喷嘴型沉积装置制造方法及图纸

技术编号:36736110 阅读:38 留言:0更新日期:2023-03-04 10:07
本发明专利技术涉及喷嘴型沉积装置,更详细地,涉及将用于沉积图案的原料按所需提供到图案沉积,并进行沉积可最小化原料的使用量,并且根据仅在需形成图案的部位供给原料,从而可进行精确的图案沉积,并且防止原料的扩散,可从根源上防止原料沉积到其他部位,利用加热气体可防止供给原料的排管及喷嘴的堵塞,并且根据以喷嘴方式供给原料,从而可简易并有效地构成沉积装置的喷嘴型沉积装置。积装置的喷嘴型沉积装置。积装置的喷嘴型沉积装置。

【技术实现步骤摘要】
喷嘴型沉积装置


[0001]本专利技术涉及为了在基板形成图案,吐出用于形成图案的原料并且照射激光进行沉积的沉积装置。更详细地,在基板形成用于各种电路配线的图案,但是,以往这些电路图案是在如化学气相沉积装置(Chemical Vapor Deposition;CVD)的大规模设备中形成,但本专利技术涉及在普通的大气环境下,在基板形成微细的电路图案的沉积装置。

技术介绍

[0002]薄膜图案形成在用于驱动含有半导体晶片并包括LCD、OLED的平板显示器的基板上,并且薄膜图案通常使用诸如CVD的大规模设备进行沉积。尤其,通常是通过利用掩膜的曝光、蚀刻、沉积固定来制造纳米级或微米级单位的微细的图案。
[0003]在包括LCD、OLED的平板显示器中,一般都是在基板沉积用于表示图像发光的构成和用于像素的开/关的配线电路,但是,形成电路图案的基板由于各种原因会出现如微细的电路的断线/短路等缺陷,并且用于修复这些缺陷的修复过程是必不可少的。对于修复工艺,需要切割或连接形成在基板上的图案。在连接图案的过程中,需要沉积微细的图案,但是,以往将形成图案的金本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种喷嘴型沉积装置,用于在基板沉积图案的沉积装置中,所述喷嘴型沉积装置包括:激光模块,照射激光用于在所述基板形成图案;第一喷嘴,吐出需沉积的原料用于在所述基板沉积图案;第二喷嘴,形成在所述第一喷嘴的外框部,喷射以预定的温度加热的气体;喷嘴外壳,在内部收纳所述第一喷嘴及第二喷嘴;以及加热部,收纳在所述喷嘴外壳内部用于加热所述第一喷嘴及第二喷嘴。2.根据权利要求1所述的喷嘴型沉积装置,其中,所述第一喷嘴插入并安装在第二喷嘴的内部,从所述第二喷嘴喷出的气体沿着第一喷嘴的外框部被喷射。3.根据权利要求2所述的喷嘴型沉积装置,其中,所述第一喷嘴从第二喷嘴的末端按预定的长度被突出地设置,所述第二喷嘴从所述喷嘴外壳的末端按预定的长度被突出地设置。4.根据权利要求2所述的喷嘴型沉积装置,其中,通过所述第二喷嘴喷出的气体沿第一喷嘴的外框部被喷射,喷射至比沉积到所述基板的图案更广的预定的一定区域。5.根据权利要求1所述的喷嘴型沉积装置,其中,从所述第一喷嘴喷射的原料是包含钨、钴的金属粉末,从所述第二喷嘴喷射的气...

【专利技术属性】
技术研发人员:郑流淙都映元张宰荣薛捧浩
申请(专利权)人:灿美工程股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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