数据修正装置、描画装置、检查装置、数据修正方法、描画方法、检查方法及记录介质制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种数据修正装置、描画装置、检查装置、数据修正方法、描画方法、检查方法及记录介质。数据修正部的蚀刻特性存储部将对于对象物上的多个对象位置的各者的蚀刻特性作为对象蚀刻特性而加以存储。特性群组获取部通过将与相互类似的对象蚀刻特性对应的对象位置包含于1个特性群组，而将多个对象位置分成比该多个对象位置少的特定数量的特性群组。分割数据修正部将通过蚀刻而形成在对象物上的图案的设计数据分割成与设定在对象物上的多个分割区域对应的多个分割数据，并对各分割数据基于代表与该分割数据对应的分割区域的最接近的对象位置所属的一个特性群组的蚀刻特性而进行修正。由此，能够高效地进行高精度的蚀刻修正。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种对通过蚀刻而形成在对象物上的图案的设计数据进行修正的技术。
技术介绍
以往，在半导体基板或印刷基板、或者等离子显示装置或液晶显示装置用玻璃基板等(以下称为“基板”)的制程中，对基板实施各种处理。例如，通过对在表面上形成有抗蚀剂的图案的基板实施蚀刻而在基板上形成配线图案。在该蚀刻中，通过图案配置的疏密或图案的大小等，而存在形成在基板上的图案的形状与设计数据不同的情况。在日本专利第3074675号公报中，揭示有如下技术，即通过利用电子束直接描画装置在基板上形成抗蚀剂图案，并利用等离子蚀刻装置进行蚀刻而形成图案。另外，提出有在根据图案的设计数据而产生电子束直接描画用数据的处理中，包含修正由微负载效应(micro loading effect)所致的蚀刻后的图案尺寸的变化的处理。在日本专利第4274784号公报中，提出有使用蚀刻后的基板的图像数据及设计数据，产生表示为了获得所需的蚀刻后基板而必须如何修正设计数据的尺寸调整规则(resizing rule)。在日本专利特开2008-134512号公报中，揭示有如下方法:在制作光罩时，针对每一图案间的间隔(距离)而指定用以修正过蚀刻的修正值。另外，提出有在直线图案与圆弧图案对向的情况下，对该对向的部位施加进一步的修正。在日本专利特开2013-12562号公报中，揭示有如下技术:在一面根据导体图案的设计数据而考虑侧蚀刻一面制作轮廓形状(导体图案的外形形状)时，基于邻接的轮廓形状间的距离而设定修正值。日本专利特开2013-250101号公报涉及一种通过蚀刻而形成的配线图案的缺陷检查。在该缺陷检查中，从形成在基板的表面上的测定用图案测定蚀刻信息(蚀刻曲线)，并使用该蚀刻曲线对设计数据进行蚀刻模拟而产生检查数据。然后，通过将基板上的配线图案的图像数据与检查数据对照而检测出配线图案的缺陷。在本文献中，提出有在设定在印刷基板的上表面的多个检查区域分别配置I个测定用图案，且获取各检查区域用的蚀刻曲线。在检查区域中包含多个相同的单部分图案，对这些多个单部分图案基于该检查区域用的蚀刻曲线而同样地进行修正。近年来，在进行对基板的蚀刻的装置中，为了提高生产性而对配置有多个相同的部分(piece)(图案)的大型基板进行蚀刻。因此，蚀刻特性根据基板上的位置而不同，即便是对相同部分的蚀刻，也存在蚀刻结果不同的情况。在该情况下，也考虑针对各部分获取蚀刻特性，并基于该蚀刻特性而进行数据的修正(蚀刻修正)，但对所有部分的蚀刻修正需要较长时间。
技术实现思路
本专利技术适于对通过蚀刻而形成在对象物上的图案的设计数据进行修正的数据修正装置，其目的在于效率佳地进行高精度的蚀刻修正。本专利技术的数据修正装置包括:设计数据存储部，存储通过蚀刻而形成在对象物上的图案的设计数据;蚀刻特性存储部，将针对所述对象物上的多个对象位置的各者的蚀刻特性作为对象蚀刻特性，而存储针对所述多个对象位置的多个对象蚀刻特性;特性群组获取部，通过将与相互类似的对象蚀刻特性对应的对象位置包含于I个特性群组中，而将所述多个对象位置分成比所述多个对象位置少的特定数量的特性群组;及分割数据修正部，将所述设计数据分割成与设定在所述对象物上的多个分割区域对应的多个分割数据，并对各分割数据基于代表与所述各分割数据对应的分割区域的最接近的对象位置所属的一个特性群组的蚀刻特性而进行修正。根据本专利技术，能够效率佳地进行高精度的蚀刻修正。在本专利技术的一优选形态中，所述特性群组获取部包括:群组特性获取部，获取与各特性群组建立关联的蚀刻特性作为群组蚀刻特性;及群组化处理部，基于表示各对象蚀刻特性与所述各特性群组的所述群组蚀刻特性的类似度的值，而进行将与所述各对象蚀刻特性对应的对象位置包含于所述特定数量的特性群组中的任一者的群组化处理。在该情况下，更优选为，所述特性群组获取部还包括重复控制部，该重复控制部使利用所述群组特性获取部的所述群组蚀刻特性的获取、及利用所述群组化处理部的所述群组化处理重复进行直至满足特定条件为止，且所述群组特性获取部根据通过前一所述群组化处理而包含在所述各特性群组中的对象位置的对象蚀刻特性，而求出所述各特性群组的所述群组蚀刻特性。在本专利技术的另一优选形态中，所述设计数据的所述多个分割数据分别表示的分割图案相同。在本专利技术的一态样中，数据修正装置还包括对象蚀刻特性获取部，该对象蚀刻特性获取部是针对所述对象物上的多个基准位置的各者而预先获取基准蚀刻特性，并针对所述多个对象位置的各者，基于各对象位置与所述多个基准位置的位置关系而对所述多个基准位置的多个基准蚀刻特性进行加权，并且基于进行加权后的所述多个基准蚀刻特性而求出所述各对象位置的所述对象蚀刻特性。在本专利技术的另一态样中，数据修正装置还包括群组数量决定部，该群组数量决定部是针对多个临时群组数量的各者，使所述特性群组获取部进行分组，求出表示代表各特性群组的蚀刻特性、与属于所述各特性群组的所有对象位置的对象蚀刻特性的差异度的值的所有特性群组的和作为评价值，并将所述评价值为特定阈值以下的最小的临时群组数量决定为所述特定数量。本专利技术也适于在对象物上描画图案的描画装置。本专利技术的描画装置包括:所述数据修正装置;光源;光调制部，基于通过所述数据修正装置修正的设计数据而调制来自所述光源的光;及扫描机构，在对象物上扫描已通过所述光调制部调制的光。本专利技术也适于检查通过蚀刻而形成在对象物上的图案的检查装置。本专利技术的检查装置包括:所述数据修正装置;实际图像存储部，存储通过蚀刻而形成在对象物上的图案的图像数据即检查图像数据;及缺陷检测部，通过对已利用所述数据修正装置修正的设计数据与所述检查图像数据进行比较，而检测形成在所述对象物上的所述图案的缺陷。本专利技术也适于修正通过蚀刻而形成在对象物上的图案的设计数据的数据修正方法、在对象物上描画图案的描画方法、检查通过蚀刻而形成在对象物上的图案的检查方法、及记录对通过蚀刻而形成在对象物上的图案的设计数据进行修正的程序的记录介质。所述目的及其他目的、特征、形态及优点可通过以下参照随附图式而进行的本专利技术的详细说明而变得明了。【附图说明】图1是表示第I实施方式的描画装置的构成的图。图2是表示数据处理装置的构成的图。图3是表示数据处理装置的功能的框图。图4是表示利用描画装置的描画的流程的图。图5是测试基板的俯视图。图6是将特性获取用图案的一部分放大而表示的图。图7是将测定图案的一部分放大而表示的图。图8是表示蚀刻曲线的图。图9是表示各特性群组中所包含的对象位置的图。图10是表示设计图案的图。图11是表示测试基板上的基准位置及对象位置的图。图12是表示第2实施方式的检查装置的功能的框图。图13是表示利用检查装置的检查的流程的一部分的图。【具体实施方式】图1是表示本专利技术的第I实施方式的描画装置I的构成的图。描画装置I是通过对设置在印刷基板、半导体基板、液晶基板等(以下简称为“基板9”)的表面上的感光材料即抗蚀剂膜照射光，而直接在抗蚀剂膜上描画电路图案等图像的直接描画装置。对利用描画装置I描画有图案的基板9，在基板处理装置等(省略图示)实施显影、蚀刻。由此，在基板9上形成图案。对基板9的蚀刻是例如通过对基板9赋予蚀刻液而进行的湿式蚀刻。此外，作为对基板9的蚀刻，例如也可进本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种数据修正装置，其修正通过蚀刻而形成在对象物上的图案的设计数据，且包括：设计数据存储部，存储通过蚀刻而形成在对象物上的图案的设计数据；蚀刻特性存储部，将针对所述对象物上的多个对象位置的各者的蚀刻特性作为对象蚀刻特性，而存储针对所述多个对象位置的多个对象蚀刻特性；特性群组获取部，通过将与相互类似的对象蚀刻特性对应的对象位置包含于1个特性群组，而将所述多个对象位置分成比所述多个对象位置少的特定数量的特性群组；及分割数据修正部，将所述设计数据分割成与设定在所述对象物上的多个分割区域对应的多个分割数据，并对各分割数据基于代表与所述各分割数据对应的分割区域的最接近的对象位置所属的一个特性群组的蚀刻特性而进行修正。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：山田亮，
申请(专利权)人：株式会社思可林集团，
类型：发明
国别省市：日本;JP