用于质量校准的系统和方法技术方案

一种方法包含从一或多个校准物质产生离子且将所述离子递送到质量分析器，以及测量来自所述一或多个校准物质的所述离子的第一组质量相关物理值。所述方法进一步包含从样本产生离子且将所述离子递送到质量分析器，以及测量第一样本离子物质的第二质量相关物理值。所述第一样本离子物质具有在所述校准离子物质的质荷比范围外的质荷比。另外，所述方法包含基于所述第一组质量相关物理值和第二质量相关物理值计算校准曲线，以及基于所述校准曲线修改至少一个仪表参数。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术大体上涉及质谱领域，包含用于质量校准的系统和方法。
技术介绍
质谱依赖于可与质荷比(m/z)有关的物理值的测量来确定样本内的离子物质或复合物的质量。高质量准确性需要对照具有已知m/z或质量的物质校准测得的物理值。校准通常通过使用产生具有已知m/z的多个离子物质的校准混合物来实现。然而，适合用于校准混合物中的离子的选择可能有限。从上文应了解，需要改进的用于质谱的校准方法。
技术实现思路
在第一方面中，一种方法可包含从一或多个校准物质产生离子且将所述离子递送到质量分析器，以及测量来自所述一或多个校准物质的离子的第一组质量相关物理值。所述方法可进一步包含从样本产生离子且将离子递送到质量分析器，以及测量第一样本离子物质的第二质量相关物理值。所述第一样本离子物质可具有在校准离子物质的质荷比范围外的质荷比。另外，所述方法可包含基于所述多个校准离子物质的所述第一组质量相关物理值和所述第一样本离子物质的第二质量相关物理值计算校准曲线；以及基于校准曲线修改至少一个仪表参数。在第一方面的各种实施例中，质量分析器可包含傅里叶变换质量分析器。在特定实施例中，仪表参数可选自由以下组成的群组：使m/z与离子频率相关的系数、图像电流的频率范围、数字化速率、图像电流的滤波器带宽，及其任何组合。在第一方面的各种实施例中，质量分析器可包含四极质量分析器或四极离子阱质量分析器。在特定实施例中，仪表参数可选自由以下组成的群组：RF电压、DC电压及其任何组合。在第一方面的各种实施例中，质量分析器可包含飞行时间质量分析器。在特定实施例中，仪表参数可选自由以下组成的群组：使m/z与飞行时间相关的系数、获取时间窗口、飞行管件清除脉冲时间及其任何组合。在第一方面的各种实施例中，所述样本可由气体层析仪表提供。在第一方面的各种实施例中，所述样本可由液体层析仪表提供。在第一方面的各种实施例中，所述方法可进一步包含：将包含第二样本离子物质的第二样本提供到质谱仪；使用来自校准的经修改仪表参数操作质谱仪；以及测量第二样本离子物质的第三质量相关物理值。在特定实施例中，所述方法可进一步包含基于第二样本内的第三样本离子物质的测得的质荷比将校准曲线移位以考虑校准曲线中的扫描特定漂移，其中仪表参数并不基于校准曲线的移位而改变。在特定实施例中，第二样本离子物质可具有在第一样本离子物质的质荷比和校准离子物质中的至少一者的质荷比的范围内的质荷比。在第一方面的各种实施例中，第一样本离子物质可具有在校准离子物质的质荷比范围以上的质荷比。在第一方面的各种实施例中，第一样本离子物质可具有在校准离子物质的质荷比范围以下的质荷比。在第二方面中，质谱仪可包含经配置以形成离子的离子源；经配置以测量离子的质量相关物理值的质量分析器；以及控制器。控制器可经配置以获得来自所述一或多个校准物质的离子的第一组质量相关物理值；获得第一样本离子物质的第二质量相关物理值；基于所述第一组质量相关物理值、所述第二质量相关物理值和来自所述一或多个校准物质和所述第一样本离子物质的离子的已知质荷比计算校准曲线；以及基于所述校准曲线修改质量分析器的操作。在第二方面的各种实施例中，质量分析器可包含傅里叶变换质量分析器。在特定实施例中，修改质量分析器的操作可包含修改使m/z与离子频率相关的系数、图像电流的频率范围、数字化速率、图像电流的滤波器带宽及其任何组合。在第二方面的各种实施例中，质量分析器可包含四极质量分析器或四极离子阱质量分析器。在特定实施例中，修改质量分析器的操作可包含修改RF电压、DC电压或其任何组合。在第二方面的各种实施例中，质量分析器可包含飞行时间质量分析器。在特定实施例中，修改质量分析器的操作可包含修改使m/z与飞行时间相关的系数、获取时间窗口、飞行管件清除脉冲时间或其任何组合。在第二方面的各种实施例中，质谱仪可进一步包含用于将样本供应到离子源的气体层析仪。在第二方面的各种实施例中，质谱仪可进一步包含用于将样本供应到离子源的液体层析仪。在第二方面的各种实施例中，所述控制器可进一步经配置以操作离子源以将包含第
二样本离子物质的第二样本提供到质谱仪；使用来自校准的经修改仪表参数操作质谱仪；以及获得第二样本离子物质的第三组质量相关物理值。在特定实施例中，所述控制器可进一步经配置以基于第二样本内的第三样本离子物质的测得的质荷比使校准曲线移位以考虑校准曲线中的扫描特定漂移，其中质量分析器的操作并不基于校准曲线的移位而改变。在第二方面的各种实施例中，第一样本离子物质可具有在校准离子物质的质荷比范围以上的质荷比。在第二方面的各种实施例中，第一样本离子物质可具有在校准离子物质的质荷比范围以下的质荷比。附图说明为了更加全面地理解本文中所揭示的原理以及其优点，现在参考结合附图获得的以下描述，其中：图1为根据各种实施例的示范性质谱系统的框图。图2A和2B是说明根据各种实施例当仅低质量离子用于校准时的外推误差的曲线图。图3为根据各种实施例用于校准质量分析器的示范性方法的流程图。图4为说明根据各种实施例的示范性计算机系统的流程框图。图5为当校准限于低质量校准离子时一组高质量离子的测得的m/z与理论m/z之间的示范性比较。图6为当校准限于低质量校准离子时作为m/z的函数的质量误差的示范性曲线图。图7为当校准包含低质量校准离子和高质量样本离子时一组高质量离子的测得的m/z与理论m/z之间的示范性比较。图8为当校准包含低质量校准离子和高质量样本离子时作为m/z的函数的质量误差的示范性曲线图。图9为当校准包含低质量校准离子和高质量样本离子以及锁定质量时一组高质量离子的测得的m/z与理论m/z之间的示范性比较。图10为当校准包含低质量校准离子和高质量样本离子以及锁定质量时作为m/z的函数的质量误差的示范性曲线图。应理解，图式不一定按比例绘制，图式中的物件也不一定相对于彼此按比例绘制。图式是意图引入本文中所揭示的设备、系统和方法的各种实施例的清晰性和对其的理解的描绘。只要可能，在图式中相同的参考标号将始终用于指代相同或相似的部件。此外，
应了解，附图并不打算以任何方式限制本专利技术教示的范围。具体实施方式本文中描述用于质量校准的系统和方法的实施例。本文所用的章节标题仅用于组织目的并且不应理解为以任何方式限制所描述的主题。在各种实施例的此详细描述中，出于解释的目的，阐述许多特定细节以提供对所揭示的实施例的透彻理解。然而，所属领域的技术人员将了解，这些各种实施例可以在具有或不具有这些特定细节的情况下实践。在其它情况下，结构和装置以框图形式示出。此外，所属领域的技术人员可以容易地了解，用以呈现和执行方法的特定次序为说明性的，且预期次序可以改变且仍保持在本文中所揭示的各种实施例的精神和范围内。本申请案中引用的所有文献和类似材料(包含(但不限于)专利、专利申请案、文章、书籍、论文和因特网网页)出于任何目的以全文以引用的方式明确地并入。除非另外描述，否则本文所用的所有技术和科学术语具有如本文所描述的各种实施例所属的领域的一般技术人员通常所了解的含义。应了解，在本教示中论述的温度、浓度、时间、压力、流动速率、横截面面积等之前存在隐含的“约”，使得略微和非实质偏差在本教示的范围内。在本申请案中，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种方法，其包括：从一或多个校准物质产生离子且将所述离子递送到质量分析器；测量来自所述一或多个校准物质的所述离子的第一组质量相关物理值；从样本产生离子且将所述离子递送到质量分析器，所述样本包含具有在所述校准离子物质的质荷比范围外部的质荷比的第一样本离子物质；测量所述第一样本离子物质的第二质量相关物理值；基于所述多个校准离子物质的所述第一组质量相关物理值和所述第一样本离子物质的第二质量相关物理值计算校准曲线；以及基于所述校准曲线修改至少一个仪表参数。

【技术特征摘要】
2015.03.25 US 62/138,2391.一种方法，其包括：从一或多个校准物质产生离子且将所述离子递送到质量分析器；测量来自所述一或多个校准物质的所述离子的第一组质量相关物理值；从样本产生离子且将所述离子递送到质量分析器，所述样本包含具有在所述校准离子物质的质荷比范围外部的质荷比的第一样本离子物质；测量所述第一样本离子物质的第二质量相关物理值；基于所述多个校准离子物质的所述第一组质量相关物理值和所述第一样本离子物质的第二质量相关物理值计算校准曲线；以及基于所述校准曲线修改至少一个仪表参数。2.根据权利要求1所述的方法，其中所述质量分析器包含傅里叶变换质量分析器。3.根据权利要求2所述的方法，其中所述仪表参数选自由以下组成的群组：使m/z与离子频率相关的系数、图像电流的频率范围、数字化速率、图像电流的滤波器带宽，及其任何组合。4.根据权利要求1所述的方法，其中所述质量分析器包含四极质量分析器或四极离子阱质量分析器。5.根据权利要求4所述的方法，其中所述仪表参数选自由以下组成的群组：RF电压、DC电压及其任何组合。6.根据权利要求1所述的方法，其中所述质量分析器包含飞行时间质量分析器。7.根据权利要求6所述的方法，其中所述仪表参数选自由以下组成的群组：使m/z与飞行时间相关的系数、获取时间窗口、飞行管件清除脉冲时间及其任何组合。8.根据权利要求1所述的方法，其中所述样本由气体层析仪表提供。9.根据权利要求1所述的方法，其中所述样本由液体层析仪表提供。10.根据权利要求1所述的方法，其进一步包括：将第二样本提供到所述质谱仪，所述样本包含第二样本离子物质；使用来自所述校准的所述经修改仪表参数操作所述质谱仪；以及测量所述第二样本离子物质的第三质量相关物理值。11.根据权利要求10所述的方法，其进一步包括：基于所述第二样本内的第三样本离子物质的测得的质荷比使所述校准曲线移位以考虑所述校准曲线中的扫描特定漂移，其中所述仪表参数并不基于所述校准曲线的所述移位而改变。12.根据权利要求10所述的方法，其中所述第二样本离子物质具有在所述第一样本离子物质的所述质荷比和所述校准离子物质中的至少一者的所述质荷比的范围内的质荷比。13.根据权利要求1所述的方法，其中所述第一样本离子物质具有在所述校准离子物质的所述质荷比范围以上的质荷比。14.根据权利要求1所述的方法，其中所述第一样本离子物质具...

【专利技术属性】
技术研发人员：S·T·夸姆比，G·B·古肯博格，
申请(专利权)人：萨默费尼根有限公司，
类型：发明
国别省市：美国;US