检查装置及被处理物检查方法制造方法及图纸

本发明专利技术提出在检查被处理物的缺陷时能够由一个装置检查各种被处理物的缺陷的检查装置及被处理物检查方法，作为检查装置包括：支撑部，支撑被处理物；去除部，配置在所述支撑部的上侧，利用激光束选择性地去除形成在所述被处理物上部的膜的一部分；检查部，配置在所述支撑部上侧，并且接触于所述被处理物的元件以收发信号；光学部，在所述支撑部上侧向着所述检查部配置，从而可观察所述检查部；及控制部，利用由所述光学部观察到的图像，以控制所述检查部的移动。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及检查装置，更详细地说涉及在检查被处理物的缺陷时能够由一个装置检查各种被处理物缺陷的检查装置及被处理物检查方法。
技术介绍
液晶显示装置(LiquidCrystalDisplay,LCD)或有机发光显示装置(OrganicLightEmittingDisplay,OLED)等的平板显示装置具有相互面对的下部基板与上部基板，在这之间填充液晶层或有机物层等，在下部基板形成多个电极闸线和数据线并且形成矩阵结构，在这之间形成多个像素。为了个别驱动像素，每个像素形成薄膜晶体管等的动作元件(例如，切换元件)。另外，在制造平板显示装置的过程中，若在下部基板的像素、电极闸线、数据线及薄膜晶体管等附着异物质或出现短路或断线等各种缺陷，则该像素无法正常运行。因此，若在平板显示装置的下部基板形成多个像素、电极闸线、薄膜晶体管等，则检查下部基板的缺陷，实施修复确认到的缺陷的一连的过程。在现有技术中，检查基板的缺陷的各种过程不是在一个装置实施的，而是在相互不同的各个装置实施，据此存在降低工艺效率进而降低整体工艺的生产性的问题(现有技术文献)(专利文献)(专利文献0001)KR10-2015-0042759A(专利文献0002)KR10-2004-0104015A
技术实现思路
(要解决的问题)本专利技术提供能够由一个装置以各种方法检查被处理物的缺陷的检查装置及被处理物检查方法。并且，本专利技术提供同时或依次生成被处理物的各种缺陷信息，并对生成的缺陷信息进行分类及保存的检查装置及被处理物检查方法。(解决问题的手段)根据本专利技术实施形态的检查装置包括：支撑部，支撑被处理物；去除部，配置在所述支撑部的上侧，利用激光束选择性地去除形成在所述被处理物上部的膜的一部分；检查部，配置在所述支撑部上侧，并且接触于所述被处理物的元件以收发信号；光学部，在所述支撑部上侧向着所述检查部配置，从而可观察所述检查部；及控制部，利用由所述光学部观察到的图像，以控制所述检查部的移动。检查装置可包括：第一观察部，配置在所述支撑部上侧，并且利用电子束生成所述被处理物的图像信息及成分信息中的至少一种；第二观察部，配置在所述支撑部的上侧，并且以比所述第一观察部低的倍率生成所述被处理物的三维图像信息。检查装置可包括：工作台，上部设置有所述支撑部；及安装部，设置在所述工作台，并且安装并支撑所述去除部、检查部、光学部、第一观察部及第二观察部。所述检查部可具有向所述支撑部向下倾斜配置的多个探头。所述控制部可包括：动作控制部，从由所述光学部观察到的所述探头的图像生成所述探头的端部坐标，并对比所述探头的端部坐标与基准坐标，判断所述探头与所述被处理物是否接触，利用判断结果控制所述探头移动。所述控制部可包括：收集部，接收并分类由所述第一观察部及第二观察部生成的信息与所述检查部的检查结果信息；储存部，接收并保存由所述收集部分类的信息。所述第一观察部可包括：柱，内部形成真空；电子束发射器，形成在所述柱内部，并将电子束放射于所述被处理物；信号检测器，形成在所述柱内部，以获取从所述被处理物放射的电子及X射线中至少一种信号。根据本专利技术实施形态的被处理物检查方法包括：配置已确认检查区域的被处理物的过程；将激光照射于所述被处理物，使所述检查区域的动作元件或连接于所述检查区域的动作元件的至少一部分露出的过程；使所述探头接触于所述露出位置的过程；及通过所述探头检查所述动作元件的动作的过程。接触所述探头的过程可包括：向所述露出位置移动探头的过程；由光学部观察所述探头的动作的过程；从由所述光学部观察到的所述探头的图像生成所述探头端部坐标的过程；对比所述端部坐标与基准坐标判断是否接触所述探头的过程；及利用所述是否接触的判断结果控制所述探头移动的过程。检查所述动作元件的动作的过程可包括：由所述探头与所述动作元件直接收发信号，并且检测所述动作元件是否进行动作的过程。在配置所述被处理物的过程之前，可包括观察所述被处理物来确认存在缺陷的检查区域的过程。在配置所述被处理物的过程之后，可包括：向所述检查区域放射电子束的过程；收集由所述电子束在所述检查区域中放射的信号的过程；及利用所述信号生成缺陷信息的过程，其中所述缺陷信息包括所述检查区域中的所述被处理物的图像信息及成分信息中的至少一种。在配置所述被处理物的过程之后，可包括作为缺陷信息生成所述检查区域中的所述被处理物的三维图像信息的过程。接收所述检查区域中的缺陷信息及所述动作元件的检查结果中的至少一个来进行分类并保存的过程。被处理物检查方法可包括：利用已保存的缺陷信息修复缺陷的过程及利用已保存的缺陷信息追踪并改善生成缺陷的工艺的过程中的至少一种的过程。(专利技术的效果)根据本专利技术的实施形态，能够由一个装置以各种方式检查被处理物的缺陷，并且同时或依次生成被处理物的各种缺陷信息，并且能够对生成的缺陷信息进行分类及保存，因此能够提高工艺的效率及生产性。另外，已保存的缺陷信息可被利用于修复缺陷的过程，并且可被利用于追踪缺陷原因工艺进行改善的过程。例如，在适用于制造各种显示装置的工艺的情况下，能够由一个装置同时或连续检查基板的缺陷区域的图像信息、成分信息、三维图像信息及缺陷区域的元件或连接于缺陷区域的元件动作与否。这时，元件动作与否是与元件直接收发信号并且能够更加准确地进行检查。现有的检查装置的情况，并没有能够在线工艺中检查需要检查的每个元件的电气性传输特性(Id-Vggraph)，而是只能检查元件外廓的晶体管特性检查图案来间接确认元件的特性或只能确认元件是否开启(Open)或短路(Short)等的程度。相反，利用根据本专利技术实施形态的检查装置，则能够准确地确认各个元件的晶体管特性，因此不仅能够确认是否开启(Open)或短路(Short)等，还能够检查VthShift或IoffShift等的电气性元件特性的细微的变化。因此，能够提高检查效率，并且对生成的缺陷信息进行分类并保存，进而能够数据库化。另外，利用缺陷信息能够有效实施缺陷的修复，并且能够追踪并改善缺陷原因工艺。由此，相比于现有技术能够显著提高整体工艺的效率与生产性。附图说明图1及图2是用于说明根据本专利技术实施例的检查装置的图面。图3至图5是用于说明根据本专利技术实施例的被处理物检查方法的图面。(附图标记说明)100：工作台200：支撑部300：安装部400：去除部500：检查部600：光学部700：第一观察部800：第二观察部900：控制部具体实施方法以下，参照附图详细说明本专利技术的优选实施例。但是，本专利技术并不被在以下公开的实施例限定，而是可实现相互不同的各种形态。本专利技术的实施例只是使本专利技术的公开更加完整，并且是为了对在本专利技术所属领域具有通常知识的技术人员告知本专利技术的范围而提供的。为了说明本专利技术的实施例，图面可被扩大或夸张示出，并且在图面中的相同符号称为相同要素。图1是示出根据本专利技术实施例的检查装置的概略图，图2是示出根据本专利技术实施例的检查装置的检查部的部分扩大图。另外，图3是示出适用本专利技术实施例的被处理物的概略图，图4是示出适用本专利技术实施例的被处理物的动作的检查过程的模式图，图5是示出根据本专利技术实施例的被处理物检查方法的流程图。首先，为了说明本专利技术的实施例，如下定义第一轴、第二轴及第三轴：第一轴可以是在与支撑试料的面平行本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种检查装置，其特征在于，包括：支撑部，支撑被处理物；去除部，配置在所述支撑部的上侧，利用激光束选择性地去除形成在所述被处理物上部的膜的一部分；检查部，配置在所述支撑部上侧，并且接触于所述被处理物的元件以收发信号；光学部，在所述支撑部上侧向着所述检查部配置，从而可观察所述检查部；及控制部，利用由所述光学部观察到的图像，以控制所述检查部的移动。

【技术特征摘要】
2015.07.02 KR 10-2015-00946471.一种检查装置，其特征在于，包括：支撑部，支撑被处理物；去除部，配置在所述支撑部的上侧，利用激光束选择性地去除形成在所述被处理物上部的膜的一部分；检查部，配置在所述支撑部上侧，并且接触于所述被处理物的元件以收发信号；光学部，在所述支撑部上侧向着所述检查部配置，从而可观察所述检查部；及控制部，利用由所述光学部观察到的图像，以控制所述检查部的移动。2.根据权利要求1所述的检查装置，其特征在于，包括：第一观察部，配置在所述支撑部上侧，并且利用电子束生成所述被处理物的图像信息及成分信息中的至少一种；第二观察部，配置在所述支撑部的上侧，并且以比所述第一观察部低的倍率生成所述被处理物的三维图像信息。3.根据权利要求2所述的检查装置，其特征在于，包括：工作台，上部设置有所述支撑部；及安装部，设置在所述工作台，并且安装并支撑所述去除部、检查部、光学部、第一观察部及第二观察部。4.根据权利要求1至3中的任意一项所述的检查装置，其特征在于，所述检查部具有向所述支撑部向下倾斜配置的多个探头。5.根据权利要求4所述的检查装置，其特征在于，所述控制部包括：动作控制部，从由所述光学部观察到的所述探头的图像生成所述探头的端部坐标，并对比所述探头的端部坐标与基准坐标，判断所述探头与所述被处理物是否接触，利用判断结果控制所述探头移动。6.根据权利要求2或3所述的检查装置，其特征在于，所述控制部包括：收集部，接收并分类由所述第一观察部及第二观察部生成的信息与所述检查部的检查结果信息；储存部，接收并保存由所述收集部分类的信息。7.根据权利要求2或3所述的检查装置，其特征在于，所述第一观察部包括：柱，内部形成真空；电子束发射器，形成在所述柱内部，并将电子束放射于所述被处理物；信号检测器，形成在所述柱内部，以获取从所述被处理物放射的电子及X射线中至少一种信号...

【专利技术属性】
技术研发人员：芮世熙，
申请(专利权)人：灿美工程股份有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR