【技术实现步骤摘要】
氧化铟粉末及其制备方法
本专利技术总体涉及氧化铟粉末及其制备方法。更具体地说,本专利技术涉及用作高密度ITO(含有氧化锡的氧化铟(铟-锡-氧化物))的原材料以及IZO(含有氧化锌的氧化铟(铟-锌-氧化物))的原材料的氧化铟粉末,所述高密度ITO用于形成透明导电薄膜,IZO用于形成溅射目标物(sputtering target)。
技术介绍
作为生产氧化铟的传统方法,已知一种方法可直接氧化铟金属或将铟盐氧化使其分解来制备氧化铟。还已知一种方法制备氧化铟的方法,该方法包括以下步骤:将碱性沉淀剂如NaOH,NH4OH或NH4HCO3加入铟盐水溶液中以获得氢氧化物;干燥该氢氧化物;并且在(日本专利公开号2003-277052和日本专利公告号7-42109)所述气氛中灼烧所述干燥的氢氧化物。然而,在直接氧化铟金属或将铟盐氧化使其分解的方法中,存在环境问题,因为如果分解铟盐会产生大量氮氧化物,而如果氧化铟金属的话很难将铟金属块的中心部分充分氧化。此外,用该方法获得的氧化铟是硬块,很难将其碾碎。而且,用上述这些方法获得的氧化铟含有很多粗颗粒,所以很难制备均匀的颗粒。用上述这些 ...
【技术保护点】
一种制备氧化铟粉末的方法,该方法包括以下步骤:将碱性沉淀剂加入到铟盐溶液中以产生沉淀物;用固-液分离将所述沉淀物分离;干燥所述分离的沉淀物;和在无氧气氛中焙烧所述干燥的沉淀物。
【技术特征摘要】
JP 2005-3-22 2005-0808981.一种制备氧化铟粉末的方法,该方法包括以下步骤:将碱性沉淀剂加入到铟盐溶液中以产生沉淀物;用固-液分离将所述沉淀物分离;干燥所述分离的沉淀物;和在无氧气氛中焙烧所述干燥的沉淀物。2.如权利要求1所述的制备氧化铟粉末的方法,其特征在于,所述干燥的沉淀物是在570-780℃焙烧。3.如权利要求1所述的制备氧化铟粉末的方法,其特征在于,所述铟盐溶液中铟的浓度在0.01M-3M范围内,在不超过24小时的时间内将所述碱性沉淀剂加入到所述铟盐溶液中,所述溶液的温度保持在5-95℃,直到所述沉淀剂的当量达到0.5-3当量,所述干燥的沉淀物在570-780℃焙烧。4.如权利要求1所述的制备氧化铟粉末的方法,其特征在于,所述无氧气氛含有选自氮气、氢气、氨气和水蒸汽的至少一种。5.如权利要求1所述的制备氧化铟粉末的方法,其特征在于,所述铟盐溶液是选自In2(C2O4)3、InCl3、In(NO3)3和In2(SO4)3中的至少一种铟盐溶...
【专利技术属性】
技术研发人员:渡邉誠,稲村辰美,茂木謙雄,
申请(专利权)人:同和控股集团有限公司,
类型:发明
国别省市:JP[日本]
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。