带有电极的喷头装置制造方法及图纸

本发明专利技术揭示了一种带有电极的喷头装置，该喷头装置包括绝缘基座、外电极、外绝缘遮盖、内电极、内绝缘遮盖、排液槽及绝缘导流管。绝缘基座具有绝缘基体。外电极固定并覆盖在绝缘基体的内侧壁及顶壁。外绝缘遮盖包括绝缘管体及由绝缘管体顶端部的外侧壁向外延伸形成的绝缘盖体，绝缘管体收容于外电极的收容腔并伸出该收容腔外，绝缘盖体位于固定在绝缘基体顶壁的外电极的上方，绝缘管体的内侧壁围成的通道被定义为主流体通道，绝缘管体的外侧壁与外电极的内侧壁之间间隔一定距离，形成辅助流体通道。内电极设置在外绝缘遮盖的绝缘管体内。内绝缘遮盖罩设在内电极的外围，内绝缘遮盖的顶端低于外绝缘遮盖的绝缘管体的顶端。排液槽收集抛光液。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及电化学抛光
，尤其涉及一种带有电极的喷头装置。
技术介绍
电化学抛光是一种无应力抛光技术，在电化学抛光过程中，需要用到能够导电的抛光液，抛光液通过喷头喷射至晶圆表面。适用于电化学抛光的喷头带有电极，该电极与电源的阴极电连接以使抛光液带电荷，喷头配合与电源的阳极电连接的夹具能够精确地对晶圆表面的特定区域进行电化学抛光工艺。电化学抛光工艺的去除率与晶圆表面和喷头相对应的区域的电流密度和抛光工艺时间有关，因此，通过精确控制和喷头相对应的区域的电流密度的均匀性，可以控制电化学抛光工艺的去除率的均匀性。如图6所示，为现有的喷头装置的剖面结构示意图。该装置主要包括绝缘基座11、电极12及绝缘遮盖13。电极12固定在绝缘基座11的内侧壁及顶壁，电极12具有贯穿电极12的收容腔。绝缘遮盖13包括中空的管体131及由管体131顶端部的外侧壁向外延伸形成的盖体132。绝缘遮盖13的管体131收容于电极12的收容腔并伸出该收容腔外。绝缘遮盖13的盖体132位于固定在绝缘基座11顶壁的电极12的上方。将由绝缘遮盖13的管体131限定的流体通道定义为主流体通道133，绝缘遮盖13本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种带有电极的喷头装置，其特征在于，包括：绝缘基座，所述绝缘基座具有绝缘基体；外电极，所述外电极固定并覆盖在所述绝缘基座的绝缘基体的内侧壁及顶壁，所述外电极具有贯穿外电极的收容腔；外绝缘遮盖，所述外绝缘遮盖包括中空的绝缘管体及由绝缘管体顶端部的外侧壁向外延伸形成的绝缘盖体，所述绝缘管体收容于所述外电极的收容腔并伸出该收容腔外，所述绝缘盖体位于固定在所述绝缘基体顶壁的外电极的上方，所述绝缘管体的内侧壁围成的通道被定义为主流体通道，所述绝缘管体的外侧壁与所述外电极的内侧壁之间间隔一定距离，形成辅助流体通道；内电极，所述内电极设置在所述外绝缘遮盖的绝缘管体内；内绝缘遮盖，所述内绝缘遮盖罩设在所述内电...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：金一诺，王坚，王晖，
申请(专利权)人：盛美半导体设备上海有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31