喷嘴型沉积装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及喷嘴型沉积装置，更详细地，涉及将用于沉积图案的原料按所需提供到图案沉积，并进行沉积可最小化原料的使用量，并且根据仅在需形成图案的部位供给原料，从而可进行精确的图案沉积，并且防止原料的扩散，可从根源上防止原料沉积到其他部位，利用加热气体可防止供给原料的排管及喷嘴的堵塞，并且根据以喷嘴方式供给原料，从而可简易并有效地构成沉积装置的喷嘴型沉积装置。积装置的喷嘴型沉积装置。积装置的喷嘴型沉积装置。

【技术实现步骤摘要】
喷嘴型沉积装置


[0001]本专利技术涉及为了在基板形成图案，吐出用于形成图案的原料并且照射激光进行沉积的沉积装置。更详细地，在基板形成用于各种电路配线的图案，但是，以往这些电路图案是在如化学气相沉积装置(Chemical Vapor Deposition；CVD)的大规模设备中形成，但本专利技术涉及在普通的大气环境下，在基板形成微细的电路图案的沉积装置。

技术介绍

[0002]薄膜图案形成在用于驱动含有半导体晶片并包括LCD、OLED的平板显示器的基板上，并且薄膜图案通常使用诸如CVD的大规模设备进行沉积。尤其，通常是通过利用掩膜的曝光、蚀刻、沉积固定来制造纳米级或微米级单位的微细的图案。
[0003]在包括LCD、OLED的平板显示器中，一般都是在基板沉积用于表示图像发光的构成和用于像素的开/关的配线电路，但是，形成电路图案的基板由于各种原因会出现如微细的电路的断线/短路等缺陷，并且用于修复这些缺陷的修复过程是必不可少的。对于修复工艺，需要切割或连接形成在基板上的图案。在连接图案的过程中，需要沉积微细的图案，但是，以往将形成图案的金属原料供应到包括具有缺陷的一定区域，并需沉积图案的部位照射激光从而进行沉积。
[0004]韩国授权专利第10
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0739443号公开了一种以往的薄膜图案沉积装置，其公开了在薄膜沉积用腔内供应金属原料气体以形成局部金属原料气氛，并在需形成图案的位置照射激光进行沉积的装置。这种薄膜图案沉积装置不是在大规模的腔内形成，而是在大气中的某些区域形成金属原料气氛，从而具有有效地进行局部薄膜沉积的优点，但是将一定的区域内必须形成为金属原料气氛，因此，金属原料的使用量过多且为了形成金属原料气氛，需要额外的组件，如气幕，并且随着在一定区域内形成金属原料气氛，在不必要的部分沉积金属原料，从而存在薄膜图案形成过程中引起另一个缺陷的问题，并且在有效沉积微细的图案当中存在限制，还存在可能损坏如柔性基板的易受热的基板的问题。

技术实现思路

[0005](技术问题)
[0006]为了解决上述的问题，本专利技术提供一种喷嘴型沉积装置，其将用于沉积图案的原料按所需提供到图案沉积，并进行沉积可最小化原料的使用量，并且根据仅在需形成图案的部位供给原料，从而可进行精确的图案沉积，并且防止原料的扩散，可从根源上防止原料沉积到其他部位，利用加热气体可防止供给原料的排管及喷嘴的堵塞，并且根据以喷嘴方式供给原料，从而可简易并有效地构成沉积装置。
[0007](技术方案)
[0008]为了达到上述的目的，本专利技术的喷嘴型沉积装置，用于在基板沉积图案的沉积装置中，所述喷嘴型沉积装置包括：激光模块，照射激光用于在所述基板形成图案；第一喷嘴，吐出需沉积的原料用于在所述基板沉积图案；第二喷嘴，形成在所述第一喷嘴的外框部，喷
射以预定的温度加热的气体；喷嘴外壳，在内部收纳所述第一喷嘴及第二喷嘴；以及加热部，收纳在所述喷嘴外壳内部用于加热所述第一喷嘴及第二喷嘴。
[0009]另外，所述第一喷嘴插入并安装在第二喷嘴的内部，从所述第二喷嘴喷出的气体沿着第一喷嘴的外框部被喷射。
[0010]另外，所述第一喷嘴从第二喷嘴的末端按预定的长度被突出地设置，所述第二喷嘴从所述喷嘴外壳的末端按预定的长度被突出地设置。
[0011]另外，通过所述第二喷嘴喷出的气体沿第一喷嘴的外框部被喷射，喷射至比沉积到所述基板的图案更广的预定的一定区域。
[0012]另外，从所述第一喷嘴喷射的原料是包含钨、钴的金属粉末，从所述第二喷嘴喷射的气体是包含氩的惰性气体。
[0013]另外，所述喷嘴外壳是由金属材料形成的块状，所述喷嘴型沉积装置还包括：收纳孔，用于收纳所述第一喷嘴、第二喷嘴及加热部的两个以上。
[0014]另外，在所述喷嘴外壳的外框部的部分或者全部配置热屏蔽部件，用于防止从喷嘴外壳产生的热传递到外部。
[0015]另外，所述喷嘴型沉积装置，还包括：吸入部，吸入从所述第一喷嘴及第二喷嘴吐出/喷出的原料及气体中，用于沉积图案后的剩余的原料及气体。
[0016]另外，所述吸入部以形成在基板的图案为中心，在与所述第一喷嘴及第二喷嘴相对的位置以曲线形态配置。
[0017]另外，所述第一喷嘴及第二喷嘴倾斜地安装在基板，在所述吸入部形成两个以上的吸入流路，所述吸入流路用于吸入从所述第一喷嘴及第二喷嘴吐出/喷出的原料及气体中，用于沉积图案后的剩余的原料及气体，并且所述吸入流路被配置成具有所述第一喷嘴及第二喷嘴的对称的倾斜度。
[0018](专利技术效果)
[0019]如上所述构成的本专利技术根据以喷嘴形态供给沉积所需的原料，可最小化原料的使用量，并且具有可极小化浪费原料的效果。
[0020]另外，根据通过喷嘴喷嘴向图案沉积中所需的部位供给原料，可精确、准确地形成微细的图案。
[0021]另外，将加热气体不仅供给到供给原料的喷嘴的外框部，而且供给到形成沉积的一定区域，从而可从根源上防止喷嘴堵塞及在不必要的部位沉积原料。
[0022]另外，通过喷嘴形态的沉积装置可小型的制造沉积装置的构成，从而沉积装置的运营及安装方便，并且可有效地执行维护。
附图说明
[0023]图1是示出根据本专利技术的一实施例的喷嘴型沉积装置的立体图。
[0024]图2是示出根据本专利技术的一实施例的喷嘴型沉积装饰中的第一喷嘴和第二喷嘴的放大立体图。
[0025]图3是示出通过本专利技术的喷嘴型沉积装置形成图案的示图。
[0026]图4是示出根据本专利技术的一实施例的喷嘴型沉积装置的吸入部的立体图。
[0027]图5是示出根据本专利技术的一实施例的包括喷嘴型沉积装置的吸入部，形成图案沉
积的示图。
[0028](附图标记说明)
[0029]100：激光模块
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200：第一喷嘴
[0030]300：第二喷嘴
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400：喷嘴外壳
[0031]500：加热部
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600：吸入部
具体实施方式
[0032]以下，参照附图对本专利技术的喷嘴型沉积装置进行详细地说明。
[0033]图1是示出根据本专利技术的一实施例的喷嘴型沉积装置的立体图，图2是示出根据本专利技术的一实施例的喷嘴型沉积装饰中的第一喷嘴和第二喷嘴的放大立体图，图3是示出通过本专利技术的喷嘴型沉积装置形成图案的示图，图4是示出根据本专利技术的一实施例的喷嘴型沉积装置的吸入部的立体图，图5是示出根据本专利技术的一实施例的包括喷嘴型沉积装置的吸入部，形成图案沉积的示图。
[0034]沉积图案，尤其是沉积微细的图案的工艺在如CVD的大规模设备形成，并且以往具有在大气中沉积薄膜的薄膜沉积腔装置，但是相比于现有的CVD设备虽然构成简单，但是需要形成局部的金属原料气氛，并且除了用于图案沉积的少量的金属原料之外，剩余本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种喷嘴型沉积装置，用于在基板沉积图案的沉积装置中，所述喷嘴型沉积装置包括：激光模块，照射激光用于在所述基板形成图案；第一喷嘴，吐出需沉积的原料用于在所述基板沉积图案；第二喷嘴，形成在所述第一喷嘴的外框部，喷射以预定的温度加热的气体；喷嘴外壳，在内部收纳所述第一喷嘴及第二喷嘴；以及加热部，收纳在所述喷嘴外壳内部用于加热所述第一喷嘴及第二喷嘴。2.根据权利要求1所述的喷嘴型沉积装置，其中，所述第一喷嘴插入并安装在第二喷嘴的内部，从所述第二喷嘴喷出的气体沿着第一喷嘴的外框部被喷射。3.根据权利要求2所述的喷嘴型沉积装置，其中，所述第一喷嘴从第二喷嘴的末端按预定的长度被突出地设置，所述第二喷嘴从所述喷嘴外壳的末端按预定的长度被突出地设置。4.根据权利要求2所述的喷嘴型沉积装置，其中，通过所述第二喷嘴喷出的气体沿第一喷嘴的外框部被喷射，喷射至比沉积到所述基板的图案更广的预定的一定区域。5.根据权利要求1所述的喷嘴型沉积装置，其中，从所述第一喷嘴喷射的原料是包含钨、钴的金属粉末，从所述第二喷嘴喷射的气...

【专利技术属性】
技术研发人员：郑流淙，都映元，张宰荣，薛捧浩，
申请(专利权)人：灿美工程股份有限公司，
类型：发明
国别省市：