工件的上料通道，在所述上料通道通过的一段或两段以上区域内设置有变化磁场，所述变化磁场在第一状态和第二状态之间进行变化，所述第一状态的磁场强度大于所述第二状态的磁场强度，所述变化磁场在所述第一状态时对经过该区域的所述磁材工件进行姿态校正，所述变化磁场在所述第二状态时放行所述磁材工件。根据本专利技术的一实施方式，所述振动上料装置包括有磁性部件，所述磁性部件通过第一位置和第二位置之间往复运动形成所述变化磁场，所述第一位置靠近所述上料通道，在所述第一位置时所述变化磁场处于所述第一状态，所述第二位置远离所述上料通道，在所述第二位置时所述变化磁场处于所述第二状态。根据本专利技术的一实施方式，所述磁性部件通过一气缸驱动。根据本专利技术的一实施方式，所述振动上料装置包括有磁性部件，所述磁性部件转动设置，所述磁性部件通过转动改变与所述上料通道之间的距离，从而形成所述变化磁场，靠近所述上料通道时所述变化磁场处于所述第一状态，远离所述上料通道时所述变化磁场处于所述第二状态。根据本专利技术的一实施方式，所述磁性部件安装在一转盘上。根据本专利技术的一实施方式，所述转盘上安装有两个以上磁性部件。根据本专利技术的一实施方式，所述磁性部件为永磁部件或电磁部件。根据本专利技术的一实施方式，所述振动上料装置包括有电磁部件，所述电磁部件固定设置，且靠近所述上料通道，所述电磁部件通过变化的电流形成所述变化磁场。根据本专利技术的一实施方式，所述变化磁场的变化形式为三角波、类三角波、正弦波、类正弦波、脉冲和其他交变磁场中的任一种或任意组合。根据本专利技术的一实施方式，所述上料通道包括有旋转通道和直线通道，所述变化磁场所在的区域位于所述旋转通道和所述直线通道中的任一段或任几段。为实现上述专利技术目的，本专利技术还采用如下技术方案：一种振动上料装置中的姿态校正方法，用于对振动上料过程中的未充磁状态的磁材工件进行姿态校正，在所述磁材工件的上料通道通过的一段或两段以上区域内设置有变化磁场，所述变化磁场在第一状态和第二状态之间进行变化，所述第一状态的磁场强度大于所述第二状态的磁场强度，所述变化磁场在所述第一状态时对经过该区域的所述磁材工件进行姿态校正，所述变化磁场在所述第二状态时放行所述磁材工件。根据本专利技术的一实施方式，所述第一状态时的所述磁场强度为0.01-0.1特斯拉，持续时间为0.1-0.5s，所述第二状态时的所述磁场强度小于0.01特斯拉，持续的时间为0.2-1s，一个往复周期时间为0.3-3s。由上述技术方案可知，本专利技术的振动上料装置的优点和积极效果在于：本专利技术中，磁材工件在振动上料过程中的某段区域内受变化磁场的影响，在第一状态时的变化磁场的影响下进行姿态校正，在变化磁场进入第二状态时放行磁材工件，从而既能够校正磁材工件的姿态，又不影响磁材工件的正常振动上料过程，而且不会降低磁材工件通过的密度，同时提高了磁材工件上料后的姿态正确率，从而大大提高工作效率和上料的自动化水平，具有很高的经济性和市场价值。附图说明通过结合附图考虑以下对本专利技术的优选实施例的详细说明，本专利技术的各种目标、特征和优点将变得更加显而易见。附图仅为本专利技术的示范性图解，并非一定是按比例绘制。在附图中，同样的附图标记始终表示相同或类似的部件。其中：图1是第一示例性实施例中示出的本专利技术振动上料装置的结构示意图。图2是第二示例性实施例中示出的本专利技术振动上料装置的结构示意图。图3是第三示例性实施例中示出的本专利技术振动上料装置的结构示意图。图4是第四示例性实施例中示出的本专利技术振动上料装置的结构示意图。图5是第五示例性实施例中示出的本专利技术振动上料装置的结构示意图。图6是第六示例性实施例中示出的本专利技术振动上料装置的结构示意图。其中，附图标记说明如下：100、200、300、400、500、600、振动上料器；10、20、30、40、50、60、上料通道；101、201、301、401、501、601、旋转通道；102、202、302、402、502、602、直线通道；11、21、31、41、永磁部件；51、61、电磁部件；12、22、气缸；121、221、缸座；122、222、活塞；32、42、转盘；13、23、33、43、53、63、支架。具体实施方式现在将参考附图更全面地描述示例实施方式。然而，示例实施方式能够以多种形式实施，且不应被理解为限于在此阐述的实施方式；相反，提供这些实施方式使得本专利技术将全面和完整，并将示例实施方式的构思全面地传达给本领域的技术人员。图中相同的附图标记表示相同或类似的结构，因而将省略它们的详细描述。在对本专利技术的不同示例的下面描述中，参照附图进行，所述附图形成本专利技术的一部分，并且其中以示例方式显示了可实现本专利技术的多个方面的不同示例性结构、系统和步骤。应理解，可以使用部件、结构、示例性装置、系统和步骤的其他特定方案，并且可在不偏离本专利技术范围的情况下进行结构和功能性修改。而且，虽然本说明书中可使用术语“顶部”、“底部”、“前部”、“后部”、“侧部”等来描述本专利技术的不同示例性特征和元件，但是这些术语用于本文中仅出于方便，例如根据附图中所述的示例的方向。本说明书中的任何内容都不应理解为需要结构的特定三维方向才落入本专利技术的范围内。第一实施例图1是第一示例性实施例中示出的本专利技术振动上料装置的结构示意图。如图1所示，该实施例的振动上料装置用于对磁材工件进行振动上料，磁材工件为未充磁状态。该实施例的振动上料装置包括振动上料器100，振动上料器100上具有运送磁材工件的上料通道10。振动上料器100包括振动上料盘和振动上料直轨，振动上料盘形成旋转通道101，振动上料直轨形成直线通道102。本实施例中，上料通道10由旋转通道101和直线通道102组成。该实施例中，在旋转通道101通过的一段区域内设置有变化磁场，变化磁场在一第一状态和一第二状态之间进行变化，第一状态的磁场强度大于第二状态的磁场强度，变化磁场在第一状态时对经过该区域的磁材工件进行姿态校正，变化磁场在第二状态时放行磁材工件。使得磁材工件在不影响上料进程的情况下完成姿态的校正。该种变化过程可以是渐变过程，也可以是突变过程，也可以是切换过程，总之要实现两种不同状态和两种本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种振动上料装置，用于对磁材工件进行振动上料，所述磁材工件为未充磁状态，其特征在于，包括振动上料器，所述振动上料器上具有运送所述磁材工件的上料通道，在所述上料通道通过的一段或两段以上区域内设置有变化磁场，所述变化磁场在第一状态和第二状态之间进行变化，所述第一状态的磁场强度大于所述第二状态的磁场强度，所述变化磁场在所述第一状态时对经过该区域的所述磁材工件进行姿态校正，所述变化磁场在所述第二状态时放行所述磁材工件。
【技术特征摘要】
1.一种振动上料装置，用于对磁材工件进行振动上料，所述磁材工件为未充磁状态，其特征在于，包括振动上料器，所述振动上料器上具有运送所述磁材工件的上料通道，在所述上料通道通过的一段或两段以上区域内设置有变化磁场，所述变化磁场在第一状态和第二状态之间进行变化，所述第一状态的磁场强度大于所述第二状态的磁场强度，所述变化磁场在所述第一状态时对经过该区域的所述磁材工件进行姿态校正，所述变化磁场在所述第二状态时放行所述磁材工件。2.如权利要求1所述的振动上料装置，其特征在于，所述振动上料装置包括有磁性部件，所述磁性部件通过第一位置和第二位置之间往复运动形成所述变化磁场，所述第一位置靠近所述上料通道，在所述第一位置时所述变化磁场处于所述第一状态，所述第二位置远离所述上料通道，在所述第二位置时所述变化磁场处于所述第二状态。3.如权利要求2所述的振动上料装置，其特征在于，所述磁性部件通过一气缸驱动。4.如权利要求1所述的振动上料装置，其特征在于，所述振动上料装置包括有磁性部件，所述磁性部件转动设置，所述磁性部件通过转动改变与所述上料通道之间的距离，从而形成所述变化磁场，靠近所述上料通道时所述变化磁场处于所述第一状态，远离所述上料通道时所述变化磁场处于所述第二状态。5.如权利要求4所述的振动上料装置，其特征在于，所述磁性部件安装在一转盘上。6.如权利要求5所述的振动上料装置，其特征在于，所述转盘上安装有两个以上磁...
【专利技术属性】
技术研发人员：崔凯翔，田景全，吴桐，
申请(专利权)人：北京领邦智能装备股份公司，
类型：发明
国别省市：北京;11
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