【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及抛光液
，尤其涉及一种低污染环保型化学机械抛光液。
技术介绍
半导体加工过程中，最初的半导体基片（衬底片）抛光沿用机械抛光、例如氧化镁、氧化锆抛光等，但是得到的晶片表面损伤是及其严重的。而单纯的化学抛光，抛光速率较快，表面光洁度高，损伤低，完美性好，但表面平整度和平行度差，抛光后表面一致性差；单纯的机械抛光表面一致性好，表面平整度高，但表面光洁度差，损伤层深。
技术实现思路
为解决上述存在的问题，本专利技术提供一种低污染环保型化学机械抛光液。本专利技术解决上述技术问题采用的技术方案为：一种低污染环保型化学机械抛光液，由以下质量份数的原料制成：四硼酸钠11-15份，异丙醇3-6份，氮化硼6-7份，苯甲酸钠5-7份，氧化铈12-18份，氢氧化铝1-4份，硬脂酰胺6-9份，磷酸二铵5-7份，三聚磷酸钠3-4份，液态石蜡9-12份，乙二胺四乙酸6-8份，草酸钠4-6份。上述的低污染环保型化学机械抛光液，由以下质量份数的原料制成：四硼酸钠13份，异丙醇5份，氮化硼6.4份，苯甲酸钠6份，氧化铈15份，氢氧化铝2份，硬脂酰胺8份，磷酸二铵6份，三聚磷酸钠3.5份，液态石蜡11份，乙二胺四乙酸7份，草酸钠5份。本专利技术解决技术问题所带来的有益效果在于：本专利技术可以获得较为完美的表面，又可以得到较高的抛光速率，得到的平整度比其他方法高两个数量级，污染性小，环保性强。具体实施方式下面结合具体实施例对本专利技术做进一步详细说明。实施例1一种低污...
【技术保护点】
一种低污染环保型化学机械抛光液，其特征在于：由以下质量份数的原料制成：四硼酸钠11‑15份，异丙醇3‑6份，氮化硼6‑7份，苯甲酸钠5‑7份，氧化铈12‑18份，氢氧化铝1‑4份，硬脂酰胺6‑9份，磷酸二铵5‑7份，三聚磷酸钠3‑4份，液态石蜡9‑12份，乙二胺四乙酸6‑8份，草酸钠4‑6份。
【技术特征摘要】
1.一种低污染环保型化学机械抛光液，其特征在于：由以下质量份数的原料制成：
四硼酸钠11-15份，异丙醇3-6份，氮化硼6-7份，苯甲酸钠5-7份，氧化铈12-18份，氢氧化铝1-4份，硬脂酰胺6-9份，磷酸二铵5-7份，三聚磷酸钠3-4份，液态石蜡9-12份，乙二胺四乙酸6-8份，草酸钠4-6份...
【专利技术属性】
技术研发人员：李盛明，
申请(专利权)人：青岛宏宇环保空调设备有限公司，
类型：发明
国别省市：山东;37
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