【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种基于多棱镜扫描技术的垂直曝光设备。
技术介绍
直写式光刻技术是近年来发展较快的、以替代传统的掩膜板式光刻技术的影像直接转移技术，在半导体及PCB生产领域中有着越来越重要的地位。利用该技术可以缩短工艺流程，并降低生产成本。目前市场上主流的直写式光刻机多以单工件台方式进行扫描曝光，先将被曝光工件的A面曝光完成后，再进行翻版，然后对B面进行曝光。在单工件台系统中，用于曝光的基板的上板、对准、曝光、下板是依次进行的。依据目前的结构系统，各操作流程均已经达到耗时的上限，很难再缩短某个操作步骤的操作时间，即单工件台的直写式光刻机由于各操作流程的串行性质，已很难再提高产能。
技术实现思路
针对上述现有技术存在的问题，本技术提供一种基于多棱镜扫描技术的垂直曝光设备，能够对PCB板进行双面曝光。为了实现上述目的，本技术采用的技术方案是：一种基于多棱镜扫描技术的垂直曝光设备，包括工件传输定位系统、多棱镜曝光系统、设备基础底座，所述的工件传输定位系统与设备基础底座之间放置被曝光工件，被曝光工件垂直于设备基础底座和工件传输定位系统，被曝光工件两侧对称布置有多棱镜曝光系统，所述的被曝光工件为PCB板。所述的工件传输定位系统与设备基础底座之间放置至少两个被曝光工件，每个被曝光工件两侧均对称布置有多棱镜曝光系统。本装置还配套数据控制系统。本技术在工件传输定位系统与设备基础底座之间放置被曝光工件，被曝光工件两侧对称布置有多棱镜曝光系统，被曝光工件为PCB板，这样的对称布置在PCB板两侧，可同时PCB板进行双面曝光，而且可以对多个PCB板进行双面曝光。附图说明图1是本技术的结构...
【技术保护点】
一种基于多棱镜扫描技术的垂直曝光设备，其特征在于，包括工件传输定位系统、多棱镜曝光系统、设备基础底座，所述的工件传输定位系统与设备基础底座之间放置被曝光工件，被曝光工件垂直于设备基础底座和工件传输定位系统，被曝光工件两侧对称布置有多棱镜曝光系统，所述的被曝光工件为PCB板。
【技术特征摘要】
1.一种基于多棱镜扫描技术的垂直曝光设备，其特征在于，包括工件传输定位系统、多棱镜曝光系统、设备基础底座，所述的工件传输定位系统与设备基础底座之间放置被曝光工件，被曝光工件垂直于设备基础底座和工件传输定位系统，被曝光工件两侧对称布置有多棱镜曝光系统，所述的被曝光工件为PCB板。2....
【专利技术属性】
技术研发人员：赵华，张伟，徐巍，王翰文，马汝治，
申请(专利权)人：江苏影速光电技术有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32
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