【技术实现步骤摘要】
本技术涉及城市污水处理自动控制领域,具体涉及一种用于Orbal氧化沟的精确曝气控制系统。
技术介绍
Orbal氧化沟是氧化沟工艺的一种类型,氧化沟又名连续循环Orbal氧化沟,是活性污泥法的变形。氧化沟工艺因其出水水质好、运行稳定、管理方便等技术特点,是国内生活污水处理和工业污水处理采用最多的工艺。曝气是整个污水处理工艺的核心,能耗占整个污水处理厂的40%-50%,然而在国内氧化沟工艺的发展过程中,大部分污水处理厂的运行水平还停留在人工阶段,只要出水能达到排放标准,曝气量基本不会改变。由于研究不足,使得目前国内氧化沟工艺还普遍存在转碟性能不高、缺乏系统的运行标准和技术规范、工艺自动运行控制水平不高等问题,无论新厂建设还是提标改造,都迫切需要优化的运行技术和先进的设备。在目前的曝气控制技术中,大多数污水处理厂采用溶解氧浓度检测仪和转碟作为一个闭环反馈回路。当溶解氧浓度大于设定值,调小转碟的运行频率;当溶解氧浓度过大时,调大转碟的运行频率。上述控制方法只有在进水水质稳定、生物池溶解氧分布均匀的理想状态才能起到作用,而实际污水处理厂运行中,进水水质波动很大,进水量在不同时期也是不一样的,这样对生物池中的曝气量要求也不一样,而且氧化沟中溶解氧分布及其不均,离转碟近的溶解氧值高,离转碟远的溶解氧值低,依靠在某点测量的溶解氧值是很难反应整个氧化沟的溶解氧分布情况,所以依靠溶解氧一个变量来调节曝气量,很难保证氧化沟稳定运行。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种用于Orbal氧化沟的精确曝气控制系统,可实现Orbal氧化沟工艺的动态需氧量分析和转碟的精确控制,使得氧化沟中 ...
【技术保护点】
一种用于Orbal氧化沟的精确曝气控制系统,其特征在于,包括设备层、自动化层及智能监控层;设备层包括转碟、Orbal氧化沟及沉淀池,城市污水经Orbal氧化沟处理后进入沉淀池,然后经沉淀池处理后排出,Orbal氧化沟由内沟、中沟、外沟组成,内沟、中沟、外沟均连接有转碟;自动化层包括进水仪表、生物池仪表、出水仪表、变频器及PLC控制系统,进水仪表、生物池仪表、出水仪表、变频器均与PLC控制系统连接,进水仪表用于监测城市污水的进水的COD、NH3和进水流量,生物池仪表用于监测Orbal氧化沟中的溶解氧和浊度,出水仪表用于监测沉淀池的排水的COD、NH3和排水流量,变频器通过调节运行频率来改变转碟的曝气量;智能监控层包括上位机监控系统、参数输入、Orbal工艺仿真和表面曝气设备仿真,上位机监控系统用于采集仪表数据和设备状态,并负责与Orbal工艺仿真、表面曝气设备仿真及PLC控制系统进行数据交换,实现转碟的优化运行,参数输入用于设置Orbal氧化沟的工艺参数和转碟的设备参数,Orbal工艺仿真和表面曝气设备仿真根据仪表的数据和参数动态分析工艺运行状态,实时调节设备的运行参数。
【技术特征摘要】
1.一种用于Orbal氧化沟的精确曝气控制系统,其特征在于,包括设备层、自动化层及智能监控层;设备层包括转碟、Orbal氧化沟及沉淀池,城市污水经Orbal氧化沟处理后进入沉淀池,然后经沉淀池处理后排出,Orbal氧化沟由内沟、中沟、外沟组成,内沟、中沟、外沟均连接有转碟;自动化层包括进水仪表、生物池仪表、出水仪表、变频器及PLC控制系统,进水仪表、生物池仪表、出水仪表、变频器均与PLC控制系统连接,进水仪表用于监测城市污水的进水的COD、NH3和进水流量,生物池仪表用于监测Orbal氧化沟中的溶解氧和浊度,出水仪表用于监测沉淀池的排水的COD、NH3和排水流量,变频器通过调节运行频率来改变转碟的曝气量;智能监控层包括上位机监控系统、参数输入、Orbal工艺仿真和表面曝...
【专利技术属性】
技术研发人员:陈鲲,房传礼,孟海峰,陈佳鹏,
申请(专利权)人:河南和方科技有限公司,
类型:新型
国别省市:河南;41
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