有机清洗剂制造技术

本发明专利技术公开了有机清洗剂，其特征在于，由下述重量百分比成分组成：增稠剂15～25％、庚烷14～30％、氢氧化钠35～67％、丙酮17～66％、三氯乙烯15‑80％、醋酸丁酯33‑48％、乙氧基胺13～67％、烷基醇酰胺33～67％、水23～67％。本发明专利技术提供了有机清洗剂，组成合理，清洗难溶物效果好。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及清洗试剂
，尤其是一种有机清洗剂。
技术介绍
现有生活生产中经常碰到很多难溶物，也就是说不易清洗掉，如沉淀物、长期被燃烧的残渣，最常用方法就是直接刮铲，这样必然造成难溶物粘附的表面受到破坏，影响寿命。
技术实现思路
为了解决上述问题，本专利技术提供一种有机清洗剂，组成合理，清洗难溶物效果好。根据本专利技术的一个方面，提供有机清洗剂，其特征在于，由下述重量百分比成分组成：增稠剂15～25％、庚烷14～30％、氢氧化钠35～67％、丙酮17～66％、三氯乙烯15-80％、醋酸丁酯33-48％、乙氧基胺13～67％、烷基醇酰胺33～67％、水23～67％。本专利技术提供一种有机清洗剂，组成合理，清洗难溶物效果好。具体实施方式下面结合具体实施例对本专利技术的技术方案作进一步的详细描述说明。实施例1：本专利技术的提供的有机清洗剂，其特征在于，由下述重量百分比成分组成：增稠剂16％、庚烷16％、氢氧化钠38％、丙酮45％、三氯乙烯46％、醋酸丁酯44％、乙氧基胺25％、烷基醇酰胺38％、水44％。实施例2：本专利技术的提供的有机清洗剂，其特征在于，由下述重量百分比成分组成：增稠剂19％、庚烷35％、氢氧化钠37％、丙酮44％、三氯乙烯20％、醋酸丁酯37％、乙氧基胺25％、烷基醇酰胺56％、水60％。

【技术保护点】
有机清洗剂，其特征在于，由下述重量百分比成分组成：增稠剂15～25％、庚烷14～30％、氢氧化钠35～67％、丙酮17～66％、三氯乙烯15‑80％、醋酸丁酯33‑48％、乙氧基胺13～67％、烷基醇酰胺33～67％、水23～67％。

【技术特征摘要】
1.有机清洗剂，其特征在于，由下述重量百分比成分组成：增稠剂15～25％、庚烷14～30％、氢氧化钠35～67％、丙酮...

【专利技术属性】
技术研发人员：宗亚娟，
申请(专利权)人：扬中市创想驿站工业设计有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32