测量高功率激光聚焦光斑强度分布的衰减装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及高功率激光聚焦光斑强度分布测量分析领域，尤其指一种测量高功率激光聚焦光斑强度分布的衰减装置。所述激光束依次经过聚焦系统、第一反射镜、第二反射镜和光束分析仪；所述激光束经过聚焦系统形成聚焦光斑，经过第一反射镜、第二反射镜形成轴外点；由第一反射镜和第二反射镜组成的一倍远心反射式成像系统；第一反射镜的第一球面和第二反射的第二球面共球心，且第一球面的曲率半径是第二球面的曲率半径的两倍；所述聚焦光斑位于反射镜组的球心面的轴外，成像于轴外点，即对称分布在光轴两侧；光束分析仪对轴外点的成像光斑进行分析，直接测量聚焦光斑分布。

【技术实现步骤摘要】
201610254397

【技术保护点】
测量高功率激光聚焦光斑强度分布的衰减装置，其特征是：所述激光束（10）依次经过聚焦系统（20）、第一反射镜（40）、第二反射镜（50）和光束分析仪（70）；所述激光束（10）经过聚焦系统（20）形成聚焦光斑（30），经过第一反射镜（40）、第二反射镜（50）形成轴外点（60）；由第一反射镜（40）和第二反射镜（50）组成的一倍远心反射式成像系统（100射镜（40）的第一球面（41）和第二反射（50）的第二球面（51）共球心，且第一球面（41）的曲率半径是第二球面（51）的曲率半径的两倍；激光束（10）通过反射式成像系统的多次部分反射，使入射的激光束（10）多次衰减，并达到可以探测的强度水平；所述聚焦光斑（30）位于反射镜组的球心面的轴外，成像于轴外点（60），即对称分布在光轴两侧；光束分析仪（70）对轴外点（60）的成像光斑进行分析，获得强度分布。

【技术特征摘要】
1.测量高功率激光聚焦光斑强度分布的衰减装置，其特征是：所述激光束（10）依次经过聚焦系统（20）、第一反射镜（40）、第二反射镜（50）和光束分析仪（70）；所述激光束（10）经过聚焦系统（20）形成聚焦光斑（30），经过第一反射镜（40）、第二反射镜（50）形成轴外点（60）；由第一反射镜（40）和第二反射镜（50）组成的一倍远心反射式成像系统（100射镜（40）的第一球面（41）和第二反射（50）的第二球面（51）共球心，且第一球面（41）的曲率半径是第二球面（51）的曲率半径的两倍；激光束（10）通过反射式成像系统的多次部分反射，使入射的激光束（10）多次衰减，并达到可以探测的强度水平；所述聚焦光斑（30）位于反射镜组的球心面的轴外，成像于轴外点（60），即对称分布在光轴两侧；光束分析仪（70）对轴外点（60）的成像光斑进行分析，获得强度分布。2.根据权利要求1所述的测量高功率激光聚焦光斑强度分布的衰减装置，其特征是...

【专利技术属性】
技术研发人员：鄢雨，吴秀榕，梁小生，
申请(专利权)人：湖南戴斯光电有限公司，
类型：发明
国别省市：湖南;43