【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及了一种相控聚焦装置，特别是涉及了一种带有球面形压电陶瓷片的相控聚焦装置。
技术介绍
目前，HIFU(高能聚焦超声)抗癌热疗机中，相控聚焦装置中发射器的形状通常为凹面或凹面的组合，虽然这种形状的发射器在发射的方向上，其聚焦准确，但是在与发射方向垂直的方向上，其聚焦范围较窄，平面振元开角11°左右，只能在发射方向±5°的范围内产生聚焦，人们为了克服这一缺陷，采取了许多措施，进行了许多改进，例如为了增加发射器的聚焦范围。人们让发射器在电机的带动下进行旋转，虽然它解决了发射器聚焦范围过小的问题，但是它同时带来了新的弊病，如机械运动带来治疗时间的延长、在发射器旋转的瞬间遗失了目标、投照位置的变化增加了超声波传导通导被阻挡的几率；人们还采用改变相控角和频率等的方式来增加聚焦范围，但是大量的实验表明，上述方式达不到人们所企望的立体聚焦。由此可见，目前人们仍然没有从根本上解决发射器的聚焦范围过小的问题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种带有球面形压电陶瓷片的相控聚焦阵装置，以克服现有相控聚焦装置的缺陷。为了实现上述目的，本专利技术采用以下技术方案本专利技术...
【技术保护点】
一种相控聚焦装置，它包括：发射器（３），发射器（３）包括至少１０个振元，每个振元包括：基座（２）、压电陶瓷片（１）、频率源（６）、功率器（１０）、电源（８）、移相器（７）和分频器（９），其中：压电陶瓷片（１）和频率源（６）固定在基座（２）上，基座（１）固定在发射器（３）上，电源（８）分别与移相器（７）和分频器（９）的输入端相连，移相器（７）和分频器（９）的输出端分别与功率器（１０）的输入端相连，功率器（１０）的输出端与频率源（６）相连，其特征在于：所述压电陶瓷片（２）是半球面。
【技术特征摘要】
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。