环式撞击型气化炉制造技术

本发明专利技术公开了一种环式撞击型气化炉，包括内设气化室(2)的炉体，炉体的顶盖部安装有气化原料喷嘴(1)以向下喷出环状气化原料流体，气化室的内周壁设有沿周向间隔布置的多个气化剂喷嘴(222)，其喷出的气化剂流体与气化原料流体在气化室内相互撞击而发生燃烧和气化反应。气化原料喷嘴内可形成有供气化原料通过的单流体通道(11)，围绕气化室的炉体周壁可包括从外至内的保温层(23)、气化剂环层(22)和水冷壁(21)，气化剂输送管布置在气化剂环层内。本发明专利技术的环式撞击型气化炉适于大规模碳质材料的气化处理，两种喷嘴的独立安装和撞击式气固混合，能够优化炉内温度分布，强化气固混合，提高燃料利用率，提高喷嘴和气化炉使用寿命。

【技术实现步骤摘要】
201610293983

【技术保护点】
一种环式撞击型气化炉，包括内设气化室(2)的炉体，所述炉体的上部设有气化原料喷嘴(1)，该气化原料喷嘴(1)朝向所述气化室(2)喷出环状气化原料流体，所述炉体上还设有多个与所述气化原料喷嘴(1)非同轴布置的多个气化剂喷嘴(222)，多个所述气化剂喷嘴(222)喷出的气化剂流体与所述环状气化原料流体在所述气化室(2)内相互撞击而发生燃烧和气化反应。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：彭宝仔，刘臻，管清亮，巩志坚，
申请(专利权)人：神华集团有限责任公司，北京低碳清洁能源研究所，
类型：发明
国别省市：北京;11