一种清洗装置及采用该装置的清洗方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种清洗装置及采用该装置的清洗方法，清洗装置包括：第一清洗槽体处于保护腔体中的第一空间，第二清洗槽体处于保护腔体中的第二空间；第一清洗槽体与第二清洗槽体由隔离装置隔离；隔离装置包括隔离物与隔离容器，其中：隔离物一端置于隔离容器中，隔离物另一端固定于保护腔体顶部，在隔离容器中有隔离液体时，隔离物将第一空间与第二空间隔离。清洗时：在第一清洗槽体清洗完毕后取出并放置于隔离容器中，并将欲清洗物品从隔离容器处于第一空间的一侧传送到处于第二空间的一侧；将欲清洗物品从隔离容器中取出并放置于第二清洗槽体。本发明专利技术解决了在清洗过程中清洗液之间的相互交叉污染问题和安全问题；能够连续清洗，提高清洗效率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及电子元器件清洗
，特别涉及一种清洗装置及采用该装置的清洗方法。
技术介绍
随着制造技术的发展，特别是太阳能电池、半导体、光学器件、精密仪器等的发展，对物品表面清洁度的要求越来越高，这就要求在清洗过程中确保清洗溶液的洁净度，而有些清洗溶液容易挥发，相邻的不同类型清洗溶液的挥发汽就会发生相互反应，导致清洗溶液被污染。目前在半导体行业普遍采用的是1965年由Kern和Puotinen等人在N.J.Princeton的RCA实验室首创并由此而得名的RCA清洗，RCA清洗过程中会用到氨水、双氧水、硝酸、氢氟酸、硫酸、硝酸等清洗溶液，其中部分溶液易挥发，而挥发汽相互混合不仅会产生新的杂质，还会有很大的安全隐患，因此各溶液之间的隔离显得非常重要。常规的清洗装置有单槽清洗装置、开放式清洗装置。图1为单槽清洗装置示意图，如图所示，单槽清洗装置中的每个槽体都有一个保护腔体，在图中，一号槽、二号槽、三号槽分别对应三个单独的保护腔体，使用单槽清洗装置进行清洗的方法是：机械臂每次将清洗物品从一号槽清洗之后取出放到保护腔体外，放置到另一个保护腔体中的二号槽，二号槽冲洗之后取出再放到保护腔体外，然后再放到另一个保护腔体中的三号槽，三号槽清洗后再取出，清洗顺序可以作调整但是只能一个槽出来之后放到保护腔体外，然后再进入另一个保护腔体中的其他槽位进行清洗，这样清洗可以很好的避免相邻溶液的污染。图2为开放式清洗装置示意图，如图所示，开放式清洗装置中多个槽体共
用同一个保护腔体，在图中，一号槽、二号槽、三号槽共用一个单独的保护腔体，清洗物品从保护腔体的一端进入清洗线，并从保护腔体的另一端取出，清洗方法是：机械臂每次将清洗物品从清洗线一端放入一号槽，清洗之后通过机械臂从一号槽取出依次放入到二号槽、三号槽，这样清洗可以实现连续清洗作业。现有技术的不足在于：单槽清洗装置无法进行连续性清洗，大大降低了清洗效率，而开放式清洗装置无法避免因清洗溶液的挥发性汽体及蒸汽，溶液相互混合之后还会反应生成新的化学物质，有的甚至会产生有毒、易燃、易爆的物质，给安全生产带来隐患，同时溶液交叉污染会降低清洗效果，溶液被污染之后只能进行换液，增加了清洗成本。
技术实现思路
本专利技术提供了一种清洗装置及采用该装置的清洗方法，用以在进行连续清洗时，避免相邻清洗槽之间因挥发性汽体、溶液喷溅造成的交叉污染以及产生的安全隐患。本专利技术实施例中提供了一种清洗装置，包括：保护腔体、第一清洗槽体、第二清洗槽体以及隔离装置，其中：所述第一清洗槽体、所述第二清洗槽体以及所述隔离装置置于保护腔体中，所述第一清洗槽体处于所述保护腔体中的第一空间，所述第二清洗槽体处于所述保护腔体中的第二空间；所述隔离装置包括隔离物与隔离容器，其中：所述隔离物一端置于所述隔离容器中，所述隔离物另一端固定于所述保护腔体顶部，在所述隔离容器中有隔离液体时，所述隔离物将所述第一空间与所述第二空间隔离。较佳地，进一步包括：传送装置，所述传送装置在所述隔离容器的底部，用于将所述隔离容器中的物品从所述隔离容器处于所述第一空间的一侧传送
到处于所述第二空间的一侧。较佳地，所述传送装置为以下一种或者其组合的装置：传送皮带、传送链条、传送板。较佳地，所述隔离容器的宽度与所述保护腔体的宽度相同，所述隔离物的宽度与所述保护腔体的宽度相同。较佳地，所述隔离容器的宽度小于所述保护腔体的宽度，所述隔离物包括第一部分与第二部分，其中，第一部分固定在所述保护腔体两侧侧壁，该部分的高度与所述保护腔体的高度相同，该部分的宽度为所述保护腔体侧壁到所述隔离容器侧壁的距离；第二部分固定在所述保护腔体顶端，该部分的下端浸入隔离液体中，该部分的两侧卡合在第一部分的侧面。较佳地，所述隔离物为伸缩式或者折叠式的板状结构。较佳地，所述保护腔体为方形。本专利技术实施例中还提供了一种采用上述的清洗装置的清洗方法，包括：将欲清洗物品放置于所述第一清洗槽体；在所述第一清洗槽体清洗完毕后取出并放置于所述隔离容器中，并将所述欲清洗物品从所述隔离容器处于所述第一空间的一侧通过所述隔离物后传送到处于所述第二空间的一侧；将所述欲清洗物品从所述隔离容器中取出并放置于所述第二清洗槽体。较佳地，将所述欲清洗物品从所述隔离容器处于所述第一空间的一侧通过所述隔离物后传送到处于所述第二空间的一侧是通过所述传送装置传送的。较佳地，所述欲清洗物品是晶硅电池用硅片、半导体晶圆或光学透光材料。本专利技术有益效果如下：在本专利技术实施例提供的技术方案中，第一清洗槽体与第二清洗槽体由隔离装置隔离；隔离装置中包括隔离物与隔离容器，隔离物一端置于隔离容器中，在隔离容器中有隔离液体时，隔离物将处于保护腔体中第一空间的第一清洗槽体与处于保护腔体第二空间的第二清洗槽体隔离。在清洗时，在第一清洗槽体清洗完毕后取出并放置于隔离容器中，并将欲清洗物品从隔离容器处于第一空间的一侧传送到处于第二空间的一侧后，即可将欲清洗物品取出并放置于第二清洗槽体进行清洗。由于在隔离容器中有隔离液体时，隔离物与隔离容器一起配合使用起到了隔离作用，因此隔离物可以将处于保护腔体中第一空间的第一清洗槽体与处于保护腔体第二空间的第二清洗槽体隔离，而位于第一清洗槽体中的第一清洗溶液与位于第二清洗槽体中的第二清洗溶液挥发后分别位于第一空间与第二空间，并不会产生交叉污染和/或相互反应；并且，欲清洗物品可以通过隔离容器从第一空间进入第二空间，也即实现了在隔离状态下由第一清洗槽体进入第二清洗槽体。所以，在本专利技术实施例提供的技术方案中，通过隔离装置的隔离作用能够避免不同易挥发清洗液的挥发汽体、蒸汽之间的混合反应，解决了在清洗过程中清洗液之间的相互交叉污染问题和安全问题；同时能够实现连续清洗作业，提高清洗效率。附图说明此处所说明的附图用来提供对本专利技术的进一步理解，构成本专利技术的一部分，本专利技术的示意性实施例及其说明用于解释本专利技术，并不构成对本专利技术的不当限定。在附图中：图1为
技术介绍
中的单槽清洗装置示意图；图2为
技术介绍
中的开放式清洗装置示意图；图3为本专利技术实施例中清洗装置结构示意图；图4为本专利技术实施例中采用清洗装置的清洗方法实施流程示意图；图5为本专利技术实施例中隔离容器的宽度与保护腔体的宽度相同时的关系示意图；图6为本专利技术实施例中隔离容器的宽度小于保护腔体的宽度相同时的关系
示意图。具体实施方式本专利技术实施例中将提供一种清洗装置以及采用该装置进行清洗的方法，该清洗装置能够解决在清洗过程中清洗液之间的相互交叉污染问题和安全问题，避免易挥发清洗液的挥发汽体、蒸汽之间的混合反应；同时能够实现连续清洗作业，提高清洗效率。下面结合附图对本专利技术的具体实施方式进行说明。在说明过程中，将首先说明清洗装置的方案，然后说明采用清洗装置进行清洗的方案，最后在对二者的结构及使用之间的实施进行说明。图3为清洗装置结构示意图，如图所示，包括：保护腔体301、第一清洗槽体302、第二清洗槽体303以及隔离装置304，图中隔离装置是以虚线框出示意的，清洗装置中：第一清洗槽体、第二清洗槽体以及隔离装置置于保护腔体中，第一清洗槽体处于保护腔体中的第一空间，第二清洗槽体处于保护腔体中的第二空间；第一清洗槽体与第二清洗槽体由隔离装置隔离；隔离装置包括隔离物3041与本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种清洗装置，其特征在于，包括：保护腔体、第一清洗槽体、第二清洗槽体以及隔离装置，其中：所述第一清洗槽体、所述第二清洗槽体以及所述隔离装置置于保护腔体中，所述第一清洗槽体处于所述保护腔体中的第一空间，所述第二清洗槽体处于所述保护腔体中的第二空间；所述隔离装置包括隔离物与隔离容器，其中：所述隔离物一端置于所述隔离容器中，所述隔离物另一端固定于所述保护腔体顶部，在所述隔离容器中有隔离液体时，所述隔离物将所述第一空间与所述第二空间隔离。

【技术特征摘要】
1.一种清洗装置，其特征在于，包括：保护腔体、第一清洗槽体、第二清洗槽体以及隔离装置，其中：所述第一清洗槽体、所述第二清洗槽体以及所述隔离装置置于保护腔体中，所述第一清洗槽体处于所述保护腔体中的第一空间，所述第二清洗槽体处于所述保护腔体中的第二空间；所述隔离装置包括隔离物与隔离容器，其中：所述隔离物一端置于所述隔离容器中，所述隔离物另一端固定于所述保护腔体顶部，在所述隔离容器中有隔离液体时，所述隔离物将所述第一空间与所述第二空间隔离。2.如权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，进一步包括：传送装置，所述传送装置在所述隔离容器的底部，用于将所述隔离容器中的物品从所述隔离容器处于所述第一空间的一侧传送到处于所述第二空间的一侧。3.如权利要求2所述的清洗装置，其特征在于，所述传送装置为以下一种或者其组合的装置：传送皮带、传送链条、传送板。4.如权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述隔离容器的宽度与所述保护腔体的宽度相同，所述隔离物的宽度与所述保护腔体的宽度相同。5.如权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述隔离容器的宽度小于所述保护腔体的宽度，所述隔离物包括第一部分与第二...

【专利技术属性】
技术研发人员：侯洪涛，田小让，谷士斌，张林，赵冠超，徐湛，杨荣，李立伟，郭铁，
申请(专利权)人：新奥光伏能源有限公司，
类型：发明
国别省市：河北;13