抓取机构制造技术

技术编号:12892011 阅读:134 留言:0更新日期:2016-02-18 02:10
本发明专利技术是为了提供一种抓取机构,用以抓取一待抓取对象,该抓取机构包括:一夹持装置,以一横向夹持方式固持该待抓取对象;一施压装置,向下施压至一该待抓取对象之上端表面,该待抓取对象系以一夹持方式被该夹持装置固持,其中该施压装置之设置同该待抓取对象被该夹持装置以一夹持方式固持,该待抓取对象之一中心轴系在一垂直方向与该施压装置之一中心轴在该垂直方向相互重合。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】抓取机构
本专利技术涉及一种抓取机构。
技术介绍
测定设备和测定方法一般可从含有多种物质的样品(样本)中分离和鉴定作为测定对象的预定物质(以下称为目标物质),并进行分析。作为用来实施此种测定的测定设备,提出一输送部来输送一反应容器,从一特定的容置位置输送到一目标位置。此外,该输送部包括一用以抓取该反应容器之抓取机构所构成。已知之抓取机构,如下所示。例如,专利申请1揭露一机构,其包括一固持件、一杆部、一杆固持部以及一导引部。固持件用以固持反应容器。杆部具有一端部,在反应容器之上端开口卡合于固持件。杆固持部则可弹性地支持杆部,以让杆部可滑动。导引部系围绕杆部,可藉由沿一轴向滑动杆部来解除与输送件之结合。此结构设计系让反应容器可藉由插置杆部至反应容器之上端开口来被抓取。之后,导引部会将反应容器压至杆部之插置处,以移除反应容器。此外,专利申请2揭露一包括一对抓取臂以及一凹槽的机构。此对抓取臂系以一横向夹持方式固持反应容器,且凹槽系形成于每一抓取臂并嵌套反应容器之颈部。这样的结构设计系减少此对抓取臂间之间隙以抓取反应容器,且嵌套反应容器之颈部。之后,反应容器会藉由增加此对抓取臂间之间隙来解除凹槽对反应容器的嵌套,进而被移除。先前技术:专利申请1:日本专利号JP2003-83992专利申请2:国际专利号WO2007/039524
技术实现思路
本专利技术之目的系解决上述习知技艺之问题。本专利技术系提供一用以抓取一待抓取对象之抓取机构。该抓取机构包括:一夹持装置,以一横向夹持方式固持该待抓取对象;一施压装置,向下施压至一该待抓取对象之上端表面,该待抓取对象系以一夹持方式被该夹持装置固持,其中该施压装置之设置同该待抓取对象被该夹持装置以一夹持方式固持,该待抓取对象之一中心轴系在一垂直方向与该施压装置之一中心轴在该垂直方向相互重合。附图说明图1绘示本实施例之测定设备的上视图;图2是图1之A区域的放大示意图;图3绘示一组抓取机构周围之示意图,其中图3(a)绘示比色管T被固持于一夹持部的示意图,图3(b)绘示比色管T分离自夹持部的示意图;图4绘示一抓取机构周围的侧视图;图5绘示一组夹持部固持比色管的示意图,其中图5(a)是一上视图,图5(b)是一侧视图,而图5(c)是图5(b)于另一视角的侧视图;图6绘示一组抓取机构抓取比色管T时周围状态的示意图,其中图6(a)是一上视图,而图6(b)是一前剖视图;图7绘示一组抓取机构释放比色管T时周围状态的示意图,其中图7(a)是一上视图,而图7(b)是一前剖视图;图8绘示一组抓取机构封闭比色管T时周围状态的示意图,其中图8(a)是一上视图,而图8(b)是一前剖视图;图9是一抓取机构变化的前视图;及图10是一组抓取机构变化的上视图。具体实施方式以下参照附图,详细说明该专利技术的之抓取机构的各实施方式。但是,本专利技术并未限定于这些实施方式。本实施例之该抓取机构可应用于任何领域。例如,在医疗领域中,本实施例之该抓取机构可适用于旨在从含有多种目标物质的样品中分离或鉴定所期望的物质并进行分析的自动免疫测定设备。以下实施方式中,会说明将本专利技术用于旨在利用对标识物质使用酶的EIA(EnzymeImmunoassay,酶免疫测定法)测定法分析血液等样品的自动免疫测定设备的情况。此外,此这种测定设备分为在测定后清洗反应容器以重复用于下一次测定的装置以及在测定后废弃一次性反应容器(以下称为比色管)的装置,本专利技术可适用于其中的任一种装置,但以下会说明将本专利技术用于后者的装置的情况。(结构)首先,说明测定设备的整体构成。图1绘示本实施例之测定设备的上视图。在以下描述中,图1之X方向系对应测定设备之横向方向。图1之Y方向系对应测定设备之前后方向。图1之Z方向(一垂直图1纸面之方向)系对应测定设备之一上下方向。此外,在图1中,下文所述之壳体2系省略盖体部分,以简化附图。如图1所述,测定设备1是一自动免疫测定设备,其包括一测定机构3,其位于壳体2之一基底表面2a上。通过测定机构3将比色管依次输送到预定的多个位置,通过在这些位置分别进行各种预定操作来实施测定,并在测定后废弃比色管。另外,除了特别记载的构成以外,测定设备1可采用已知的自动免疫测定设备的构成。其中,比色管T即是对应权利要求中之“待抓取对象”。此外,测定机构3还包括一比色管供应部4,一注射头供应部5,一试剂保存部6,一样品保存部7,一基质保存部8,一比色管废弃部9,一第一比色管输送部10,一第二比色管输送部11,一样品输送部12,一第一试剂注入部13,一第二试剂注入部14以及一反应槽15。比色管供应部4是收容并配设未使用的多个比色管的收容排列装置,且例如,可构成为送料器。注射头供应部5是收容排列用来吸入样品的一次性注射头的注射头收容排列装置,例如是使用一注射头固定架来收容排列。试剂保存部6是在圆形排列状态下收容了多个装有试剂的容器(此处为磁性颗粒液瓶、标识体液瓶、预处理液瓶、检体稀释液瓶等,皆省略图示)的试剂收容装置,例如是使用一试剂冷却盒。样品保存部7是在圆形排列状态下收容了多个装有样品的容器的样品保存装置,例如是使用一已知的样品试剂冷却盒。基质保存部8是保存基质液之保存装置,例如是已知的基质液保存槽。比色管废弃部9是用以接收废弃比色管T的空间部,配置在被第二比色管输送部11输送之比色管T下方。比色管废弃部9系对应权利要求中之“接收空间”。第一比色管输送部10是将收容在比色管供应部4的比色管输送到下述反应槽15之第一反应线20的比色管输送装置。第二比色管输送部11是将比色管T从反应槽15之第一反应线20输送到下述第二反应线30的比色管输送装置,且输送比色管T从下述第二反应线30到比色管废弃部9。在第一比色管输送部10与第二比色管输送部11的配设中,第一比色管输送部10例如适配置在比色管供应部4与下述反应槽15附近。此外,第二比色管输送部11配置在下述反应槽15以及比色管废弃部9附近。第一比色管输送部10以及第二比色管输送部11将于下文做详细说明。第一比色管输送部10以及第二比色管输送部11系对应于权利要求之“输送装置”。样品输送部12系用以取得注射头供应部5之注射头的一样品输送装置,是经由吸取注射头供应部5的固定架来输送样品,并卸下所吸取的样品至配设在下述第一反应线20之比色管T。第一试剂注入部13是用以从一配设于试剂保存部6之容器注入一试剂至配设于下述第一反应线20之比色管T的试剂注入装置。第二试剂注入部14是用以自配设于试剂保存部6之一容器注入一试剂至配设于下述第二反应线30之比色管T的试剂注入装置。样品输送部12,第一试剂注入部13以及第二试剂注入部14可构成为使用步进马达等的已知的机械臂以及在使用步进马达等的已知的机械臂上组合着使用阀门的吸入机构。此外,第一试剂注入部13以及第二试剂注入部14系配设于试剂保存部6以及反应槽15附近。反应槽15是输送多个比色管T的输送线,在其内周设有第一反应线20,同时在其外周设有第二反应线30。第一反应线20以及第二反应线30的处理系依据目标物质的型式来变化。例如,第一反应线20是预处理如对样品进行稀释使样品与磁性颗粒反应的生产线。第二反应线30是将样品和磁性颗粒反应后的反应物与标识抗体进行反应的生产线,亦是检测标识抗体与本文档来自技高网...
抓取机构

【技术保护点】
一种抓取机构,其特征在于,用以抓取一待抓取对象,该抓取机构包括:一夹持装置,以一横向夹持方式固持该待抓取对象;一施压装置,向下施压至一该待抓取对象之上端表面,该待抓取对象系以一夹持方式被该夹持装置固持,其中该施压装置之设置同该待抓取对象被该夹持装置以一夹持方式固持,该待抓取对象之一中心轴系在一垂直方向与该施压装置之一中心轴在该垂直方向相互重合。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2013.05.30 JP 2013-1146491.一种抓取机构,其特征在于,用以抓取一待抓取对象,该抓取机构包括:一夹持装置,以一横向夹持方式固持该待抓取对象,该夹持装置包括一对棒状臂部和多个爪部,该对臂部设于该些臂部之间的一间隙,该些臂部各自围绕一转杆转动,该转杆系为各该臂部其端部之外的一部分臂部,各该爪部系连接至该对臂部中之一对应臂部的一端部,该端部系靠近该待抓取对象,而该些爪部系紧靠接触该待抓取对象;一卡合部,其系藉由插置至该对臂部之间的一插置部来切换该对臂部之一倾斜状态,该卡合部自相对靠近该待抓取对象的该臂部之端部延伸至该转杆;以及一施压装置,向下施压至一该待抓取对象之上端表面,该待抓取对象系以一夹持方式被该夹持装置固持,其中该施压装置之设置同该待抓取对象被该夹持装置以一夹持方式固持,该待抓取对象之一中心轴系在一垂直方向与该施压装置之一中心轴在该垂直方向相互重合,以及依据该卡合部插置于该臂部之该插置部的一插置量,该卡合部使该对该臂部之该倾斜状态切换于一第一状态与一第二状态之间,该第一状态系连接至该对该臂部之该些爪部之间的间隙大于该待抓取对象之一宽度,而该第二状态系连接至该对臂部之该些爪部之间的间隙实质上等于该...

【专利技术属性】
技术研发人员:小栗一之远藤知弘大竹敏昭川田秀信松本隆宏
申请(专利权)人:富士瑞必欧株式会社日本电子株式会社
类型:发明
国别省市:日本;JP

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