一种自清洁玻璃的制作方法技术

本发明专利技术涉及一种自清洁玻璃的在线生产方法，用于建筑、各种橱窗、车辆及日常生活用品等领域。本方法在现有浮法玻璃生产线的过渡滚道区与退火区内增加了制备ＳｉＯ↓［２］或ＳｎＯ↓［２］或ＺｎＯ和ＴｉＯ↓［２］薄摸的雾化及喷雾工序；其中：ＳｉＯ↓［２］或ＳｎＯ↓［２］或ＺｎＯ和ＴｉＯ↓［２］薄摸的原料为有机或无机原料，有机原料为硅脂或硅烷和钛脂，无机原料为ＳｉＣｌ↓［４］或硅酸类或ＳｎＣｌ↓［４］或ＺｎＣｌ↓［２］和偏钛酸或氟钛酸或硫酸氧钛，ＳｉＯ↓［２］或ＳｎＯ↓［２］或ＺｎＯ和ＴｉＯ↓［２］薄摸的厚度为０．０５～１μｍ，玻璃通过此喷雾区域的时间为１－２分钟，温度为６１０℃～３００℃，携带气体为Ａｒ、Ｎ↓［２］、Ｏ↓［２］的混合气体。本方法实现自清洁玻璃的连续生产，具有简便易行，成本低、经济效益佳等优点。

Method for making self-cleaning glass

The invention relates to an on-line production method for self-cleaning glass, which is used in buildings, various display windows, vehicles and articles for daily use, and the like. The transition in the existing float glass production line of the raceway zone and annealing zone increases the preparation of SiO: 2: 2 or SnO or ZnO and TiO down the atomization and spray processes 2 thin; including: SiO: 2: 2 or SnO or ZnO and TiO: 2 thin raw materials for organic or inorganic materials, organic materials for silicone or silane and titanate, inorganic raw materials for SiCl: 4 or a silicate or SnCl down 4 or ZnCl down 2 and metatitanic acid or fluorine titanate or titanyl sulfate, SiO: 2 down 2 or SnO or ZnO and TiO: 2 thin thickness is 0.05 ~ 1 m, the glass passes through the spray area time is 1 to 2 minutes, the temperature is 610 to 300 DEG C to carry The gas is Ar, N: 2, O: 2 mixed gas. The method realizes the continuous production of self-cleaning glass, and has the advantages of simplicity, low cost, good economic benefit, etc..

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及，用于建筑、各种橱窗、车辆及日常生活用品等领域。
技术介绍
玻璃被广泛应用于建筑、橱窗、车辆及其它众多领域。目前，公知的玻璃易结水雾，影响视野的清晰度；易粘油污与灰尘，影响透明度及外在的美观。光催化自清洁玻璃就是在普通玻璃表面上制作一层TiO2系光催化超亲水性薄膜，使玻璃表面具有光催化特性和超亲水特性的一种功能玻璃。TiO2的光催化特性可分解附着在其上的有机污染物和有害气体，并同时具有抗菌、抗紫外线等功能；其超亲水性可使沾附在其上的水滴铺展开来，形成水膜，使沾附在其上的污染物浮起并在风吹、雨淋或自身重力的作用下脱离玻璃表面，从而达到自清洁的目的。通常采用浮法玻璃生产而得到的平板玻璃多为碱性玻璃，即含有钠、钾的玻璃。在高温下，玻璃中的钠、钾易扩散进入光催化超亲水性薄膜中，而使薄膜的性能下降。TiO2系薄膜的成膜方法分干式法和湿式法两种，其中典型的干式法有真空蒸发法、磁控溅射法、化学气相沉积法等；典型的湿式法有溶胶-凝胶法及喷雾热解法。溶胶-凝胶法是将钛醇盐调制为溶胶-凝胶后，对基板(如玻璃)进行浸渍被覆或喷雾或旋转涂布，再经过400℃～600℃的热处理而制成TiO2薄膜；喷雾热解法是将金属醇盐直接喷雾热分解而在基板上形成TiO2薄膜的方法。但上述这些方法都是对离线的玻璃进行后处理，不能在浮法玻璃生产线上实现玻璃的自清洁功能，因而存在如下问题(1)由于是对已生产出的单片玻璃镀膜，生产效率低；(2)增加了生产工序和成本，延长了工期。
技术实现思路
本专利技术的目的在于克服上述方法中的缺点，提出在浮法玻璃生产线上加入使成型玻璃上沉积生成锐钛矿TiO2系薄膜的镀膜工序，利用浮法玻璃生产过程中玻璃成型时自身的温度而实现热分解，实现自清洁玻璃的连续生产。本方法的原理为在浮法玻璃生产中，熔融的玻璃经锡槽而被拉制成平板状的玻璃，经锡槽出来后经过渡滚道到退火区、冷却区，并经切割而成为一片一片的单片状平板玻璃。其中，到达过渡滚道时平板玻璃的温度为610℃左右，再经退火区逐渐降至300℃左右，如附图2所示。此610℃～300℃的温区正好可作为金属醇盐热分解并生成锐钛矿TiO2系薄膜的工作段。因此，本专利技术提出在过渡滚道区域实现金属醇盐的热分解，而在其后的退火区实现薄膜中的TiO2由无定型向锐钛矿型的转变。本专利技术的自清洁玻璃的制作方法，由玻璃熔炉、锡槽、过渡轨道、退火，及在过渡滚道区与退火区增加的制备SiO2或SnO2或ZnO和TiO2薄摸的超声雾化及喷雾工序组成；其中1.SiO2或SnO2或ZnO和TiO2薄摸的原料为有机或无机原料，有机原料为硅脂或硅烷和钛脂，无机原料为SiCl4或硅酸类或SnCl4或ZnCl2和偏钛酸或氟钛酸或硫酸氧钛，SiO2或SnO2或ZnO和TiO2薄摸的厚度为0.05～1μm，；2.超声雾化及喷雾工序中，控制玻璃通过此喷雾区域的时间为1-2分钟，温度为610℃～300℃，携带气体为Ar、N2、O2的混合气体。除上述操作条件外，本专利技术的其余操作条件均与现有的浮法玻璃生产条件相同。本方法具有简便易行，成本低、经济效益佳等优点。附图说明图1为本专利技术产品的结构示意图。图中序号1-玻璃、2-SiO2或SnO2或ZnO隔离层、3-TiO2层。图2为现有的浮法玻璃生产线示意图。具体实施例方式为了防止薄膜的性能下降，本专利技术在TiO2系薄膜与玻璃之间增加一层SiO2或SnO2或ZnO薄膜，也就是在平板玻璃上先沉积一层SiO2或SnO2或ZnO薄膜，之后再在SiO2或SnO2或ZnO薄膜上沉积制作TiO2系薄膜。在玻璃板上沉积的光催化超亲水性薄膜厚度为0.05～1μm。超声雾化及喷雾工序采用常规方法和装置。实施1制作SiO2薄摸及TiO2系光催化薄摸的原料均采用有机材料。在过渡轨道区域沉积SiO2，先将(数量20ml/l)的硅脂或硅烷雾化之后，由携带气体带入过渡轨道区玻璃的上方在温度为550℃实现SiO2的制作。玻璃运动通过此喷雾区域的时间应为1分钟，携带气体为Ar、N2、O2的混合气体。在退火工序的A区沉积TiO2薄膜，先将(数量40ml/l)的钛脂超声雾化，之后由携带气体带入A区的玻璃上方(此时玻璃上已沉积有SiO2薄膜)实现TiO2薄膜的制作。玻璃运动通过此喷雾区域的时间为1分钟，温度为500℃。携带气体为Ar、N2、O2的混合气体。最后在玻璃板上沉积厚度为0.05μm的光催化超亲水性薄膜。实施2制备SiO2薄膜采用有机原料，制备TiO2薄膜采用无机原料。基本同实施1。不同之处为沉积SiO2的时间为1分钟，温度为550℃；在退火工序的B区和C区沉积TiO2薄膜，原料为偏钛酸或氟钛酸或硫酸氧钛(浓度以二氧化钛表示为10g/l)，温度为400℃，玻璃通过雾化区域的时间应为2分钟。最后在玻璃板上沉积厚度为0.5μm的光催化超亲水性薄膜。实施3制备SiO2或SnO2或ZnO和TiO2薄摸均采用相应的无机原料。基本同实施1。不同之处为沉积SiO2或SnO2或ZnO的时间为2分钟，温度为610℃，原料为SiCl4或硅酸类或SnCl4或ZnCl2(数量为20g/l)；在退火工序的B区和C区沉积TiO2薄膜，温度为300℃，玻璃通过雾化区域的时间应为2分钟，携带气体为压缩空气。最后在玻璃板上沉积厚度为1μm的光催化超亲水性薄膜。权利要求1.，包括玻璃熔炉、锡槽、过渡轨道、退火工序，其特征在于本方法还包括在过渡滚道区与退火区增加制备SiO2或SnO2或ZnO和TiO2薄摸的雾化及喷雾工序；其中1.1、SiO2或SnO2或ZnO和TiO2薄摸的原料为有机或无机原料，有机原料为硅脂或硅烷和钛脂，无机原料为SiCl4或硅酸类或SnCl4或ZnCl2和偏钛酸或氟钛酸或硫酸氧钛，SiO2或SnO2或ZnO和TiO2薄摸的厚度为0.05～1μm，；1.2、雾化及喷雾工序中，控制玻璃通过此喷雾区域的时间为1-2分钟，温度为610℃～300℃，携带气体为Ar、N2、O2的混合气体。全文摘要本专利技术涉及一种自清洁玻璃的在线生产方法，用于建筑、各种橱窗、车辆及日常生活用品等领域。本方法在现有浮法玻璃生产线的过渡滚道区与退火区内增加了制备SiO文档编号C03C17/22GK1583637SQ200410022678公开日2005年2月23日 申请日期2004年5月30日 优先权日2004年5月30日专利技术者吴兴惠, 柳清菊, 朱忠其, 张瑾, 周祯来, 李艳峰, 杨肃霖, 雷青 申请人:云南大学本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种自清洁玻璃的制作方法，包括玻璃熔炉、锡槽、过渡轨道、退火工序，其特征在于本方法还包括在过渡滚道区与退火区增加制备ＳｉＯ↓［２］或ＳｎＯ↓［２］或ＺｎＯ和ＴｉＯ↓［２］薄摸的雾化及喷雾工序；其中：１．１、ＳｉＯ↓［２］或ＳｎＯ↓［ ２］或ＺｎＯ和ＴｉＯ↓［２］薄摸的原料为有机或无机原料，有机原料为硅脂或硅烷和钛脂，无机原料为ＳｉＣｌ↓［４］或硅酸类或ＳｎＣｌ↓［４］或ＺｎＣｌ↓［２］和偏钛酸或氟钛酸或硫酸氧钛，ＳｉＯ↓［２］或ＳｎＯ↓［２］或ＺｎＯ和ＴｉＯ↓［２］薄摸的厚度为０．０５～１μｍ；１．２、雾化及喷雾工序中，控制玻璃通过此喷雾区域的时间为１－２分钟，温度为６１０℃～３００℃，携带气体为Ａｒ、Ｎ↓［２］、Ｏ↓［２］的混合气体。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：吴兴惠，柳清菊，朱忠其，张瑾，周祯来，李艳峰，杨肃霖，雷青，
申请(专利权)人：云南大学，
类型：发明
国别省市：53[中国|云南]