本实用新型专利技术提供一种集成UV光解和等离子发生器的废气处理装置，包括机架、粉尘过滤器、去雾器、多个等离子发生器以及多个UV光解器，其中，该架内部依次间隔有密闭的除尘室、废气处理室以及混合净化室，其中，该粉尘过滤装置可拆卸安装在该除尘室中，该去雾装置可拆卸地安装在该过滤装置一侧的该除尘室中，该废气处理室通过隔板间隔为离子发生室以及光解室，该多个等离子发生器安装在该离子发生室内，该多个UV光解器安装在该光解室中。其通过结构改良，集成等离子发生器与UV光解器在其废气处理市中，解决目前单一等离子处理装置或者光解处理装置存在的处理废气不完整，与难以集成在一起的难题。且结构简单、制造方便。
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种工业废气净化装置，更具体而言指一种集成UV光解和等离子发生器的废气处理装置。
技术介绍
目前的炼油厂、橡胶厂、皮革厂、印刷厂、化工厂、制药厂、金属铸造厂、塑料再生厂、喷涂溶剂、垃圾转运站等工厂在生产过程中都会产生工业废气，而如何处理所产生的废气是目前我国社会所面临的严峻的问题，由于这些工业废气中含有有机和无机物恶臭气体，因此需要对这些工业废气进行脱臭净化处理，目前常用的方式是使用等离子发生器处理废气，由于等离子是由电子、离子、自由基和中性粒子组成。它们比常规分子小。等离子体净化技术就是利用高频高压的电场，将空气中的氧分子和其他分子电离产生出电子、离子、自由基和中性粒子等小分子，这些等离子通过进入需分解的臭气分子的内部，打开分子链，破坏分子结构的原理，以每秒钟300万至3000万速度的等量发射和回收，轰击发生臭气的分子，从而发生氧化等一系列复杂的化学反应，将有害物转化成为无害物。因此等离子装置处理废气的方式，成为一种流行的方式，但是目前的等离子净化在具体使用的时候，仍应存在净化不完全的问题，即废气中或多或少还还有其他有毒气体。
技术实现思路
本技术的主要目的在于提供一种集成UV光解和等离子发生器的废气处理装置，其通过集成等离子发生器与UV光解器在其废气处理市中，解决目前单一等离子处理装置或者光解处理装置存在的处理废气不完整，与难以集成在一起的难题。本技术采用的技术方案为:一种集成UV光解和等离子发生器的废气处理装置，包括机架、粉尘过滤器、去雾器、多个等离子发生器以及多个UV光解器，其中，该架内部依次间隔有密闭的除尘室、废气处理室以及混合净化室，其中，该粉尘过滤装置可拆卸安装在该除尘室中，该去雾装置可拆卸地安装在该过滤装置一侧的该除尘室中，该废气处理室通过隔板间隔为离子发生室以及光解室，该多个等离子发生器安装在该离子发生室内，该多个UV光解器安装在该光解室中。该除尘室设置有隔板，该隔板中设置有供该粉尘过滤装置、该去雾装置伸入除尘室内的槽口，该粉尘过滤装置、该去雾装置通过该槽口伸入至该除尘室中。该废气处理室设置有隔板，该隔板分别对应离子发生室以及光解室设置有相应的穿插口，该离子发生器以及该UV光解器通过该穿插口伸入至相应的离子发生室、光解室中。本技术的有益效果为:本技术在结构上包括机架、粉尘过滤器、去雾器、多个等离子发生器以及多个UV光解器，其中，该架内部依次间隔有密闭的除尘室、废气处理室以及混合净化室，其中，该粉尘过滤装置可拆卸安装在该除尘室中，该去雾装置可拆卸地安装在该过滤装置一侧的该除尘室中，该废气处理室通过隔板间隔为离子发生室以及光解室，该多个等离子发生器安装在该离子发生室内，该多个UV光解器安装在该光解室中。其通过结构改良，集成等离子发生器与UV光解器在其废气处理市中，解决目前单一等离子处理装置或者光解处理装置存在的处理废气不完整，与难以集成在一起的难题。且结构简单、制造方便。【附图说明】图1为本技术去除相应封板的结构示意图。图2为本技术去除相应封板后的机架示意图。 图3为本技术的等离子发生器、UV光解器的的示意图。【具体实施方式】如图1至图3所示为本技术的一种较佳的具体实施例子，一种集成UV光解和等离子发生器的废气处理装置，如图1、图2所示，包括机架10、粉尘过滤器20、去雾器30、多个等离子发生器40以及多个UV光解器50，其中，该架10内部依次间隔有密闭的除尘室11、废气处理室12以及混合净化室13，其中，该粉尘过滤装置20可拆卸安装在该除尘室11中，该去雾装置30可拆卸地安装在该过滤装置20 —侧的该除尘室11中，该废气处理室12通过隔板间隔为离子发生室121以及光解室122，该多个等离子发生器40安装在该离子发生室内121，该多个UV光解器50安装在该光解室122中。进一步，如图1所示，该除尘室11设置有隔板111，该隔板111中设置有供该粉尘过滤装置20、该去雾装置30伸入除尘室11内的槽口 112，该粉尘过滤装置20、该去雾装置30通过该槽口 112伸入至该除尘室11中，当需要粉尘过滤装置20或者去雾装置30时，直接采用抽拉方式将需要更换的粉尘过滤装置20或者去雾装置30抽出更换维修。具体地，如图3所示，该废气处理室12设置有隔板123，该隔板121分别对应离子发生室121以及光解室122设置有相应的穿插口 124，该离子发生器40以及该UV光解器50通过该穿插口 124伸入至相应的离子发生室121、光解室122中。本技术的于工业废气通过中的水气和尘粒做预处理，根本上解决了低温等离子体技术设备腐蚀问题；目前技术是气体与电极直接接触，电极在3个月或1年内会造成严重腐蚀，即使通过的气体没有腐蚀性，自身所产生的臭氧也会把电极造成腐蚀；更好的保护离子发生器，延长使用寿命。增加设计的混合室可以使废气充分分解，以达到更好的处理效果Ο本技术的实施例以及附图只是为了展示本技术的设计构思，本技术的保护范围不应当局限于这一实施例。通过上面的叙述可以看出本技术的设计目的是可以有效实施的。实施例的部分展示了本技术的目的以及实施功能和结构主题，并且包括其他的等同替换。因此，本技术的权利构成包括其他的等效实施，具体权利范围参考权利要求。【主权项】1.一种集成UV光解和等离子发生器的废气处理装置，其特征在于:包括机架、粉尘过滤器、去雾器、多个等离子发生器以及多个UV光解器，其中，该架内部依次间隔有密闭的除尘室、废气处理室以及混合净化室，其中，该粉尘过滤装置可拆卸安装在该除尘室中，该去雾装置可拆卸地安装在该过滤装置一侧的该除尘室中，该废气处理室通过隔板间隔为离子发生室以及光解室，该多个等离子发生器安装在该离子发生室内，该多个UV光解器安装在该光解室中。2.如权利要求1所述的一种集成UV光解和等离子发生器的废气处理装置，其特征在于，该除尘室设置有隔板，该隔板中设置有供该粉尘过滤装置、该去雾装置伸入除尘室内的槽口，该粉尘过滤装置、该去雾装置通过该槽口伸入至该除尘室中。3.如权利要求2所述的一种集成UV光解和等离子发生器的废气处理装置，其特征在于，该废气处理室设置有隔板，该隔板分别对应离子发生室以及光解室设置有相应的穿插口，该离子发生器以及该UV光解器通过该穿插口伸入至相应的离子发生室、光解室中。【专利摘要】本技术提供一种集成UV光解和等离子发生器的废气处理装置，包括机架、粉尘过滤器、去雾器、多个等离子发生器以及多个UV光解器，其中，该架内部依次间隔有密闭的除尘室、废气处理室以及混合净化室，其中，该粉尘过滤装置可拆卸安装在该除尘室中，该去雾装置可拆卸地安装在该过滤装置一侧的该除尘室中，该废气处理室通过隔板间隔为离子发生室以及光解室，该多个等离子发生器安装在该离子发生室内，该多个UV光解器安装在该光解室中。其通过结构改良，集成等离子发生器与UV光解器在其废气处理市中，解决目前单一等离子处理装置或者光解处理装置存在的处理废气不完整，与难以集成在一起的难题。且结构简单、制造方便。【IPC分类】B01D46/00, B01D53/74【公开号】CN205019923【申请号】CN201520651418【专利技术人】郭春明 【申本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种集成UV光解和等离子发生器的废气处理装置，其特征在于： 包括机架、粉尘过滤器、去雾器、多个等离子发生器以及多个UV光解器，其中，该架内部依次间隔有密闭的除尘室、废气处理室以及混合净化室，其中，该粉尘过滤装置可拆卸安装在该除尘室中，该去雾装置可拆卸地安装在该过滤装置一侧的该除尘室中，该废气处理室通过隔板间隔为离子发生室以及光解室，该多个等离子发生器安装在该离子发生室内，该多个UV光解器安装在该光解室中。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：郭春明，
申请(专利权)人：郭春明，
类型：新型
国别省市：广东;44
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