一种基于光纤腐蚀的微盘谐振腔制造技术

技术编号:13383130 阅读:130 留言:0更新日期:2016-07-21 17:09
本发明专利技术公开了解一种基于光纤腐蚀的微盘谐振腔,其特征在于由微盘和内包层腐蚀成腰形的光纤支柱组成,微盘为厚度15-25微米带完整内包层的圆盘体,光纤支柱由带涂覆层的底座和内包层未被腐蚀的支撑杆组成,微盘通过光纤支柱得以支撑,光纤支柱的纵剖面呈抛物线形状,光纤支柱上端与微盘一体,光纤支柱下端与底座和支撑杆一体,光纤贯穿微盘、支撑杆支撑杆并与微盘、光纤支柱、支撑杆和底座的轴线相重合,本发明专利技术中有益效果一是利用成本低的氢氟酸溶液腐蚀来制作微盘谐振腔,因此工艺步骤简单,设备投资低;二是微盘谐振腔其材料与光纤相同,可以用于窄线宽及单频光纤激光器的模式选择。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种基于光纤腐蚀的微盘谐振腔,其特征在于由微盘和内包层腐蚀成腰形的光纤支柱组成,微盘为厚度15‑25微米带完整内包层的圆盘体,光纤支柱由带涂覆层的底座和内包层未被腐蚀的支撑杆组成,微盘通过光纤支柱得以支撑,光纤支柱的纵剖面呈抛物线形状,光纤支柱上端与微盘一体,光纤支柱下端与底座和支撑杆一体,光纤贯穿微盘、支撑杆支撑杆并与微盘、光纤支柱、支撑杆和底座的轴线相重合。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:张启航
申请(专利权)人:山东海富光子科技股份有限公司
类型:发明
国别省市:山东;37

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