一种用于清洗印染设备表面污垢的清洗剂制造技术

本发明专利技术公开了一种清洗印染设备表面污垢的清洗剂，以重量份数计，包括：无机酸4~16份，硫氰酸钾0.2~0.7份，盐酸2~4份，硝酸2~4份，氟化氢氨2~4份，渗透剂0.1~0.9份，缓蚀剂0.2~1份，苯胺0.1~0.4份，乳化剂0.1~0.8份，水100~150份。本发明专利技术的清洗剂中，多种无机酸与缓蚀剂、渗透剂共同协作，发挥独特的渗透、剥离、分解、扩散等作用，并与污垢之间进行各种不同形式的分解、化合等化学反应，最终达到清除污垢而又不伤及设备表面的目的。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种清洗剂，具体涉及一种用于清洗印染设备表面污垢的清洗剂。
技术介绍
纺织印染行业中经常使用的印染滚筒、烘干滚筒、染浆联合机滚筒等机械设备表面常常会粘附大量污垢，这些污垢中除了含有碳酸盐和硅酸盐以外，还含有大量重金属元素以及各种染料组分，不仅成份复杂，而且坚硬难以清除。硫酸的化学性质很活泼，在常温下几乎能与所有金属及其氧化物、氢氧化物反应生成硫酸盐，破坏组成污垢的各元素之间的分子结构。然而，由于硫酸除垢所产生的硫酸盐水溶性差，因此单独采用硫酸时除垢效果并不理想。盐酸是化学清洗过程中广泛选用的无机酸，具有成本低、操作简单、溶垢快及清洗后设备表面状态良好等特点，在常温下能与钙、镁盐类进行化学反应，生成易溶的氯化物，但是对于硅酸盐垢就显的无能为力了。现有的印染设备表面污垢清洗剂，绝大多数只能对轻型污垢进行清除，对重型污垢的除垢效果十分不理想。传统方法只能采用敲打、磨刮等手工方式清除重型污垢，不仅费时、费力，而且很容易损伤设备，给企业造成损失。
技术实现思路
本专利技术提供了一种用于清洗印染设备表面污垢的清洗剂，该污垢清洗剂能够对印染设备表面的重型污垢进行有效清洗，且不会伤及印染设备的钢质表面。一种用于清洗印染设备表面污垢的清洗剂，以重量份数计算，配方为：无机酸4～16份，硫氰酸钾0.2～0.7份，盐酸2～4份，硝酸2～4份，氟化氢氨2～4份，渗透剂0.1～0.9份，缓蚀剂0.2～1份，苯胺0.1～0.4份，乳化剂0.1～0.8份，水100～150份；所述硝酸的质量分数3～5％。本专利技术的清洗剂配方中除了含有常用的无机酸外，还含有氟化氢铵，氟化氢铵能够与盐酸反应生成氢氟酸，氢氟酸不仅能够溶解硫酸和盐酸无法溶解的硅酸盐，而且能够加快碳酸盐和硅酸盐混合垢的溶解；在此基础上添加硝酸能够进一步增强清洗剂的除垢能力，这是因为在氢氟酸和硝酸的混合液对碳酸盐和硅酸盐混合垢的溶解能力更强。本专利技术分别采用盐酸和氟化氢铵来提供清洗剂所需的氢氟酸，比直接应用氢氟酸要更加安全环保。本专利技术所使用的盐酸和硝酸均是发烟性液体，且具有较强的刺激性气味，在配制过程中不做好防雾性措施，两者混合时所产生的烟雾更加惊人。因此，本专利技术的清洗剂配方中还含有防雾剂。在化学清洗过程中，当清洗液中含有三价铁离子、二价铜离子等氧化性离子时，氧化性离子会加快印染设备钢质表面的腐蚀程度，连缓蚀剂也难以抑制，缓蚀剂的缓蚀作用急剧下降。为了消除氧化性离子对基体金属的加速腐蚀，本专利技术的清洗剂中还含有还原剂，还原剂能够将酸清洗液中含有的氧化性离子还原为低价无害的低价金属离子。本专利技术的清洗剂中，多种无机酸与乳化剂、缓蚀剂、渗透剂、还原剂共同协作，发挥独特的渗透、剥离、分解、扩散等作用，并与污垢之间进行各种不同形式的分解、化合等化学反应，最终达到清除污垢而又不伤及设备表面的目 的。作为优选，所述乳化剂为壬基酚聚氧乙烯醚。壬基酚聚氧乙烯醚可溶于各种硬度的水，并且在冷水中的溶解度比在热水中的溶解度要大，适于用在大范围大面积的清洗过程中，与本专利技术清洗剂的实际使用情况相匹配。壬基酚聚氧乙烯醚不仅能与磷酸协同起到防雾、防锈蚀、在设备金属表面形成保护膜的作用，而且还能提高本专利技术清洗剂的清洗效果。在清洗过程中壬基酚聚氧乙烯醚与其他助剂(缓蚀剂、渗透剂)协同作用，能够在印染设备的钢质表面形成一层致密的保护膜，避免印染设备的钢质表面遭受腐蚀。缓蚀剂能起到缓解无机酸对设备金属表面的腐蚀作用，作为优选，所述缓蚀剂为Lan-826酸洗缓蚀剂。Lan-826酸洗缓蚀剂的缓蚀效率能达到90％以上。作为优选，所述渗透剂为烷醇酰胺。该剂具有优异的分解、渗透、扩散等性能，而且还有一定的防锈、缓蚀和增稠作用。作为优选，所述无机酸为硫酸、磷酸以及硝酸中的一种或多种。作为优选，所述无机酸为质量分数为5～8％的硫酸。本专利技术所使用的硫酸是将市售质量分数为95％的浓硫酸稀释至质量分数为5～8％后获得的稀硫酸，所采用的硝酸是经过稀释的、质量分数为3～5％的稀硝酸，稀释使用能够降低硫酸和硝酸的强氧化性，避免对印染设备的金属表面产生腐蚀，保障设备安全性；在氧化性减弱的同时，硫酸和硝酸的活泼系数增强，这使得清洗剂的除垢能力也得到进一步提高。本专利技术还提供了上述印染设备表面污垢清洗剂的配制方法，包括：(1)按预设的质量百分含量，将渗透剂、硫氰酸钾、苯胺和部分水混合，获得溶液Ⅰ；(2)按预设的质量百分含量，向溶液Ⅰ中加入无机酸，获得溶液Ⅱ；(3)按预设的质量百分含量，向剩余的水中依次加入乳化剂、氟化氢铵、盐酸，使盐酸与氟化氢铵反应生成氢氟酸，获得溶液Ⅲ；(4)按预设的质量百分含量，向溶液Ⅲ中加入硝酸，获得溶液Ⅳ；(5)将溶液Ⅱ和溶液Ⅳ混合，并按预设的质量百分含量加入缓蚀剂，获得所述印染设备表面污垢清洗剂。与现有技术相比，本专利技术的有益效果为：(1)本专利技术的清洗剂配方中除了含有常用的硫酸和盐酸外，还含有氟化氢铵，氟化氢铵能够与盐酸反应生成氢氟酸，氢氟酸不仅能够溶解硫酸和盐酸无法溶解的硅酸盐，而且能够加快碳酸盐和硅酸盐混合垢的溶解；在此基础上添加硝酸能够进一步增强清洗剂的除垢能力，这是因为在氢氟酸和硝酸的混合液对碳酸盐和硅酸盐混合垢的溶解能力更强；(2)本专利技术所使用的硫酸是将市售质量分数为95％的浓硫酸稀释至质量分数为5～8％后获得的稀硫酸，所采用的硝酸是经过稀释的、质量分数小于5％(不包括0)的稀硝酸，稀释使用能够降低硫酸和硝酸的强氧化性，避免对印染设备的金属表面产生腐蚀，保障设备安全性；在氧化性减弱的同时，硫酸和硝酸的活泼系数增强，这使得清洗剂的除垢能力也得到进一步提高；(3)本专利技术能够将酸清洗液中含有的氧化性离子还原为低价无害的低价金属离子，消除氧化性离子对基体金属的加速腐蚀；(4)本专利技术的清洗剂中，多种无机酸与乳化剂、缓蚀剂、渗透剂共同协作，发挥独特的渗透、剥离、分解、扩散等作用，并与污垢之间进行各种不同形式的分解、化合等化学反应，最终达到清除污垢而又不伤及设备表面的目的；(5)本专利技术的清洗装置适用范围广，使用方便成本低，易于控制清洗剂用量，避免出现清洗剂浪费和清洗不均匀的情况。具体实施方式下面结合具体实施方式对本专利技术的技术方案作进一步详细说明。实施例1本实施例一种印染设备表面污垢清洗剂，以重量份数计算，配方为：无机酸16份，硫氰酸钾0.2份，盐酸4份，硝酸2份，氟化氢氨4份，渗透剂0.1份，缓蚀剂1份，苯胺0.1份，乳化剂0.8份，水100份。其中，硫酸的质量分数为6％，硝酸的质量分数为4％，盐酸的质量分数为37％(市售产品)，磷酸的质量分数为85％(市售产品)。上述印染设备表面污垢清洗剂的配制方法，包括：(1)按预设的质量百分含量，将渗透剂、硫氰酸钾、苯胺和部分水混合，获得溶液Ⅰ；(2)按预设的质量百分含量，向溶液Ⅰ中加入无机酸，获得溶液Ⅱ；(3)按预设的质量百分含量，向剩余的水中依次加入乳化剂、氟化氢铵、盐酸，使盐酸与氟化氢铵反应生成氢氟酸，获得溶液Ⅲ；(4)按预设的质量百分含量，向溶液Ⅲ中加入硝酸，获得溶液Ⅳ；(5)将溶液Ⅱ和溶液Ⅳ混合，并按预设的质量百分含量加入缓蚀剂，获得本实施例的印染设备表面污垢清洗剂。实施例2本实施例一种印染设备表面污垢清洗剂，按质量百分含量计，其配方为：无机酸4份，硫氰酸钾0.7份，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于清洗印染设备表面污垢的清洗剂，其特征在于，以重量份数计算，配方为：无机酸4~16份，硫氰酸钾0.2~0.7份，盐酸2~4份，硝酸2~4份，氟化氢氨2~4份，渗透剂0.1~0.9份，缓蚀剂0.2~1份，苯胺0.1~0.4份，乳化剂0.1~0.8份，水100~150份；所述硝酸的质量分数3~5%。

【技术特征摘要】
1.一种用于清洗印染设备表面污垢的清洗剂，其特征在于，以重量份数计算，配方为：无机酸4~16份，硫氰酸钾0.2~0.7份，盐酸2~4份，硝酸2~4份，氟化氢氨2~4份，渗透剂0.1~0.9份，缓蚀剂0.2~1份，苯胺0.1~0.4份，乳化剂0.1~0.8份，水100~150份；所述硝酸的质量分数3~5%。2.如权利要求1所述的清洗剂，其特征在于，所述乳化剂为壬基酚聚氧乙烯醚。3.如权利要求1所述的清洗剂，其特征在于，所述缓蚀剂为Lan-826酸洗缓蚀剂。4.如权利要求1所述的清洗剂，其特征在于，所述渗透剂为烷醇酰胺。5.如权利要求1所述的清洗剂，其特征在于，所述无机酸为硫酸、...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨昌贤，
申请(专利权)人：黄平县力星清洗剂生产有限公司，
类型：发明
国别省市：贵州;52