一种可减少漏浆的网版结构制造技术

技术编号:13206579 阅读:84 留言:0更新日期:2016-05-12 13:01
本实用新型专利技术提供了一种可减少漏浆的网版结构,其使得边缘漏浆的问题大幅度减少,网版的使用寿命大幅度增加,降低了网版的成本。其包括网版、硅片,所述网版的图形区域位于所述硅片的正上方,所述硅片的四周边缘区域外露于所述网版的图形区域,所述网版的四周边缘覆盖所述硅片的四周边缘区域,所述网版的四周边缘朝向所述硅片的一面相对于图形区域下凸,具体为下凸部分,所述下凸部分的下凸厚度为5μm~50μm,所述下凸部分的内侧区域紧贴所述硅片的四周边缘区域的对应位置的上端面。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及太阳能电池制造设备的
,具体为一种可减少漏浆的网版结构
技术介绍
太阳能电池制作过程中网版成本占整体电池制造成本中比较大的一部分,提高网版使用寿命,可以显著降低网版成本。目前一般提高网版的方法是在网版周围人为贴上胶带等方式,可以缓解网版张力的下降,减少崩网的现象。但对网版的漏浆现象没有改善。实际生产过程中,网版报废原因中一半以上是因为漏浆,尤其是和硅片接触部位的网版边缘漏浆。在印刷过程中,因为硅片和印刷台面之间的高度差,在刮刀行进过程中会碰到这个台阶,造成网版和硅片边缘接触处极易磨损,造成网版感光胶磨损导致漏浆。
技术实现思路
针对上述问题,本技术提供了一种可减少漏浆的网版结构,其使得边缘漏浆的问题大幅度减少,网版的使用寿命大幅度增加,降低了网版的成本。—种可减少漏浆的网版结构,其技术方案是这样的:其包括网版、硅片,所述网版的图形区域位于所述硅片的正上方,所述硅片的四周边缘区域外露于所述网版的图形区域,所述网版的四周边缘覆盖所述硅片的四周边缘区域,所述网版的四周边缘朝向所述硅片的一面相对于图形区域下凸,具体为下凸部分,所述下凸部分的下凸厚度为5μπι?50μπι,所述下凸部分的内侧区域紧贴所述硅片的四周边缘区域的对应位置的上端面。其进一步特征在于:所述硅片的四周边缘区域的宽度为1.5mm,即所述网版的图形区域的外边缘到对应侧的所述硅片的外边缘的距离为1.5mm,所述下凸部分的内侧起始位置位于网版图形区域向外延伸Imm处,所述下凸部分的内侧区域紧贴所述硅片的四周边缘区域的对应位置的上端面的外侧部分区域;预留出的Imm距离可确保刮刀行进过程不易刮到下凸部分,进而确保下凸部分不易被磨损,进一步保证网版的寿命;所述网版的整体厚度为15μπι。采用上述技术方案后,使用这种边缘膜厚增加的网版,边缘漏浆的问题大幅度减少,网版的使用寿命大幅度增加,与常规网版相比,边缘漏浆的问题基本上解决,网版寿命提高20%以上,网版成本显著下降,显著降低电池制造成本。【附图说明】图1为本技术的俯视结构不意简图;图2为本技术的剖视主视局部放大结构示意图图中序号所对应的名称如下:网版1、硅片2、硅片3、四周边缘区域4、四周边缘5、下凸部分6。【具体实施方式】—种可减少漏浆的网版结构,见图1、图2:其包括网版1、硅片2,网版I的图形区域2位于硅片3的正上方,硅片3的四周边缘区域4外露于网版I的图形区域2,网版I的四周边缘5覆盖硅片3的四周边缘区域4,网版I的四周边缘5朝向硅片3的一面相对于图形区域2下凸,具体为下凸部分6,下凸部分6的下凸厚度为5μηι?50μηι,下凸部分6的内侧区域紧贴娃片3的四周边缘区域4的对应位置的上端面。硅片3的四周边缘区域4的宽度L为1.5_,即网版I的图形区域2的外边缘到对应侧的硅片3的外边缘的距离为1.5mm,下凸部分6的内侧起始位置位于网版I的图形区域2向外延伸Imm处,下凸部分6的内侧区域紧贴硅片3的四周边缘区域4的对应位置的上端面的外侧部分区域;预留出的Imm距离可确保刮刀行进过程不易刮到下凸部分,进而确保下凸部分不易被磨损,进一步保证网版的寿命。具体实施例,网版I的图形区域2的尺寸一般在153mmX153mm,而硅片3的大小在156mm X 156mm,网版I的图形区域2离娃片3每个边缘存在1.5mm的距离,在网版I中心155mmX 155mm的范围之外,与硅片3接触面膜厚设计成25_40μπι,而在图形区域2所对应印刷图形区域153mm X 153mm范围,膜厚设计保持不变,仍然按照技术要求制作,一般在15μηι左右,这样设计的网版上线正常印刷,可以发现边缘漏浆的现象极大的减少。以上对本技术的具体实施例进行了详细说明,但内容仅为本技术创造的较佳实施例,不能被认为用于限定本技术创造的实施范围。凡依本技术创造申请范围所作的均等变化与改进等,均应仍归属于本技术的专利涵盖范围之内。【主权项】1.一种可减少漏浆的网版结构,其包括网版、硅片,所述网版的图形区域位于所述硅片的正上方,所述硅片的四周边缘区域外露于所述网版的图形区域,所述网版的四周边缘覆盖所述硅片的四周边缘区域,其特征在于:所述网版的四周边缘朝向所述硅片的一面相对于图形区域下凸,具体为下凸部分,所述下凸部分的下凸厚度为5μπι?50μπι,所述下凸部分的内侧区域紧贴所述硅片的四周边缘区域的对应位置的上端面。2.如权利要求1所述的一种可减少漏浆的网版结构,其特征在于:所述硅片的四周边缘区域的宽度为1.5mm,即所述网版的图形区域的外边缘到对应侧的所述硅片的外边缘的距离为1.5mm,所述下凸部分的内侧起始位置位于网版图形区域向外延伸Imm处,所述下凸部分的内侧区域紧贴所述硅片的四周边缘区域的对应位置的上端面的外侧部分区域。3.如权利要求1或2所述的一种可减少漏浆的网版结构,其特征在于:所述网版的整体厚度为15μηι。【专利摘要】本技术提供了一种可减少漏浆的网版结构,其使得边缘漏浆的问题大幅度减少,网版的使用寿命大幅度增加,降低了网版的成本。其包括网版、硅片,所述网版的图形区域位于所述硅片的正上方,所述硅片的四周边缘区域外露于所述网版的图形区域,所述网版的四周边缘覆盖所述硅片的四周边缘区域,所述网版的四周边缘朝向所述硅片的一面相对于图形区域下凸,具体为下凸部分,所述下凸部分的下凸厚度为5μm~50μm,所述下凸部分的内侧区域紧贴所述硅片的四周边缘区域的对应位置的上端面。【IPC分类】B41F15/36【公开号】CN205220026【申请号】CN201521029133【专利技术人】罗茂盛 【申请人】江阴鑫辉太阳能有限公司【公开日】2016年5月11日【申请日】2015年12月11日本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种可减少漏浆的网版结构,其包括网版、硅片,所述网版的图形区域位于所述硅片的正上方,所述硅片的四周边缘区域外露于所述网版的图形区域,所述网版的四周边缘覆盖所述硅片的四周边缘区域,其特征在于:所述网版的四周边缘朝向所述硅片的一面相对于图形区域下凸,具体为下凸部分,所述下凸部分的下凸厚度为5μm~50μm,所述下凸部分的内侧区域紧贴所述硅片的四周边缘区域的对应位置的上端面。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:罗茂盛
申请(专利权)人:江阴鑫辉太阳能有限公司
类型:新型
国别省市:江苏;32

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