镁铝件表面高抗氧化纳米涂层工艺制造技术

本发明专利技术公开了一种镁铝件表面高抗氧化纳米涂层工艺，包括以下步骤：原材料外观品质检验；镀膜设备抽真空处理；离子改质处理：设定真空压力值，同时加入第一工作气体，在产品表面进行真空离子轰击处理，得到产品A；高分子纳米膜层堆叠：加入第二工作气体，电子枪通过高电压电流，利用产生的电子束的高能量激活预设工位高分子纳米光学级材料A，使高分子纳米光学级材料A气化，堆叠在产品A表面上，得到产品B；使用不同的高分子纳米光学级材料，重复上述步骤多次，得到产品C；将产品冷却后，破真空取出，检验合格后包装成品。以有效防止镁铝件产品高亮表面氧化发黑，整个涂层工艺环保无污染，可以还原金属本色或多彩色的特性，提升金属外观质感。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于真空薄膜加工领域，具体地涉及一种镁铝件表面高抗氧化纳米涂层工艺。
技术介绍
铝镁件产品在自然条件下容易氧化发黑。当前抗氧化技术主要是使用一些传统的方式将镁铝件压铸成型后，在表面通过化学钝化处理，再进行表面喷漆保护，以达到铝镁件抗氧化效果。但是，进行喷漆保护后在外观上无法直观体现镁铝高亮金属质感，表面只呈现喷漆效果，外观质感差，同时喷漆也带来了不环保等问题。
技术实现思路
针对上述存在的技术问题，本专利技术目的是：提供一种镁铝件表面高抗氧化纳米涂层工艺，特别适用于镁铝合金压铸成型后，对高亮面进行高抗氧化纳米涂层保护处理，可以有效防止镁铝件产品高亮表面氧化发黑，整个涂层工艺环保无污染，可以还原金属本色或多彩色的特性，提升金属外观质感。本专利技术的技术方案是：一种镁铝件表面高抗氧化纳米涂层工艺，其特征在于，包括以下步骤：S01：原材料外观品质检验：对镁铝件高光面及加工表面的划痕和洁净度进行品质检查；S02：镀膜设备抽真空处理：将符合品质要求的原材料定位在专用治具上，送入镀膜设备内进行抽真空；S03：离子改质处理：设定真空压力值，同时加入第一工作气体，在产品表面进行真空离子轰击处理，得到产品A；S04：高分子纳米膜层堆叠：加入第二工作气体，电子枪通过高电压电流，利用产生的电子束的高能量激活预设工位高分子纳米光学级材料A，使高分子纳米光学级材料A气化，堆叠在产品A表面上，得到产品B；S05：使用不同的高分子纳米光学级材料，重复步骤S04多次，得到产品C；S06：将产品C冷却后，破真空取出，检验合格后包装成品。优选的，所述第一工作气体为高纯氩气。优选的，所述第二工作气体为高纯氧气或者高纯氮气。优选的，所述步骤S03中真空离子轰击处理的轰击能量为600-800ev，轰击时间为4-6min。优选的，高分子纳米光学级材料为任意一种下列材料的高分子纳米光学级：TiO2、SiO2、AL2O3、ZrO2、SrO。与现有技术相比，本专利技术的优点是：1、本专利技术是基于光学材料本身高致密性的特点，在特定真空室内，通过光学成膜技术对光学材料进行离化，并形成高致密性涂层，与高光镁铝合金表面完美结合，从而保护高光镁铝合金表面不受外界环境影响，取得保护镁铝合金的作用。2、与现有传统镁铝合金表面喷漆工艺相比，本专利技术制备涂层整个过程中环保无污染，可以完美的还原镁铝高亮金属质感的特性，提升金属外观质感。3、本专利技术可通过各项信赖性测试要求，包括盐雾测试72H以上，酸性、碱性人工汗液浸泡48H以上，水煮30分钟以上及高低温等测试要求。4、本专利技术可以广泛应用于高光镁铝合金表面处理，如笔记本电脑、平板电脑、手机等电子产品上。附图说明下面结合附图及实施例对本专利技术作进一步描述：图1为本专利技术镁铝件表面高抗氧化纳米涂层工艺的流程图。具体实施方式为使本专利技术的目的、技术方案和优点更加清楚明了，下面结合具体实施方式并参照附图，对本专利技术进一步详细说明。应该理解，这些描述只是示例性的，而并非要限制本专利技术的范围。此外，在以下说明中，省略了对公知结构和技术的描述，以避免不必要地混淆本专利技术的概念。实施例1：本实施例以镁铝合金笔记本电脑外壳，主要成分为88-90%镁+11-9%铝，在其高亮面进行高抗氧化纳米涂层保护处理。如图1所示，包括以下步骤：S01：原材料外观品质检验：对镁铝合金笔记本电脑外壳高光面及加工表面的划痕和洁净度进行品质检查；S02：镀膜设备抽真空处理：将符合品质要求的镁铝合金笔记本电脑外壳定位在专用治具上，送入镀膜设备内进行抽真空；S03：离子改质处理：设定真空压力值，同时加入高纯氩气，在产品表面进行真空离子轰击处理，轰击能量为800ev，轰击时间为4min，得到产品A；以达到产品表面清洁及表面改质作用，提升后道纳米镀膜膜层堆叠工序最佳效果。S04：高分子纳米膜层堆叠1：加入高纯氧气，电子枪通过高电压电流，利用产生的电子束的高能量激活预设工位高分子纳米光学级材料SiO2，使高分子纳米光学级材料SiO2气化，并不断蒸发堆叠在产品A表面上，得到产品B；S05：高分子纳米膜层堆叠2：加入高纯氧气，电子枪通过高电压电流，利用产生的电子束的高能量激活预设工位高分子纳米光学级材料ZrO2，使高分子纳米光学级材料ZrO2气化，并不断蒸发堆叠在产品B表面上，得到产品C；S06：高分子纳米膜层堆叠3：加入高纯氧气，电子枪通过高电压电流，利用产生的电子束的高能量激活预设工位高分子纳米光学级材料SiO2，使高分子纳米光学级材料SiO2气化，并不断蒸发堆叠在产品C表面上，得到产品D；S07：将产品D冷却后，破真空取出，检验合格后包装成品。实施例2：本实施例以镁铝合金平板电脑外壳，主要成分为85-88%镁+14-11%铝，在其高亮面进行高抗氧化纳米涂层保护处理。如图1所示，包括以下步骤：S01：原材料外观品质检验：对镁铝合金平板电脑外壳高光面及加工表面的划痕和洁净度进行品质检查；S02：镀膜设备抽真空处理：将符合品质要求的原材料定位在专用治具上，送入镀膜设备内进行抽真空；S03：离子改质处理：设定真空压力值，同时加入高纯氩气，在产品表面进行真空离子轰击处理，轰击能量为700ev，轰击时间为5min，得到产品A；以达到产品表面清洁及表面改质作用，提升后道纳米镀膜膜层堆叠工序最佳效果。S04：高分子纳米膜层堆叠1：加入高纯氮气，电子枪通过高电压电流，利用产生的电子束的高能量激活预设工位高分子纳米光学级材料AL2O3，使高分子纳米光学级材料AL2O3气化，并不断蒸发堆叠在产品A表面上，得到产品B；S05：高分子纳米膜层堆叠2：加入高纯氧气，电子枪通过高电压电流，利用产生的电子束的高能量激活预设工位高分子纳米光学级材料SiO2，使高分子纳米光学级材料SiO2气化，并不断蒸发堆叠在产品B表面上，得到产品C；S06：将产品C冷却后，破真空取出，检验合格后包装成品。实施例3：本实施例以镁铝合金手机外壳，主要成分为90-95%镁+9-4%铝，在其高亮面进行高抗氧化纳米涂层保护处理。如图1所示，包括以下步骤：S01：原材料外观品质检验：对镁铝合金手机外壳高光面及加工表面的划痕和洁净度进行品质检查；S02：镀膜设备抽真空处理：将符合品质要求的镁铝合金手机外壳定位在专用治具上，送入镀膜设备内进行抽真空；S03：离子改质处理：设定真空压力值，同时加入高纯氩气，在产品表面进行真空离子轰击处理，轰击能量为600ev，轰击时间为6min，得到产品A；以达到产品表面清洁及表面改质作用，提升后道纳米镀膜膜层堆叠工序最佳效果。S04：高分子纳米膜层堆叠1：加入高纯氮气，电子枪通过高电压电流，利用产生的电子束的高能量激活预设工位高分子纳米光学级材料SrO，使高分子纳米光学级材料SrO气化，并不断蒸发堆叠在产品A表面上，得到产品B；S05：高分子纳米膜层堆叠2：加入高纯氧气，电子枪通过高电压电流，利用产生的电子束的高能量激活预设工位高分子纳米光学级材料TiO2，使高分子纳米光学级材料TiO2气化，并不断蒸发堆叠在产品B表面上，得到产品C；S06：高分子纳米膜层堆叠3：加入高纯氧气，电子枪通过高电压电流，利用产生的电子束的高能量激活预设工位高分子纳米光学级材料SiO2，使高分子纳米光学级材料SiO2气化，并不断蒸发堆叠本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种镁铝件表面高抗氧化纳米涂层工艺，其特征在于，包括以下步骤：S01：原材料外观品质检验：对镁铝件高光面及加工表面的划痕和洁净度进行品质检查；S02：镀膜设备抽真空处理：将符合品质要求的原材料定位在专用治具上，送入镀膜设备内进行抽真空；S03：离子改质处理：设定真空压力值，同时加入第一工作气体，在产品表面进行真空离子轰击处理，得到产品A；S04：高分子纳米膜层堆叠：加入第二工作气体，电子枪通过高电压电流，利用产生的电子束的高能量激活预设工位高分子纳米光学级材料A，使高分子纳米光学级材料A气化，堆叠在产品A表面上，得到产品B；S05：使用不同的高分子纳米光学级材料，重复步骤S04多次，得到产品C；S06：将产品C冷却后，破真空取出，检验合格后包装成品。

【技术特征摘要】
1.一种镁铝件表面高抗氧化纳米涂层工艺，其特征在于，包括以下步骤：S01：原材料外观品质检验：对镁铝件高光面及加工表面的划痕和洁净度进行品质检查；S02：镀膜设备抽真空处理：将符合品质要求的原材料定位在专用治具上，送入镀膜设备内进行抽真空；S03：离子改质处理：设定真空压力值，同时加入第一工作气体，在产品表面进行真空离子轰击处理，得到产品A；S04：高分子纳米膜层堆叠：加入第二工作气体，电子枪通过高电压电流，利用产生的电子束的高能量激活预设工位高分子纳米光学级材料A，使高分子纳米光学级材料A气化，堆叠在产品A表面上，得到产品B；S05：使用不同的高分子纳米光学级材料，重复步骤S04多次，得到...

【专利技术属性】
技术研发人员：林燕华，
申请(专利权)人：林燕华，
类型：发明
国别省市：江苏;32