投影机制造技术

本发明专利技术涉及投影机。提供可以维持投影图像的白平衡的投影机。包括固体光源、扩散构件、激励光源、荧光体、光调制装置、投影光学系统、第1遮光构件和第2遮光构件；在设从扩散光的光轴的方向看时的第1遮光构件的开口部的面积为第1开口面积A1、设从扩散光的光轴的方向看时的第1遮光构件对扩散光进行遮光的部分的面积为第1遮光面积A2、设从荧光的光轴的方向看时的第2遮光构件的开口部的面积为第2开口面积B1、设从荧光的光轴的方向看时的第2遮光构件对荧光进行遮光的部分的面积为第2遮光面积B2时，第1遮光面积A2相对于第1开口面积A1之比A2／A1比第2遮光面积B2相对于第2开口面积B1之比B2／B1大。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种投影机，其特征在于，包括：固体光源，扩散构件，其使从所述固体光源射出的光扩散而作为扩散光射出，激励光源，荧光体，其通过从所述激励光源射出的光激励，放射荧光，光调制装置，其对从所述扩散构件射出的所述扩散光和从所述荧光体放射的所述荧光相应于图像信息进行调制，投影光学系统，其将通过所述光调制装置调制的光作为投影图像进行投影，第1遮光构件，其配置于所述扩散构件和所述光调制装置之间的光路上，具有以所述扩散光的光轴为中心的开口部，和第2遮光构件，其配置于所述荧光体和所述光调制装置之间的光路上，具有以所述荧光的光轴为中心的开口部；在设从所述扩散光的光轴的方向看时的所述第1遮光构件的所述开口部的面积为第1开口面积A1、设从所述扩散光的光轴的方向看时的所述第1遮光构件对所述扩散光进行遮光的部分的面积为第1遮光面积A2、设从所述荧光的光轴的方向看时的所述第2遮光构件的所述开口部的面积为第2开口面积B1、设从所述荧光的光轴的方向看时的所述第2遮光构件对所述荧光进行遮光的部分的面积为第2遮光面积B2时，所述第1遮光面积A2相对于所述第1开口面积A1之比A2／A1比所述第2遮光面积B2相对于所述第2开口面积B1之比B2／B1大。...

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员：河村昌和，吉田宽治，
申请(专利权)人：精工爱普生株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP