一种杀菌防辐射的耐磨仪表盘或照相机视窗及其制造方法技术

本发明专利技术公开了一种杀菌防辐射的耐磨仪表盘或照相机视窗及其制造方法，仪表盘或照相机视窗包括基板，基板的外表面从里到外依序设有第一膜层、第二膜层和第三膜层，第一膜层为纳米银层，第二膜层为ITO层，第三膜层为高硬度层。其制造方法包括以下步骤：1）对基板进行清洗；2）对基板的外表面进行镀膜。本发明专利技术的仪表盘或照相机视窗利用纳米银层使其拥有杀菌能力，保证了仪表盘或照相机视窗足够的杀菌能力，利用ITO层的设置有效的切断对人体有害的电子辐射、紫外线及远红外线，起到了防辐射的效果，其高硬度层能够显著提高仪表盘或照相机视窗的耐磨性。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种杀菌防辐射的耐磨仪表盘或照相机视窗及其制造方法。
技术介绍
现有的仪表盘或照相机视窗较少有杀菌功能，人们在使用过程中通过触摸的需要容易从仪表盘或照相机视窗上感染细菌，或带给仪表盘或照相机视窗外表面细菌，给人体造成交叉感染，影响使用者身心健康。现有的仪表盘或照相机视窗也不具有防辐射、防紫外线等功能。另外，现有的仪表盘或照相机视窗在使用过程中很容易被刮花或蹭花，影响美观，更严重的是，仪表盘或照相机视窗的表面刮花或蹭花后，内层暴露在空气中，容易受腐蚀，影响使用寿命。因此市场上迫切需要出现具有杀菌、防辐射、耐磨等多功能的仪表盘或照相机视窗来取代现有的仪表盘或照相机视窗。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种杀菌防辐射的耐磨仪表盘或照相机视窗及其制造方法，该方法制造出来的仪表盘或照相机视窗具有防止细菌或辐射对人体的伤害，而且具有高度耐磨性。为实现上述目的，本专利技术采用以下技术方案：一种杀菌防辐射的耐磨仪表盘或照相机视窗, 包括基板，其特征在于：所述基板的外表面从里到外依序设有第一膜层、第二膜层和第三膜层，所述第一膜层为纳米银层，第一膜层的厚度为5-20nm；所述第二膜层本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种杀菌防辐射的耐磨仪表盘或照相机视窗，包括基板，其特征在于：所述基板的外表面从里到外依序设有第一膜层、第二膜层和第三膜层，所述第一膜层为纳米银层，第一膜层的厚度为5‑20nm；所述第二膜层为ITO层，第二膜层的厚度为10‑100nm；第三膜层为高硬度层，第三膜层的厚度为10‑50nm。

【技术特征摘要】
1.一种杀菌防辐射的耐磨仪表盘或照相机视窗，包括基板，其特征在于：所述基板的外表面从里到外依序设有第一膜层、第二膜层和第三膜层，所述第一膜层为纳米银层，第一膜层的厚度为5-20nm；所述第二膜层为ITO层，第二膜层的厚度为10-100nm；第三膜层为高硬度层，第三膜层的厚度为10-50nm。2.根据权利要求1所述的一种杀菌防辐射的耐磨仪表盘或照相机视窗，其特征在于：所述纳米银层的膜材为银的氧化物，并由电子枪蒸镀成型。3.根据权利要求2所述的一种杀菌防辐射的耐磨仪表盘或照相机视窗，其特征在于：所述银的氧化物为Ag2O、AgO或Ag2O3。4.根据权利要求1所述的一种杀菌防辐射的耐磨仪表盘或照相机视窗，其特征在于：所述ITO层的膜材为ITO，并由电子枪蒸镀成型。5.根据权利要求1所述的一种杀菌防辐射的耐磨仪表盘或照相机视窗，其特征在于：所述高硬度层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或一氧化硅晶体，并由电子枪蒸镀成型。6.根据权利要求1所述的一种杀菌防辐射的耐磨仪表盘或照相机视窗，其特征在于：所述基板为树脂或玻璃成型。7. 根据权利要求6所述一种杀菌防辐射的耐磨仪表盘或照相机视窗的制造方法，其特征在于：所述仪表盘或照相机视窗的基板为树脂成型时，所述制造方法具体包括以下步骤：1）对基板的外表面进行清洗；2）对基板的外表面进行镀膜；A、镀第一膜层：将真空镀膜舱内的真空度调整至大于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第一膜层的膜材银的氧化物，第一膜层的膜材银的氧化物蒸发后分解，以纳米银形式在基板的外表面形成薄层，同时控制第一膜层蒸镀的速率为1Å/S，第一膜层最终形成后的厚度为5-20nm；B、镀第二膜层：保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第二膜层的膜材，第二膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层的表面，同时控制第二膜层蒸镀的速率为1Å/S，第二膜层最终形成后的厚度为10-100nm，其中第二膜层的膜材为过ITO；C、镀第三膜层：保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴晓彤，方俊勇，
申请(专利权)人：奥特路漳州光学科技有限公司，
类型：发明
国别省市：福建;35