【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及用于生产半透明的光活性层的方法以及用于生产包含半透明的光活性层的器件的方法。还公开了半透明的光活性层和包含该半透明的光活性层的器件。半透明的光活性层在生产半透明的光电器件和光伏建筑一体化中的应用。
技术介绍
光伏建筑一体化对于经济地进行太阳能发电是引人关注的概念。特别感兴趣的是将半透明的太阳能电池整合至窗户,这是由于其打开了采用建筑物的整体外观来产生太阳能电力的前景,而不是简单地采用有限的屋顶空间。为了使这种太阳能窗户变得实用,成本必须低,并且理想地,它们能够通过玻璃行业中采用的现有涂覆方法来制造。它们需要产生有效电力,同时仍具有良好的透明度。另外,有色窗对于新应用是重要的,并且可能会希望色彩“绚丽”,最大的需求是用于具有受控着色水平的中性色着色的窗户。近来,实现太阳能电池中均匀涂覆半透明度的大多数方法使用有机太阳能电池或染色敏化的电池(例如参见,Kang,M.G.,Park,N.,Park,Y.J.,Ryu,K.S.&H.,C.S.,SolarEnergyMaterialsandSolarCells,75,475–479,2003)。这些技术是可溶液处理的,表明了低成本的生产方法且易于规模化。然而,它们的效率受限于基本的电荷转移损失。因此,用于生产半透明的有机光伏的尝试已导致不尽人意的性能或低于所期望的可见光透过比。为了获得中性色,通常以损失总效率来小心地选择活性材料(Ameri,T.etal.,Adva ...
【技术保护点】
一种用于生产半透明的光活性层的方法,所述方法包括:(a)在基板上布置组合物以形成所得到的层,该组合物包括光活性材料或光活性材料的一种或多种前体;以及(b)对所述所得到的层去湿以形成所述光活性材料的去湿层,其中,所述光活性材料的去湿层是半透明的。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2013.06.18 GB 1310854.31.一种用于生产半透明的光活性层的方法,所述方法包括:
(a)在基板上布置组合物以形成所得到的层,该组合物包括光活性材料或光活性材料
的一种或多种前体;以及
(b)对所述所得到的层去湿以形成所述光活性材料的去湿层,其中,所述光活性材料的
去湿层是半透明的。
2.根据权利要求1所述的方法,其中,所述光活性材料的去湿层包括:
多个吸收区域,所述多个吸收区域包括所述光活性材料;以及
多个透明区域,所述多个透明区域基本上不包括所述光活性材料。
3.根据权利要求1或2所述的方法,其中,(b)包括:对所述所得到的层去湿直至形成所
述光活性材料的去湿层,所述光活性材料的去湿层包括所述光活性材料的多个不相连的吸
收区域,其中,所述吸收区域的平均半径为0.4μm至100μm,并且两个相邻的吸收区域的中心
之间的平均距离为1μm至300μm。
4.根据权利要求1或2所述的方法,其中,(b)包括:对所述所得到的层去湿直至形成所
述光活性材料的去湿层,所述光活性材料的去湿层包括所述光活性材料的多个不相连的透
明区域,所述透明区域不包括所述光活性材料,其中,所述透明区域的平均直径为0.4μm至
300μm。
5.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,所述光活性材料的去湿层具有20%
至90%的所述光活性材料的覆盖度。
6.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,所述光活性材料的去湿层对波长为
370nm至740nm的光具有10%至90%的平均透射率。
7.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,所述光活性材料包括可溶液处理的
光活性材料。
8.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,所述光活性材料包括钙钛矿、砷化
镓、硒化铅、硫化铅、砷化铟、磷化铟、铜铟硒化物、铜锌锡硫化物、铜锌锡硒化物、铜锌锡硒
硫化物、铜铟镓硒化物、铜铟镓二硒化物或铜铟镓二硒硫化物。
9.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,所述光活性材料包括光活性的钙钛
矿。
10.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,所述光活性材料包括混合阴离子的
钙钛矿,其中,所述混合阴离子的钙钛矿包括选自卤阴离子和硫族阴离子的两种或更多种
不同的阴离子。
11.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,所述光活性材料包括式(I)的混合
卤化物的钙钛矿:
[A][B][X]3(I)
其中,
[A]为式(R1R2R3R4N)+的至少一种有机阳离子,其中:
(i)R1为氢、取代或未取代的C1-C20烷基、或者取代或未取代的芳基;
(ii)R2为氢、取代或未取代的C1-C20烷基、或者取代或未取代的芳基;
(iii)R3为氢、取代或未取代的C1-C20烷基、或者取代或未取代的芳基;以及
(iv)R4为氢、取代或未取代的C1-C20烷基、或者取代或未取代的芳基;或者
[A]为式(R5R6N=CH-NR7R8)+的至少一种有机阳离子,其中:
(i)R5为氢、取代或未取代的C1-C20烷基、或者取代或未取代的芳基;
(ii)R6为氢、取代或未取代的C1-C20烷基、或者取代或未取代的芳基;
(iii)R7为氢、取代或未取代的C1-C20烷基、或者取代或未取代的芳基;以及
(iv)R8为氢、取代或未取代的C1-C20烷基、或者取代或未取代的芳基;
[B]为至少一种二价金属阳离子;以及
[X]为两种或更多种不同的卤阴离子。
12.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,所述光活性材料包括CH3NH3PbI3、
CH3NH3PbBr3、CH3NH3PbCl3、CH3NH3PbF3、CH3NH3PbBrI2、CH3NH3PbBrCl2、CH3NH3PbIBr2、
CH3NH3PbICl2、CH3NH3PbClBr2、CH3NH3PbI2Cl、CH3NH3SnBrI2、CH3NH3SnBrCl2、CH3NH3SnF2Br、
CH3NH3SnIBr2、CH3NH3SnICl2、CH3NH3SnF2I、CH3NH3SnClBr2、CH3NH3SnI2Cl、CH3NH3SnF2Cl、(H2N
=CH-NH2)PbI3、(H2N=CH-NH2)PbBr3或(H2N=CH-NH2)PbI3zBr3(1-z),其中,z为0.0至1.0,可选
地其中,z大于0.0且小于1.0。
13.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,所述基板包括电极材料和/或半导
体材料。
14.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,所述基板包括透明导电氧化物或金
属的层,和/或n-型半导体的层。
15.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,所述基板包括透明导电氧化物的层
和n-型半导体的致密层,并且其中,包括光活性材料或所述光活性材料的一种或多种前体
的所述组合物布置在所述n-型半导体的致密层上,
可选地其中,所述n-型半导体包括二氧化钛。
16.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,(a)包括在所述基板上布置组合物,
所述组合物包括:
(i)溶剂;以及
(ii)光活性的钙钛矿或为光活性的钙钛矿的前体的两种或更多种化合物。
17.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,(a)包括在所述基板上布置组合物,
所述组合物物包括:
溶剂;
AX;以及
BX2;
其中,
A为有机阳离子;
B为二价金属阳离子;以及
X各自独立地选自F、Cl、Br和I。
18.根据权利要求17所述的方法,其中,B为选自Pb2+和Sn2+的二价金属阳离子。
19.根据权利要求17或18所述的方法,其中,A为(R1R2R3R4N)+或(R5R6N=CH-NR7R8)+,并且
R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7和R8与权利要求11所限定的相同。
20.根据权利要求17至19中任一项所述的方法,其中,AX与BX2的摩尔比为1:1至12:1。
21.根据权利要求17至20中任一项所述的方法,其中,AX为有机碘化合物,以及BX2为金
属氯化物或金属碘化物。
22.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,(a)包括在基板上旋涂组合物,所述
组合物包括:
溶剂,可选地其中,所述溶剂为二甲基亚砜或二甲基甲酰胺;
甲基碘化铵;以及
氯化铅或碘化铅。
23.根据权利要求1至15中任一项所述的方法,其中,(a)包括:
(i)使所述基板暴露至蒸气,该蒸气包括用于产生所述光活性材料的一种或多种反应
物;以及
(ii)使所述蒸气沉积在所述基板上,以在所述基板上产生所述光活性材料的层。
24.根据权利要求23所述的方法,其中,用于产生所述光活性材料的一种或多种反应物
包括权利要求9至12中任一项所述的光活性的钙钛矿,或包括权利要求17至22中任一项所
述的AX和BX2。
25.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,(b)包括在50℃至250℃的温度下,
对所述所得到的层进行加热。
26.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,(b)包括对所述所得到的层加热5分
钟至120分钟。
27.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,(b)包括对所述所得到的层进行去
湿直至形成所述光活性材料的覆盖度为20%至90%的所述光活性材料的去湿层。
28.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,(b)包括对所述所得到的层进行去
湿直至形成对波长为370nm至740nm的光具有10%至90%的平均透射率的所述光活性材料
的去湿层。
29.根据前述权利要求中任一项所述的方法,所述方法进一步包括:
(c)利用电子阻挡材料来阻挡所述光活性材料的去湿层的透明区域,所述电子阻挡材
料适用于减少电流从所述半透明的光活性层的第一侧上的区域穿过透明区域至半透明的
光活性层的第二侧上的区域的流动。
30.根据权利要求29所述的方法,其中,所述电子阻挡材料包括分子的自组装单层或多
层。
31.根据权利要求30所述的方法,其中,所述电子阻挡材料包括分子的自组装单层或多
层,其中,所述分子选择性地结合至所述基板。
32.根据权利要求30或31所述的方法,其中,所述电子阻挡材料包括羧化的环糊精、琥
珀酰环糊精、氰基丙烯酸末端官能化的五(3-己基噻吩)、碘代四氟苯甲酸、4-胍基丁酸、
C10-30-烷基...
【专利技术属性】
技术研发人员:亨利·施耐德,维克多·布尔拉科夫,詹姆斯·鲍尔,加尔斯·埃普龙,艾伦·哥里尔利,
申请(专利权)人:埃西斯创新有限公司,
类型:发明
国别省市:英国;GB
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