一种用于化学机械抛光设备的抛光液供应装置制造方法及图纸

一种用于化学机械抛光设备的抛光液供应装置，包括罐体，所述罐体内设有搅拌轴，所述搅拌轴与位于罐体上方的电机相连接，所述搅拌轴上设有搅拌装置，所述搅拌装置包括设置在搅拌轴上半部的第一螺旋和设置在搅拌轴下半部的第二螺旋，所述第一螺旋和第二螺旋的旋向相反，所述搅拌轴的中间位置上还对称设有两个一级搅拌杆，所述一级搅拌杆上均匀设有若干二级搅拌杆；所述罐体顶端开有盘管进口和盘管出口。本实用新型专利技术的有益效果是一螺旋将上部物料向下带动，第二螺旋将下部物料向上带动，一级搅拌杆和二级搅拌杆在罐体中间部位进行搅拌，有效实现了抛光液各组份的充分混合。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及化学机械抛光设备
，具体涉及一种用于化学机械抛光设备的抛光液供应装置。
技术介绍
化学机械抛光（CMP）是一种对半导体材料或是其它类型材料的衬底进行平坦化或是抛光的方法。广泛应用于集成电路（IC）制造业中。化学机械抛光是结合抛光液中化学溶液的腐蚀和磨粒的机械磨削双重作用，使硅晶片获得极高的平面度和平整度的一项工艺。抛光液的浓度和温度是影响化学反应速度的主要因素，为了保证硅片表面的平整度和平面度，抛光过程中的化学反应速度和机械作用速度必须一致，若化学反应速度大于机械作用速度，将导致硅片表面腐蚀严重、去除不均匀，从而使得抛光质量下降，反之，将导致硅片表面划伤，影响硅片表面质量。因此，在抛光过程中必须精确控制抛光液的浓度和温度。现有技术中，对于抛光液的制备温度无法很好的去掌控，此外，抛光液中各溶液的混合效果不佳，导致了化学机械抛光效果不好。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种用于化学机械抛光设备的抛光液供应装置，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种用于化学机械抛光设备的抛光液供应装置，包括罐体，所述罐体内设有搅拌轴，所述搅拌轴与位于罐体上方的电机相连接，所述搅拌轴上设有搅拌装置，所述搅拌装置包括设置在搅拌轴上半部的第一螺旋和设置在搅拌轴下半部的第二螺旋，所述第一螺旋和第二螺旋的旋向相反，所述搅拌轴的中间位置上还对称设有两个一级搅拌杆，所述一级搅拌杆上均匀设有若干二级搅拌杆；所述罐体顶端开有盘管进口和盘管出口，所述盘管进口和盘管出口通过设置在罐体内部侧壁上的盘管相连通，所述盘管进口通过管道与泵体连接；所述罐体内部设有温度传感器，罐体底部设有电加热器，所述泵体、温度传感器和电加热器均与位于罐体外部的控制装置相连接。作为本技术进一步的方案：所述搅拌装置的表面均设置有耐酸碱层。作为本技术再进一步的方案：所述罐体上部设有进料口。作为本技术再进一步的方案：所述罐体下部设有出料口。作为本技术再进一步的方案：所述盘管从盘管进口处盘旋状伸入罐体底部后再与盘管出口连通。本技术的有益效果是一螺旋将上部物料向下带动，第二螺旋将下部物料向上带动，一级搅拌杆和二级搅拌杆在罐体中间部位进行搅拌，有效实现了抛光液各组份的充分混合；利用盘管和电加热器控制罐体内物料的温度，有效保证了罐体内温度达到使用要求。附图说明图1为本技术的结构示意图。图中：1-罐体、2-盘管出口、3-盘管、4-第一螺旋、5-一级搅拌杆、6-二级搅拌杆、7-出料口、8-第二螺旋、9-搅拌轴、10-电加热器、11-温度传感器、12-控制装置、13-进料口、14-泵体、15-管道、16-盘管进口、17-电机。具体实施方式下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。请参阅图1，本技术实施例中，一种用于化学机械抛光设备的抛光液供应装置，包括罐体1，所述罐体1内设有搅拌轴9，所述搅拌轴9与位于罐体1上方的电机17相连接，所述搅拌轴9上设有搅拌装置，所述搅拌装置包括设置在搅拌轴9上半部的第一螺旋4和设置在搅拌轴9下半部的第二螺旋8，所述第一螺旋4和第二螺旋8的旋向相反，所述搅拌轴9的中间位置上还对称设有两个一级搅拌杆5，所述一级搅拌杆5上均匀设有若干二级搅拌杆6，工作时电机17转动，带动第一螺旋4和第二螺旋8工作，使第一螺旋4将上部物料向下带动，第二螺旋8将下部物料向上带动，一级搅拌杆5和二级搅拌杆6在罐体1中间部位进行搅拌，有效实现了抛光液各组份的充分混合；所述罐体1顶端开有盘管进口16和盘管出口2，所述盘管进口16和盘管出口2通过设置在罐体1内部侧壁上的盘管3相连通，所述盘管进口16通过管道15与泵体14连接；所述罐体1内部设有温度传感器11，罐体1底部设有电加热器11，所述泵体1、温度传感器11和电加热器10均与位于罐体1外部的控制装置12相连接。所述搅拌装置的表面均设置有耐酸碱层。所述罐体1上部设有进料口13，所述罐体1下部设有出料口7。所述盘管3从盘管进口16处盘旋状伸入罐体1底部后再与盘管出口2连通。本技术的工作过程是：工作时，从进料口13处加入待混合物料，启动电机17，带动第一螺旋4和第二螺旋8工作，使第一螺旋4将上部物料向下带动，第二螺旋8将下部物料向上带动，一级搅拌杆5和二级搅拌杆6在罐体1中间部位进行搅拌，有效实现了抛光液各组份的充分混合；温度传感器11用于监测罐体1内温度，当罐体1内温度高于设定温度时，温度传感器11将信号传递给控制器12，控制器12启动泵体14，泵体14给盘管3内输入冷却液，给罐体1内物料进行降温，当罐体1内温度低于设定温度时，温度传感器11将信号传递给控制器12，控制器12控制电加热器10工作，给罐体1内物料加热，有效保证了罐体1内温度达到使用要求。对于本领域技术人员而言，显然本技术不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本技术的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本技术。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本技术的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本技术内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于化学机械抛光设备的抛光液供应装置，包括罐体，其特征在于，所述罐体内设有搅拌轴，所述搅拌轴与位于罐体上方的电机相连接，所述搅拌轴上设有搅拌装置，所述搅拌装置包括设置在搅拌轴上半部的第一螺旋和设置在搅拌轴下半部的第二螺旋，所述第一螺旋和第二螺旋的旋向相反，所述搅拌轴的中间位置上还对称设有两个一级搅拌杆，所述一级搅拌杆上均匀设有若干二级搅拌杆；所述罐体顶端开有盘管进口和盘管出口，所述盘管进口和盘管出口通过设置在罐体内部侧壁上的盘管相连通，所述盘管进口通过管道与泵体连接；所述罐体内部设有温度传感器，罐体底部设有电加热器，所述泵体、温度传感器和电加热器均与位于罐体外部的控制装置相连接。

【技术特征摘要】
1.一种用于化学机械抛光设备的抛光液供应装置，包括罐体，其特征在于，所述罐体内设有搅拌轴，所述搅拌轴与位于罐体上方的电机相连接，所述搅拌轴上设有搅拌装置，所述搅拌装置包括设置在搅拌轴上半部的第一螺旋和设置在搅拌轴下半部的第二螺旋，所述第一螺旋和第二螺旋的旋向相反，所述搅拌轴的中间位置上还对称设有两个一级搅拌杆，所述一级搅拌杆上均匀设有若干二级搅拌杆；所述罐体顶端开有盘管进口和盘管出口，所述盘管进口和盘管出口通过设置在罐体内部侧壁上的盘管相连通，所述盘管进口通过管道与泵体连接；所述罐体内部设有温度传感器，罐体底部设有电加热器，所述泵体、温度传感器...

【专利技术属性】
技术研发人员：章建群，章慧云，黄晓伟，
申请(专利权)人：章建群，
类型：新型
国别省市：江西;36