防污硬质膜制造技术

技术编号:14314672 阅读:93 留言:0更新日期:2016-12-30 17:16
本实用新型专利技术涉及光学薄膜技术领域,尤其是一种防污硬质膜,其特征在于:所述防污硬质膜至少包括类金刚石薄膜层和防污膜层,所述类金刚石薄膜层附着在所述工件的表面上,所述防污膜层附着在所述类金刚石薄膜的表面。本实用新型专利技术的优点是:兼具超硬和防污功能,能够对覆膜产品起到非常好的保护效果;膜层与膜层之间结合力好,不易脱落,加工方便。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及光学薄膜
,尤其是一种防污硬质膜
技术介绍
目前,类金刚石薄膜作为一种硬质保护膜已经被用于多个领域,比如可以作为轴承、齿轮等机械零件的抗磨损镀层,可以作为光学器件的抗磨损保护层,等等。以上应用中, 类金刚石薄膜均位于相应部件的最外层,以起到对内部结构的保护作用。在类金刚石薄膜被应用在一些场合时,比如手机外壳,人们还需要类金刚石膜层在硬膜的基础上还兼具较好的防污、防指纹的功能。
技术实现思路
本技术的目的是根据上述现有技术的不足,提供了防污硬质膜,通过类金刚石薄膜层与防污膜层的叠加组合,使其兼具超硬和防污功能。本技术目的实现由以下技术方案完成:一种防污硬质膜,设置在工件的表面,其特征在于:所述防污硬质膜至少包括类金刚石薄膜层和防污膜层,所述类金刚石薄膜层附着在所述工件的表面上,所述防污膜层附着在所述类金刚石薄膜的表面。所述类金刚石薄膜层和所述防污膜层之间设置有打底层。所述打底层为二氧化硅打底层或二氟化镁打底层。所述打底层的厚度为5-20nm。所述防污膜层为硅烷偶联剂层。所述防污膜层的厚度为5-10nm。本技术的优点是:兼具超硬和防污功能,能够对覆膜产品起到非常好的保护效果;膜层与膜层之间结合力好,不易脱落,加工方便。附图说明图1为本技术的第一种结构示意图;图2为本技术的第二种结构示意图。具体实施方式以下结合附图通过实施例对本技术特征及其它相关特征作进一步详细说明,以便于同行业技术人员的理解:如图1-2所示,图中标记1-4分别表示为:工件1、类金刚石薄膜层2、防污膜层3、打底层4。实施例一:如图1所示,本实施例中的防污硬质膜设置在工件1的表面,兼具超硬和防污功能,在避免工件1的表面直接接触硬物而受到伤害的同时,防止工件1的表面被污染物污染。如图1所示,本实施例中的防污硬质膜是由类金刚石薄膜层2和防污膜层3所组成的膜系结构,其中起到防护作用的类金刚石薄膜层2附着在工件1的表面,起到防污作用的防污膜层3附着在类金刚石薄膜层2的表面。本实施例中的类金刚石薄膜层2由磁控溅射方法制备;防污膜层3由热阻蒸发方法制备。实施例二:本实施例相较实施例一的不同之处在于:如图2所示,在类金刚石薄膜层2和防污膜层3之间设置有一打底层4,该打底层4的两侧表面分别与类金刚石薄膜层2和防污膜层3相结合,以使这两个功能膜层之间结合紧密,避免膜层剥落。打底层4可以选用二氧化硅或二氟化镁中的一种,都可以起到很好的结合效果,保证类金刚石薄膜层2和防污膜层3之间的结合紧密。本实施例中的打底层4由电子束蒸发方法制备。上述实施例在具体实施时:防污膜层2的材料可以选择一端为含氟烷基团,另一端为包含硅氧烷基团的硅烷偶联剂,其中含氟烷基团为非水解基团,其暴露在空气中用于抗摩擦,硅氧烷基团用于与类金刚石薄膜层2或打底层4相结合。一般而言,防污膜层3的厚度为5-10nm,打底层4的厚度为5-20nm。各膜层均可以通过现有技术中的各种镀膜工艺附着到工件1的表面。虽然以上实施例已经参照附图对本技术目的的构思和实施例做了详细说明,但本领域普通技术人员可以认识到,在没有脱离权利要求限定范围的前提条件下,仍然可以对本技术作出各种改进和变换,如:各膜层的具体厚度、覆盖范围等,故在此不一一赘述。本文档来自技高网...
防污硬质膜

【技术保护点】
一种防污硬质膜,设置在工件的表面,其特征在于:所述防污硬质膜至少包括类金刚石薄膜层和防污膜层,所述类金刚石薄膜层附着在所述工件的表面上,所述防污膜层附着在所述类金刚石薄膜的表面。

【技术特征摘要】
1.一种防污硬质膜,设置在工件的表面,其特征在于:所述防污硬质膜至少包括类金刚石薄膜层和防污膜层,所述类金刚石薄膜层附着在所述工件的表面上,所述防污膜层附着在所述类金刚石薄膜的表面。2.根据权利要求1所述的一种防污硬质膜,其特征在于:所述类金刚石薄膜层和所述防污膜层之间设置有打底层。3.根据权利要求2所述的一种防污硬...

【专利技术属性】
技术研发人员:李爽张忠俊
申请(专利权)人:光驰科技上海有限公司
类型:新型
国别省市:上海;31

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