牙用磨料体系制造技术

一种用于高度清洁、控制磨损的牙膏组合物的磨料体系，包括可选自放射性牙齿磨损（ＲＤＡ）在３０－１５０范围内的第一二氧化硅和ＲＤＡ在１００－３００范围内的第二二氧化硅中的至少一种磨料二氧化硅，和平均微晶尺寸低于０．２μｍ的结晶铝硅酸盐。第一二氧化硅的重量含量通常大于第二二氧化硅的重量含量，第二二氧化硅的ＲＤＡ大于第一二氧化硅的ＲＤＡ。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】牙用磨料体系本专利技术涉及用于高度清洁、控制磨损的牙膏组合物的磨料体系，尤其涉及包括无定形二氧化硅和结晶铝硅酸盐的组合的磨料体系。牙膏通常掺入磨料用于通过物理磨损沉积物来机械清洁和磨光牙齿，它们还可包括化学清洁剂。磨料主要用于实现从牙齿表面机械除去沉积物，例如除去粘着到牙齿表面上的表膜。表膜易于变色和着色，例如因食物如茶和咖啡，和因呼出的香烟烟雾中的焦油和颗粒，从而产生难看的牙齿外观。尽管这种机械除去对有效清洁是重要的，但重要的是为了最小化对牙齿的损害例如划伤，所用的磨料不能过分粗糙。合成产生的无定形二氧化硅通常为牙膏中有利的磨料组分，并在生产过程中可被容易地定制以具有预定的适用于牙膏的磨损性和其它物理特性。沉淀二氧化硅作为磨料组分尤其有用，并通常为牙膏组合物中选择的材料。尽管二氧化硅通过磨损对机械清洁尤其有效，但它们在化学清洁方面没有明显贡献。结晶铝硅酸盐(沸石)已被用作牙膏组合物中的清洁剂。它们具有机械清洁作用(磨损性)，并还已知结合钙离子。理想地，牙齿清洁剂结合了较好的清洁性和最小的牙质磨损。已经发现大多数可用的沸石磨损性太大以至不能在可接受的磨损性下提供充分的清洁。需要超过单独二氧化硅能获得的具有提高清洁性且磨损性不增加的配方。令人惊奇地是，现在已发现，使用特定的一种或多种二氧化硅和特定铝硅酸盐的组合可产生具有良好的清洁性和可接受的磨损特性的牙膏组合物。根据本专利技术，用于牙膏组合物的磨料体系包括至少一种磨料无定形二氧化硅和平均微晶尺寸在0.2μm以下的结晶铝硅酸盐，其中无定形二氧化硅具有在30-300范围内的放射性牙齿磨损(RDA)、在40-150cm3/100g范围内的吸油量和在3-15μm范围内的重均粒度。磨料二氧化硅的数量将取决于使用的二氧化硅的磨损性。通常磨料二氧化硅含量在7-85％的范围内，例如12-80％，以体系的合计的二-->氧化硅磨料/铝硅酸盐含量的重量计。二氧化硅可为具有在30-150范围内的放射性牙齿磨损(RDA)、在60-140cm3/100g范围内的吸油量和在5-15μm范围内的重均粒度的磨料无定形二氧化硅(本文中称为二氧化硅A)，和/或具有在100-300范围内的放射性牙齿磨损(RDA)、在40-150cm3/100g范围内的吸油量和在3-15μm范围内的重均粒度的磨料无定形二氧化硅(本文中称为二氧化硅B)。当使用两种二氧化硅时，二氧化硅A的重量数量通常大于二氧化硅B的重量数量，二氧化硅B的RDA大于二氧化硅A的RDA。在二氧化硅A和二氧化硅B都存在时，二氧化硅B用作“清洁辅助剂”，而二氧化硅A相对于二氧化硅B构成磨料体系的主要二氧化硅含量。除了至少一种磨料二氧化硅外，本专利技术的磨料体系还可包括RDA小于30的增稠二氧化硅。磨料体系中使用的二氧化硅一般为沉淀二氧化硅。本专利技术的磨料体系的组分优选处于干燥状态以确保自由流动的粉末没有与具有高水含量的滤饼有关的微生物和保存问题。与体系和/或它的单独组分相关的在105℃下通过损失测量的物理水含量优选小于该体系或单独组分的20％。使用如下文中所限定的组分的含水浆料测量本专利技术的磨料体系和其组分的RAD值。但是，如果在完整的牙膏组合物即包括如下文所限定的任何任选组分的牙膏组合物上测量RDA，则得到的RDA值可明显不同。例如，结合了根据本专利技术的磨料体系的典型牙膏组合物的RDA将在25-200的范围内，优选30-180，更优选50-150。通常，二氧化硅A具有低至中等的RDA。一般其RDA为至少40，更通常为至少50。一般其RDA不大于130，例如不大于110。按照下文描述的试验测量在本专利技术中使用的二氧化硅的吸油量。二氧化硅A的优选范围为80-120cm3/100g。优选二氧化硅A具有在6-12μm范围内的重均粒度，粒度通过Malvern Mastersizer测量，如下文所述。通常通过对二氧化硅进行研磨步骤得到二氧化硅A的所需粒度。通常，二氧化硅B具有中等至高RDA。一般其RDA为至少100，-->更通常为至少120，例如至少130。一般其RDA不大于220，更通常不大于200，例如不大于180。二氧化硅B的吸油量一般为至少50，更通常为至少60，例如至少65cm3/100g。二氧化硅B的吸油量一般为至多130，更通常至多120，例如至多100cm3/100g。在体系中存在二氧化硅A和B两者时，通常二氧化硅B将具有较低的吸油量。优选地，二氧化硅B具有至少2μm的重均粒度，更通常至少3μm。优选二氧化硅B具有至多8μm的重均粒度，更通常至多6μm，通过Malvern Mastersizer测量。通常通过对二氧化硅进行微粉化粉碎步骤得到二氧化硅B的所需粒度。以5wt％的悬浮液测量，二氧化硅A和B(和存在的任何其它二氧化硅，如增稠二氧化硅)的pH一般至多为8，更通常至多为7.5，例如至多7.0。二氧化硅A和B(和体系中存在的任何其它二氧化硅)的pH一般为至少3.0，和更通常为至少4.0。磨料体系的pH是控制使用该体系的牙膏组合物的pH的尤其有效的方式。根据本专利技术的特征，以使体系的pH为至多10.0、更通常至多9.5例如至多9.0的方式选择磨料体系的组分。可通过体系的二氧化硅含量(二氧化硅A和/或B和存在的任何其它二氧化硅)实现这种pH控制，不需要通过离子交换技术调整结晶铝硅酸盐的内在高pH。但是，我们没有排除至少部分结晶铝硅酸盐含量由pH-调整的结晶铝硅酸盐构成的可能性，尤其是如果需要更低的牙膏pH时。通过1000℃下的灼烧损失测量的无定形二氧化硅A或B上存在的水量通常最高到25wt％，优选最高到15wt％。通常1000℃下的灼烧损失超过4wt％。本专利技术中有用的结晶铝硅酸盐可用式：M2/nO·Al2O3·xSiO2·yH2O表示，其中M表示金属部分，所述金属具有n价，x表示二氧化硅对氧化铝的摩尔比，y表示水分子对氧化铝的摩尔比。在Robert E.Krieger Publishing Company出版的Donald W.Breck的标准工作“Zeolite Molecular Sieves”中描述了多种结晶铝硅酸盐(沸石)的结构和特征。通常，上述经验式中x的值在1.5-10的范围内。表示沸石空隙中所含水量的y的值可宽泛地变化。在无水材料中，y＝0，在完全水合沸石中，y一般最高为5。-->本专利技术中有用的沸石可基于天然存在或合成的铝硅酸盐，但沸石的优选形式具有称为沸P的结构。尤其优选的沸石形式为EP-A-0384070、EP-A-0565364、EP-A-0697010、EP-A-0742780、WO-A-96/14270、WO-A-96/34828和WO-A-97/06102中描述的那些，本文引入它们的全部内容作为参考。EP-A-0384070中描述的沸石P具有上面给出的经验式，其中M表示碱金属，x具有最高2.66的值，优选在1.8-2.66的范围内，并具有在本专利技术中尤其有用的结构。更优选地，x具有在1.8-2.4范围内的值。上述专利文献中公开的沸石P容易控制产生大大低于0.2μm的微晶尺寸和低于2.5μm的团聚体尺寸(即重均粒度)，即使当被干燥到低于20wt％的水分含量时。这与干燥时往往团聚成大重本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于牙膏组合物的磨料体系，包括至少一种磨料无定形二氧化硅和平均微晶尺寸在０．２μｍ以下的结晶铝硅酸盐，其中该无定形二氧化硅具有在３０－３００范围内的放射性牙齿磨损（ＲＤＡ）、在４０－１５０ｃｍ↑［３］／１００ｇ范围内的吸油量和在３－１５μｍ范围内的重均粒度。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】GB 2004-1-9 0400415.61.一种用于牙膏组合物的磨料体系，包括至少一种磨料无定形二氧化硅和平均微晶尺寸在0.2μm以下的结晶铝硅酸盐，其中该无定形二氧化硅具有在30-300范围内的放射性牙齿磨损(RDA)、在40-150cm3/100g范围内的吸油量和在3-15μm范围内的重均粒度。2.如权利要求1所述的磨料体系，其中包括具有在30-150范围内的放射性牙齿磨损(RDA)、在60-140cm3/100g范围内的吸油量和在5-15μm范围内的重均粒度的磨料无定形二氧化硅，在此称为二氧化硅A，和/或具有在100-300范围内的放射性牙齿磨损(RDA)、在40-150cm3/100g范围内的吸油量和在3-15μm范围内的重均粒度的磨料无定形二氧化硅，在此称为二氧化硅B。3.如权利要求2所述的磨料体系，其中二氧化硅A具有不大于130的RDA。4.如权利要求2或3所述的磨料体系，其中二氧化硅A具有80-120cm3/100g的吸油量。5.如权利要求2或权利要求2的前述从属权利要求中任意一项所述的磨料体系，其中二氧化硅A具有高达6-12μm的重均粒度。6.如权利要求2或权利要求2的前述从属权利要求中任意一项所述的磨料体系，其中二氧化硅B具有至少100的RDA。7.如权利要求2或权利要求2的前述从属权利要求中任意一项所述的磨料体系，其中二氧化硅B具有50-130的吸油量。8.如权利要求2或权利要求2的前述从属权利要求中任意一项所述的磨料体系，其中在该体系中同时存在二氧化硅A和B，并且二氧化硅B具有较低的吸油量。9.如权利要求2或权利要求2的前述从属权利要求中任意一项所述的磨料体系，其中二氧化硅B具有至少2μm的重均粒度。10.如权利要求2或权利要求2的前述从属权利要求中任意一项所述的磨料体系，其中二氧化硅A和/或B的pH为至多8。11.如前述权利要求中任意一项所述的磨料体系，其中选择体系的组分使得体系的pH为至多10.0。12.如权利要求2或权利要求2的前述从属权利要求中任意一项所述的磨料体系，其中在二氧化硅A和/或二氧化硅B上存在的水量通常最高到25wt％。13.如前述权利要求中任意一项所述的磨料体系，其中铝硅酸盐具有式：M2/nO·Al2O3·xSiO2·yH2O。14.如前述权利要求中任意一项所述的磨料体系，其中铝硅酸盐为沸石P。15.如权利要求13所述的磨料体系，其中x具有最高到2.66的值。16.如权利要求13所述的磨料体系，其中x具有在1.8-2.66范围内的值。17.如权利要求13所述的磨料体系，其中x具有在1.8-2.4范围内的值。18.如前述权利要求中任意一项所述的磨料体系，其中铝硅酸盐具有小于0.1μm的微晶尺寸。19.如前述权利要求中任意一...

【专利技术属性】
技术研发人员：PW斯坦尼尔，A阿拉亚，IP麦克奥恩，JE克里思，
申请(专利权)人：伊尼奥斯硅石有限公司，
类型：发明
国别省市：GB[英国]