一种标准单元库的优化方法及系统技术方案

本发明专利技术提供一种标准单元库的优化方法，在进行电路级别的光学仿真之前，先进行标准单元的版图布局，进而进行单一标准单元版图的光学仿真，这样，可以对标准单元先进行光学仿真的优化，减少了后续优化和流片的次数，大大提高了设计效率，降低优化难度，进而提高了设计的可靠性，尤其适用于新工艺节点下的标准单元库的设计和优化。

【技术实现步骤摘要】
201610173678

【技术保护点】
一种标准单元库的优化方法，其特征在于，包括：S01，提供初始的标准单元库；S02，将标准单元库中的标准单元依次进行布局，获得单一标准单元版图；S03，对单一标准单元版图进行第一光学仿真，对第一光学仿真结果中存在热点区域的标准单元进行优化并将优化后的标准单元更新至标准单元库；重复步骤S02和S03，直到通过第一光学仿真；S04，利用标准单元库进行版图设计，以获得测试版图；S05，对测试版图进行第二光学仿真，对第二光学仿真结果中存在热点区域的标准单元进行优化并将优化后的标准单元更新至标准单元库；重复步骤S02至S05，直到光学仿真结果中在标准单元内不存在热点区域；S06，按照测试版图进行芯片制造；S07，进行芯片级的测试，若芯片级的测试结果中存在缺陷区域，则对相应的缺陷区域进行优化并将优化后的缺陷区域所在的标准单元更新至标准单元库；重复步骤S02至S07，直到通过芯片级的测试。

【技术特征摘要】
1.一种标准单元库的优化方法，其特征在于，包括：S01，提供初始的标准单元库；S02，将标准单元库中的标准单元依次进行布局，获得单一标准单元版图；S03，对单一标准单元版图进行第一光学仿真，对第一光学仿真结果中存在热点区域的标准单元进行优化并将优化后的标准单元更新至标准单元库；重复步骤S02和S03，直到通过第一光学仿真；S04，利用标准单元库进行版图设计，以获得测试版图；S05，对测试版图进行第二光学仿真，对第二光学仿真结果中存在热点区域的标准单元进行优化并将优化后的标准单元更新至标准单元库；重复步骤S02至S05，直到光学仿真结果中在标准单元内不存在热点区域；S06，按照测试版图进行芯片制造；S07，进行芯片级的测试，若芯片级的测试结果中存在缺陷区域，则对相应的缺陷区域进行优化并将优化后的缺陷区域所在的标准单元更新至标准单元库；重复步骤S02至S07，直到通过芯片级的测试。2.根据权利要求1所述的标准单元库的优化方法，其特征在于，在步骤S01中，通过另一标准单元库进行尺寸微缩获得初始的标准单元库。3.根据权利要求1或2所述的标准单元库的优化方法，其特征在于，在S02中还包括：将标准单元库中至少任意两个标准单元组合后进行布局，以获得组合标准单元版图；则，在步骤S03中还包括：以及对组合标准单元版图进行第一光学仿真。4.根据权利要求3所述的标准单元库的优化方法，其特征在于，在步骤S03中还包括：在标准单元优化之后，若在组合标准单元版图的标准单元之间仍存在热点区域，则对这些热点区域进行设计规则的优化，优化的设计规则用于设计规则库的建立。5.根据权利要求4所述的标准单元库的优化方法，其特征在于，在步骤S05中，还包括：在标准单元优化之后，若在标准单元之间仍存在热点区域，则对这些热点区域进行设计规则的优化，优化的设计规则用于设计规则库的建立；以及在步骤S07中，还包括：在缺陷区域进行优化之后，若在标准单元之间仍存在缺陷区域，则对这些缺陷区域进行设计规则的优化，优化的设计规则用于设计规则库的建立。6.一种标准单元库...

【专利技术属性】
技术研发人员：韦亚一，赵利俊，粟雅娟，
申请(专利权)人：中国科学院微电子研究所，
类型：发明
国别省市：北京;11