投影机制造技术

本发明专利技术提供一种投影机，包括光源、数位微镜装置、镜头和遮光装置，本发明专利技术设计观念为利用遮光装置，使得数位微镜装置发出的抛弃光束入射遮光装置，且遮光装置的第一反射面和第二反射面呈第一夹角，该第一夹角小于90度，借此减少射出镜头的该抛弃光束，实现有效提升投影画面的对比度。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术提供一种投影机，包括光源、数位微镜装置、镜头和遮光装置，本专利技术设计观念为利用遮光装置，使得数位微镜装置发出的抛弃光束入射遮光装置，且遮光装置的第一反射面和第二反射面呈第一夹角，该第一夹角小于90度，借此减少射出镜头的该抛弃光束，实现有效提升投影画面的对比度。【专利说明】投影机
本专利技术描述一种投影机，尤指一种低漏光的投影机。
技术介绍
投影仪是一种可以将图像或者视频投射到屏幕上的设备，可以通过不同的接口同 计算机、￥00、0￥030、游戏机、0￥等相连接播放相应的视频信号，达到大屏幕的投影显示方 式来提供收看者极佳的呈现与视觉效果。随着电子技术的不断发展，投影仪广泛用于教育、 商业和家庭中。根据投影仪工作原理的不同可分为阴极射线管投影仪(CRT)，液晶投影仪 (LCD)和数码光学处理器投影仪(DLP)。其中数码光学处理器投影仪的成像原理为:光源发 出的光线经过多个光学元件传递至处于开启状态的数位微镜装置(Digital Micro-mirror Device)，并藉由处于开启状态的数位微镜装置转换为成像光后由投影镜头射出以产生投 射影像，即将微小影像投影到巨幅荧幕上，并提供足够的亮度，将影像资讯分享给众人。而 当数位微镜装置处于关闭状态时，数位微镜装置反射出的抛弃光束会部分射出投影镜头， 而降低影像画面的对比度，影响成像品质。 因此，有必要设计一种新的投影机，以克服上述缺陷。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种投影机，其可有效防止漏光，提高成像品质。 为达上述目的，本专利技术提供一种投影机，包含： 光源，发出入射光；数位微镜装置，用以接收并反射该入射光以形成成像光或者抛弃光束；镜头，位于该成像光的传递路径上，用以接收并投射该成像光；以及 遮光装置，位于该抛弃光束的传递路径上，用于接收并反射该抛弃光束；其中，该遮光装置具有第一反射面和第二反射面，该第一反射面和该第二反射面 具有第一夹角，该第一夹角小于90度。 较佳的，该抛弃光束于该第一反射面和该第二反射面上进行至少两次反射。 较佳的，该抛弃光束入射该第一反射面，经由该第一反射面反射至该第二反射面， 并被该第二反射面反射。较佳的，该第一夹角为69.2度。 较佳的，该第一反射面和该第二反射面上设置有抗反射层或者吸光层。 较佳的，该遮光装置由金属材料制成。 较佳的，经该遮光装置反射后的该抛弃光束以远离该镜头的方向射出。 较佳的，该数位微镜装置具有反射面，该反射面用以接收并反射该入射光，该第一 反射面朝向该数位微镜装置的该反射面，该第二反射面背向该镜头。 较佳的，还包括第一腔体，设置于该光源、该数位微镜装置和该镜头之间，该镜头 的入光口连接于该第一腔体，该遮光装置位于该第一腔体内。 较佳的，还包括棱镜系统，设置于该第一腔体内，该棱镜系统用于接收并传递该入 射光至该数位微镜装置，将该成像光传递至该镜头，以及将该抛弃光束传递至该遮光装置。 较佳的，还包括反射罩，该反射罩设置于该第一腔体内且位于该棱镜系统的远离 该数位微镜装置的一侧，该遮光装置设置于该反射罩上且位于该反射罩的邻近该镜头的一 端。 较佳的，该第一反射面设置于该棱镜系统的远离该数位微镜装置的一侧，该第二 反射面设置于该棱镜系统和该镜头之间。 与现有技术相对比，本专利技术提供一种投影机，其设计观念为利用遮光装置，使得数 位微镜装置发出的抛弃光束入射遮光装置，且遮光装置的第一反射面和第二反射面呈第一 夹角，该第一夹角小于90度，借此衰减该抛弃光束的能量，减少射出镜头的该抛弃光束以避 免镜头漏光，实现有效提升投影画面的对比度。【附图说明】 图1为本专利技术实施例投影机于第一状态的剖面示意图。 图2为本专利技术实施例投影机于第二状态的剖面示意图 图3为本专利技术实施例投影机的第一腔体的结构示意图。 图4为本专利技术实施例投影机的遮光装置和反射罩的结构示意图。 图5为本专利技术实施例投影机的部分元件的结构示意图。【具体实施方式】 为使对本专利技术的目的、构造、特征、及其功能有进一步的了解，兹配合实施例详细 说明如下。 图1为本专利技术实施例投影机于第一状态的剖面示意图，图2为本专利技术实施例投影机 于第二状态的剖面示意图，图3为本专利技术实施例投影机的第一腔体的结构示意图，图4为本 专利技术实施例投影机的遮光装置和反射罩的结构示意图，图5为本专利技术实施例投影机的部分 元件的结构示意图。图1至图5所示，本专利技术投影机包含光源、数位微镜装置（Digital Micro-mirror Device，DMD) 12、镜头14和遮光装置15。其中，光源用于发出入射光111。数位 微镜装置12用以接收并反射入射光111以形成成像光121(参见图1所示)或者抛弃光束122 (参见图2所示）。例如，数位微镜装置12为二轴翻转式的晶片组（TRP(Tilt&Roll Pixel) DU^PicoTM chipset)，其微镜沿二对角线各翻转12度，等效相对于长边方向翻转17度，用 以将入射光111以约34度反射为成像光121，但不以此为限。镜头14位于成像光121的传递路 径上，用以接收并投射成像光121。遮光装置15位于抛弃光束122的传递路径上，用于接收并 反射抛弃光束122。其中，遮光装置15具有第一反射面151和第二反射面152,第一反射面151 和第二反射面152具有第一夹角A，第一夹角A小于90度，即，第一反射面151和第二反射面 152呈"人"型，借此，可有效衰减抛弃光束122的能量，由此减少射出镜头14的抛弃光束122， 故可有效提升投影画面的对比度。并且，相较于夹角呈90度的"L"型的遮光装置，本专利技术遮 光装置15具有更高的遮光效率，以获得更高的成像品质。另外，为便于说明，特定义具有两 两彼此垂直的X轴、Y轴以及Z轴的空间，数位微镜装置12对应于X轴和Z轴所形成的平面。 进一步的，如图2所示，抛弃光束122于第一反射面151和第二反射面152上进行至 少两次反射，以衰减该抛弃光束的能量。具体而言，如图2所示，抛弃光束122入射第一反射 面151，经由第一反射面151反射后入射第二反射面152,并被第二反射面152反射，即抛弃光 束122入射第一反射面151后，都会被遮光装置15反射两次，以衰减该抛弃光束的能量。进一 步的，抛弃光束122的至少部分光线经第二反射面152反射后还可以再次入射第一反射面 151，并被第一反射面151反射，即于遮光装置15上进行第三次的反射，如此，可进一步衰减 抛弃光束122的能量，甚至使抛弃光束122的能量衰减至消失，从而提高成像品质。当然，若 抛弃光束122首先入射的是第二反射面152,则第二反射面152亦会将抛弃光束122反射至第 一反射面151，并被第一反射面151反射。进一步的，抛弃光束122的至少部分光经第一反射 面151反射后还可以再次入射第二反射面152,并被第二反射面152反射，即于遮光装置15上 进行第三次的反射，如此，可进一步衰减抛弃光束122的能量，甚至使抛弃光束122的能量衰 减至消失，从而调高成像品质。当然，抛弃光束122的部分光线还可以再次进行更多次的反 射，原理同上，在此不再赘述 较佳的，第一夹角A介于45度至90度之间（45° <A〈90° )，以有本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种投影机，其特征在于，包含：光源，发出入射光；数位微镜装置，用以接收并反射该入射光以形成成像光或者抛弃光束；镜头，位于该成像光的传递路径上，用以接收并投射该成像光；以及遮光装置，位于该抛弃光束的传递路径上，用于接收并反射该抛弃光束；其中，该遮光装置具有第一反射面和第二反射面，该第一反射面和该第二反射面具有第一夹角，该第一夹角小于90度。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：陈嘉彬，胡圣文，萧启宏，何文中，林颖芳，
申请(专利权)人：苏州佳世达光电有限公司，佳世达科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32