本实用新型专利技术提出了一种液体供给装置，用于对加工装置输送液体，其包括储液容器、搅拌机构、输送机构、分流控制机构及加液机构。储液容器用于储存液体。搅拌机构用于搅拌储液容器内的液体。输送机构用于将储液容器内的液体输送至分流控制机构。分流控制机构包括与输送机构相连通的分流控制器及与分流控制器相连通的回流管。分流控制器设有第一出口及第二出口。回流管的一端与第一出口相连通，回流管的另一端该储液容器相连通以使储液容器、输送机构及分流控制器构成循环回路。分流控制器能够控制液体从第二出口流出。加液机构与第二出口相连通以将液体输送至加工装置。上述液体供给装置能够防止被输送液体的结晶。
【技术实现步骤摘要】
本技术设及一种供给装置，特别是一种液体供给装置。
技术介绍
抛光是化学冷加工过程中必不可少的一种精密加工工艺，在该加工工艺过程中抛 光液是必不可少的加工辅料。抛光液一般是由研磨颗粒及水混合而成的悬浊液。抛光液具 有易结晶的特点，抛光液研磨颗粒容易在输送管道内壁沉淀结晶，结晶碎片的存在会影响 阀体及输送管道的正常工作，更为严重的是结晶碎片混合在抛光液中会对抛光液造成污染 从而在工件表面产生划痕从而影响抛光品质，导致难W保证抛光质量稳定性及抛光液供给 量的控制。
技术实现思路
鉴于上述状况，有必要提供一种稳定输送及液体不易沉淀结晶的液体供给装置。 一种液体供给装置，用于对加工装置输送液体，其包括储液容器、设置于该储液容 器上的揽拌机构、与该储液容器相连通的输送机构、与该输送机构相连通的分流控制机构 及与该分流控制机构相连通的加液机构。该储液容器用于储存液体。该揽拌机构用于揽拌 该储液容器内的液体。该输送机构用于将该储液容器内的液体输送至该分流控制机构。该 分流控制机构包括与该输送机构相连通的分流控制器及与该分流控制器相连通回流管。该 分流控制器设有第一出口及第二出口。该回流管的一端与该第一出口相连通，该回流管的 另一端与该储液容器相连通W使该储液容器、该输送机构及该分流控制器构成循环回路。 该分流控制器能够控制液体从该第二出口流出。该加液机构与该第二出口相连通W将液体 输送至该加工装置。 阳0化]进一步地，该加液机构包括与该第二出口相连通的流量计及与该流量计相连通的 加液管，该流量计能够精确控制液体通过该加液管的流量。 进一步地，该揽拌机构包括揽拌驱动件及与该揽拌驱动件相连接的揽拌件，该揽 拌件伸入该储液容器中，该揽拌驱动件驱动该揽拌件转动W对该储液容器内的液体进行揽 拌。 进一步地，该输送机构包括输送器、与该输送器相连通的汲取管及输送管，该汲取 管伸入该储液容器，该输送器通过该汲取管W抽取该储液容器内的液体并通过该输送管传 输至该分流控制机构。 上述液体供给装置通过设置分流控制器与回流管W使储液容器、输送机构及分流 控制器构成循环回路从而使输送管机构输送管内的液体持续流动防止了液体沉淀结晶。【附图说明】 图1是本技术的液体供给装置的立体图。 图2是图1所示的液体供给装置的部分立体分解图。 主要元件符号说明 如下【具体实施方式】将结合上述附图进一步说明本技术。【具体实施方式】 下面结合附图及实施方式对本技术提供的一种液体供给装置作进一步详细 说明。 请参阅图1，本技术提供的一种用于将液体输送至加工装置200的液体供给 装置100,其包括储液容器10、设置于储液容器10上的揽拌机构20、与储液容器10相连通 的输送机构30、与输送机构30相连通的分流控制机构40及与分流控制机构40相连通的加 液机构50。储液容器10用于储存液体。 请参阅图2,揽拌机构20包括揽拌驱动件21及与揽拌驱动件21相连接的揽拌件 22。揽拌件22伸入储液容器10中。揽拌驱动件21驱动揽拌件22转动W对储液容器10 内的液体进行揽拌从而防止液体沉淀结晶。本实施例中，揽拌驱动件21为电机。 输送机构30包括输送器31、与输送器31相连通的汲取管32及输送管33。汲取 管32伸入储液容器10。输送器31通过汲取管32W抽取储液容器10内的液体并通过输 送管33传输至分流控制机构40。本实施例中，输送器31为高压累W提高液体在输送管33 的输送速度W从而防止液体沉淀结晶。 分流控制机构40通过输送管33与该输送器31相连通，其包括分流控制器41及 与分流控制器41相连通回流管42。分流控制器41设有第一出口 411及第二出口 412。回 流管42的一端与第一出口 411相连通，回流管42的另一端与储液容器10相连通W使储液 容器10、输送机构30及分流控制器41构成循环回路。因此，在对加工装置200停止加液 时，液体也可W在储液容器10、输送机构30及分流控制器41构成的循环回路内循环从而使 输送管33内的液体持续流动防止液体沉淀结晶。分流控制器41能够控制液体从第二出口 412流出。 加液机构50包括与分流控制机构40的第二出口 412相连通的流量计51及与流 量计51相连通的加液管52。流量计51能够精确控制液体通过加液管52的流量从而控制 液体供给装置100输送至加工装置200的液体量。 使用时，揽拌机构20的揽拌驱动件21驱动揽拌件22W对储液容器10内的液体 进行揽拌。输送器31将储液容器10的液体通过汲取管32与输送管33输送至分流控制机 构40。分流控制器41将部分液体经由第一出口 411与回流管42输送至储液容器10内W 形成循环回路防止输送管33内的液体沉淀结晶。分流控制器41将部分液体经由第二出口 412至加液机构50。加液机构50通过流量计51控制加液管52内的液体流量从而控制液 体供给装置100输送至加工装置200的液体量。 在本实施方式中，加液机构50包括流量计51及与流量计51相连通的加液管52， 但不限于此，流量计51可W去除，并不影响加液机构50将储液容器10内的液体输送至加 工装置200。 上述液体供给装置100通过设置分流控制器41与回流管42W使储液容器10、输 送机构30及分流控制器41构成循环回路从而使输送机构30的输送管33内的液体持续流 动防止了液体沉淀结晶。同时，通过设置流量计51能够精确控制液体供给装置100输送至 加工装置200的液体量。 另外，本领域技术人员还可在本技术精神内做其它变化，当然，运些依据本实 用新型精神所做的变化，都应包含在本技术所要求保护的范围。【主权项】1. 一种液体供给装置，用于对加工装置输送液体，其包括储液容器、设置于该储液容器 上的搅拌机构、与该储液容器相连通的输送机构、与该输送机构相连通的分流控制机构及 与该分流控制机构相连通的加液机构，该储液容器用于储存液体，该搅拌机构用于搅拌该 储液容器内的液体，该输送机构用于将该储液容器内的液体输送至该分流控制机构，其特 征在于：该分流控制机构包括与该输送机构相连通的分流控制器及与该分流控制器相连通 的回流管，该分流控制器设有第一出口及第二出口，该回流管的一端与该第一出口相连通， 该回流管的另一端与该储液容器相连通以使该储液容器、该输送机构及该分流控制器构成 循环回路，该分流控制器能够控制液体从该第二出口流出，该加液机构与该第二出口相连 通以将液体输送至该加工装置。2. 如权利要求1所述的液体供给装置，其特征在于：该加液机构包括与该第二出口相 连通的流量计及与该流量计相连通的加液管，该流量计能够控制通过该加液管的液体流 量。3. 如权利要求1所述的液体供给装置，其特征在于：该搅拌机构包括搅拌驱动件及与 该搅拌驱动件相连接的搅拌件，该搅拌件伸入该储液容器中，该搅拌驱动件驱动该搅拌件 转动以对该储液容器内的液体进行搅拌。4. 如权利要求1所述的液体供给装置，其特征在于：该输送机构包括输送器、与该输送 器相连通的汲取管及输送管，该汲取管伸入该储液容器，该输送器通过该汲取管以抽取该 储液容器内的液体并通过该输送管传输至该分流控制机构。【专利摘要】本技术提出了一种本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种液体供给装置，用于对加工装置输送液体，其包括储液容器、设置于该储液容器上的搅拌机构、与该储液容器相连通的输送机构、与该输送机构相连通的分流控制机构及与该分流控制机构相连通的加液机构，该储液容器用于储存液体，该搅拌机构用于搅拌该储液容器内的液体，该输送机构用于将该储液容器内的液体输送至该分流控制机构，其特征在于：该分流控制机构包括与该输送机构相连通的分流控制器及与该分流控制器相连通的回流管，该分流控制器设有第一出口及第二出口，该回流管的一端与该第一出口相连通，该回流管的另一端与该储液容器相连通以使该储液容器、该输送机构及该分流控制器构成循环回路，该分流控制器能够控制液体从该第二出口流出，该加液机构与该第二出口相连通以将液体输送至该加工装置。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：陈林，陈新伟，
申请(专利权)人：富鼎电子科技嘉善有限公司，
类型：新型
国别省市：浙江;33
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