发光器件的制备方法与发光器件技术

本申请提供了发光器件的制备方法与发光器件。该发光器件的制备方法包括：步骤S1，提供基板，基板上设置有多个像素隔离结构和电致发光结构的第一电极，相邻的像素隔离结构之间具有子像素区域，在各子像素区域上设置电致发光结构的发光层和第二电极，其中，发光层和第二电极依次远离基板设置，第二电极为出光电极；步骤S2，采用喷墨打印法在至少一个第二电极的远离对应的发光层的表面上设置量子点墨水，并固化形成至少一个光转换层。该方法避免了采用光刻法造成的材料浪费的问题，简化了发光器的制备过程，降低了生产成本。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及发光器件领域，具体而言，涉及一种发光器件的制备方法与发光器件。
技术介绍
量子点材料是指在三个维度上都出现量子尺度效应，即材料的特征尺寸与电子的德布罗意波长、相干波长及激子波尔半径可比拟，电子局限在纳米空间使得电子输运受到限制，导致电子平均自由程很短，最终导致电子的局域性和相干性增强，此时原本准连续的能带演变为分立的能级结构。这种特殊的能级结构使得量子点具备光致发光和电致发光。可以通过控制量子点的结构、材料和粒径制备相应发光光谱。发光器件不仅能结合电致发光器件的优点，同时能够结合量子点激发后的高亮度、高色纯度的特点。现有技术中的发光器件主要是在电致发光器件的盖板内侧设置不同颜色的光转换材料层；通过掩膜及光刻工艺除去不需要的光转换材料层，进而形成不同的光转换区域即形成不同的子像素；然后，将该盖板和电致发光器件贴合实现光致发光与电致发光。上述的制备方法浪费了光转换材料，且整个制备过程复杂、且成本较高，不适合大规模生产。
技术实现思路
本申请的主要目的在于提供一种发光器件的制备方法与发光器件，以解决现有技术中的发光器件生产成本高且制备过程复杂的问题。为了实现上述目的，根据本申请的一个方面，提供了一种发光器件的制备，上述制备方法包括：步骤S1，提供基板，上述基板上设置有多个像素隔离结构和电致发光结构的第一电极，相邻的上述像素隔离结构之间具有子像素区域，在各上述子像素区域上设置上述电致发光结构的发光层和第二电极，其中，上述发光层和上述第二电极依次远离上述基板设置，上述第二电极为出光电极；步骤S2，采用喷墨打印法在至少一个上述第二电极的远离上述对应的发光层的表面上设置量子点墨水，并固化形成至少一个光转换层。进一步地，上述步骤S1还包括：于至少一个上述子像素区域内，在上述第一电极和上述发光层之间设置空穴注入层和/或空穴传输层。进一步地，上述步骤S1还包括：于至少一个上述子像素区域内，在上述发光层和对应的上述第二电极之间设置电子注入层和/或电子传输层。进一步地，上述步骤S2包括：步骤S21，于至少一个上述子像素区域内，在上述第二电极的远离对应的上述发光层的表面上设置保护层；步骤S22，采用喷墨打印法在各上述保护层远离对应的上述第二电极的表面上设置上述量子点墨水，并固化形成光转换层。进一步地，上述步骤S21中采用物理气相沉积法、化学气相沉积法、溅射法或蒸镀法形成上述保护层。进一步地，上述步骤S2还包括：步骤S21'，于至少一个上述子像素区域内，采用喷墨打印法在上述第二电极的远离对应的上述发光层的表面上设置辅助量子点墨水，并固化形成辅助光转换层；步骤S22'，采用喷墨打印法在各上述辅助光转换层的远离对应的上述第二电极的表面上设置量子点墨水，并固化形成光转换层。进一步地，上述步骤S21'包括：步骤S211'，于至少一个上述子像素区域内，在上述第二电极的远离对应的上述发光层的表面上设置保护层；步骤S212'，采用喷墨打印法在各上述保护层的远离对应的上述第二电极的表面上设置辅助量子点墨水，并固化形成辅助光转换层。进一步地，上述保护层的材料为氧化硅、氮化硅、氧化铝、氧化锌、氧化钡、钛酸钡、氧化硼、氧化铈、氧化钴、氧化锗、氧化铪、氧化铟、镁铝尖晶石、氧化镁、氧化锰、氧化镍、氧化铌、三氧化二妮、氧化钽、氧化锶、氧化钛、氮化钛、氧化钇、氧化锆、氟化铝、氟化钡、氟化铋、氟化镁、氟化铈、氟化铽、氟化钇、氟化锌、氧化钼、硒化铋、锑化铋、硒化锌、硫化锌、锑化锌、硒化锡、硫化锡与锑化锡中的一种或多种，或者上述保护层的材料为聚醚砜、聚丙烯酸、聚芳酯、聚醚酰亚胺、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸乙二酯、聚苯硫醚、聚酰亚胺，聚碳酸酯、醋酸纤维素与醋酸丙酸纤维素中的一种或多种。进一步地，上述步骤S2中，采用激光或者电子束能量固化上述量子点墨水。根据本申请的另一方面，提供了一种发光器件，该发光器件包括基板与电致发光结构，上述基板上设置有第一电极和多个像素隔离结构，相邻的上述像素隔离结构之间具有子像素区域，上述电致发光结构包括上述第一电极、设置在上述子像素区域的发光层和第二电极，且上述发光层和上述第二电极依次远离上述基板设置，上述发光器件还包括：至少一个光转换层，各上述光转换层设置上述第二电极远离对应的上述发光层的表面上。进一步地，上述发光器件还包括：至少一个保护层，各上述保护层设置在各上述第二电极与对应的上述光转换层之间。进一步地，各上述保护层的透光率大于等于70％。进一步地，各上述保护层的材料为氧化硅、氮化硅、氧化铝、氧化锌、氧化钡、钛酸钡、氧化硼、氧化铈、氧化钴、氧化锗、氧化铪、氧化铟、镁铝尖晶石、氧化镁、氧化锰、氧化镍、氧化铌、三氧化二妮、氧化钽、氧化锶、氧化钛、氮化钛、氧化钇、氧化锆、氟化铝、氟化钡、氟化铋、氟化镁、氟化铈、氟化铽、氟化钇、氟化锌、氧化钼、硒化铋、锑化铋、硒化锌、硫化锌、锑化锌、硒化锡、硫化锡与锑化锡中的一种或多种，或者上述保护层的材料为聚醚砜、聚丙烯酸、聚芳酯、聚醚酰亚胺、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸乙二酯、聚苯硫醚、聚酰亚胺，聚碳酸酯、醋酸纤维素与醋酸丙酸纤维素中的一种或多种。进一步地，上述发光器件还包括：至少一个辅助光转换层，各上述辅助光转换层设置在各上述第二电极与对应的上述光转换层之间；各上述辅助光转换层的发光波长大于对应的上述发光层的发光波长，且小于对应的上述光转换层的发光波长。进一步地，各上述发光层为量子点发光层或者有机发光层，且各上述发光层的发光波长为小于等于480nm。进一步地，上述光转换层中，部分的上述光转换层为红色量子点层，另一部分的上述光转换层为绿色量子点层。进一步地，上述发光器件还包括：至少一个光提取层，各上述光提取层设置在各上述光转换层与对应的保护层之间。应用本申请的技术方案，采用喷墨打印的方式在出光电极上形成光转换层，避免了采用光刻法造成的材料浪费的问题；并且，该制备方法简化了子像素区域形成过程，进而简化了发光器的制备过程，降低了生产成本。附图说明构成本申请的一部分的说明书附图用来提供对本申请的进一步理解，本申请的示意性实施例及其说明用于解释本申请，并不构成对本申请的不当限定。在附图中：图1示出了本申请的一种典型的实施方式提供的发光器件的结构示意图；图2示出了本申请的一种实施例提供的发光器件的结构示意图；图3示出了本申请的另一种实施例提供的发光器件的结构示意图；图4示出了本申请的再一种实施例提供的发光器件的结构示意图；以及图5示出了本申请的又一种实施例提供的发光器件的结构示意图。其中，上述附图包括以下附图标记：01、像素隔离结构；11、基板；12、第一电极；20、发光层；30、第二电极；40、保护层；45、光提取层；50、辅助光转换层；60、光转换层。具体实施方式应该指出，以下详细说明都是例示性的，旨在对本申请提供进一步的说明。除非另有指明，本文使用的所有技术和科学术语具有与本申请所属
的普通技术人员通常理解的相同含义。需要注意的是，这里所使用的术语仅是为了描述具体实施方式，而非意图限制根据本申请的示例性实施方式。如在这里所使用的，除非上下文另外明确指出，否则单数形式也意图包括复数形式，此外，还应当理解的是，当在本说明书中使用术语“包含”和/或“包括”时，其指明存在本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种发光器件的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：步骤S1，提供基板，所述基板上设置有多个像素隔离结构和电致发光结构的第一电极，相邻的所述像素隔离结构之间具有子像素区域，在各所述子像素区域上设置所述电致发光结构的发光层和第二电极，其中，所述发光层和所述第二电极依次远离所述基板设置，所述第二电极为出光电极；以及步骤S2，采用喷墨打印法在至少一个所述第二电极的远离对应的所述发光层的表面上设置量子点墨水，并固化形成至少一个光转换层。

【技术特征摘要】
1.一种发光器件的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：步骤S1，提供基板，所述基板上设置有多个像素隔离结构和电致发光结构的第一电极，相邻的所述像素隔离结构之间具有子像素区域，在各所述子像素区域上设置所述电致发光结构的发光层和第二电极，其中，所述发光层和所述第二电极依次远离所述基板设置，所述第二电极为出光电极；以及步骤S2，采用喷墨打印法在至少一个所述第二电极的远离对应的所述发光层的表面上设置量子点墨水，并固化形成至少一个光转换层。2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述步骤S1还包括：于至少一个所述子像素区域内，在所述第一电极和所述发光层之间设置空穴注入层和/或空穴传输层。3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述步骤S1还包括：于至少一个所述子像素区域内，在所述发光层和对应的所述第二电极之间设置电子注入层和/或电子传输层。4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述步骤S2包括：步骤S21，于至少一个所述子像素区域内，在所述第二电极的远离对应的所述发光层的表面上设置保护层；以及步骤S22，采用喷墨打印法在各所述保护层远离对应的所述第二电极的表面上设置所述量子点墨水，并固化形成光转换层。5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述步骤S21中采用物理气相沉积法、化学气相沉积法、溅射法或蒸镀法形成所述保护层。6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述步骤S2还包括：步骤S21'，于至少一个所述子像素区域内，采用喷墨打印法在所述第二电极的远离对应的所述发光层的表面上设置辅助量子点墨水，并固化形成辅助光转换层；以及步骤S22'，采用喷墨打印法在各所述辅助光转换层的远离对应的所述第二电极的表面上设置量子点墨水，并固化形成光转换层。7.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述步骤S21'包括：步骤S211'，于至少一个所述子像素区域内，在所述第二电极的远离对应的所述发光层的表面上设置保护层；以及步骤S212'，采用喷墨打印法在各所述保护层的远离对应的所述第二电极的表面上设置辅助量子点墨水，并固化形成辅助光转换层。8.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述保护层的材料为氧化硅、氮化硅、氧化铝、氧化锌、氧化钡、钛酸钡、氧化硼、氧化铈、氧化钴、氧化锗、氧化铪、氧化铟、镁铝尖晶石、氧化镁、氧化锰、氧化镍、氧化铌、三氧化二妮、氧化钽、氧化锶、氧化钛、氮化钛、氧化钇、氧化锆、氟化铝、氟化钡、氟化铋、氟化镁、氟化铈、氟化铽、氟化钇、氟化锌、氧化钼、硒化铋、锑化铋、硒化锌、硫化锌、锑化锌、硒化锡、硫化锡与锑化锡中的一种或多种，或者所述保护层的材料为聚醚砜、聚丙烯酸、聚芳酯、聚醚酰亚胺、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸乙二酯、聚苯硫醚、聚酰亚胺，聚碳酸酯、醋...

【专利技术属性】
技术研发人员：甄常刮，杜勇，彭军军，
申请(专利权)人：纳晶科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江;33