一种用于光学元器件表面粗抛的精磨片制造技术

本发明专利技术公开了一种用于光学元器件表面粗抛的精磨片，珩磨油石的组成成份及重量百分比为：铜粉70～88%，锡粉10～20%，银粉1～5%，金刚石1～5%(粒度范围W40～W5)。按上述配比将原料经过混料和真空热压工艺制得精磨片。本发明专利技术产品具有同时满足尺寸公差、粗糙度、加工效率和使用寿命等综合加工要求的特点。解决类似关系元器件表面抛光效率低和抛光质量不稳定等问题，常用于加工光学及相关部件的流水线配套。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于精密光学冷加工领域，具体涉及一种用于光学元器件表面粗抛的精磨片。
技术介绍
光学冷加工主要生产光学元器件，为光学仪器、光电子图像信息处理产品等的下游行业提供镜片、镜头等光学元件。比如数码相机、拍照手机、扫描仪、投影仪、背投电视、DVD机、条形码阅读机等光学仪器和光电数码产品。光学冷加工从材质上区分，有玻璃和塑胶两大类。玻璃镜片分为平面镜和透镜两大类，其中平面镜包括平板玻璃和棱镜，透镜则包括了球面镜和非球面鏡。光学冷加工的主要工艺有压型、切削、铣磨、精磨、抛光、磨边、接合、镀膜等。全球光学冷加工业的最顶端技术主要掌握在日本、美国和德国厂商手上，其中日本掌握了全球光学冷加工技术的主要来源。随着近年以来现代光电技术的大发展，光学技术发达国家纷纷调整自身产业结构和产业发展方向，逐渐退出传统光学加工领域，向现代、高端光电产品的制造、研发集中；中国台湾、中国大陆则逐渐成为全世界光学冷加工的制造中心。光学冷加工工艺的核心技术是精磨和抛光，精磨和抛光使用金刚石精磨片。目前，我国生产的金刚石精磨片只能用于质量要求不高的玻璃制品的抛光，高端的光学器件抛光仍需使用进口的金刚石精磨片。因此，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于光学元器件表面粗抛的精磨片，是由金刚石和金属结合剂组成的；金属结合剂材料包含有铜粉、锡粉和银粉。

【技术特征摘要】
1.一种用于光学元器件表面粗抛的精磨片，是由金刚石和金属结合剂组成的；金属结合剂材料包含有铜粉、锡粉和银粉。2. 根据权利要求1所述的精磨片，精磨片的组成成份及重量百分比为：铜粉 70～88%，锡粉 10～20%，银粉 1～5%，金刚石 ...

【专利技术属性】
技术研发人员：韩平，李文凤，邹文俊，彭进，侯永改，
申请(专利权)人：河南工业大学，
类型：发明
国别省市：河南;41