遮盖自动识别装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种遮盖自动识别装置，可自动识别出与腔体接合的遮盖的尺寸，进而识别出腔体内的晶圆的大小。其技术方案为：本发明专利技术是在腔体和遮盖接合的位置上安装两个传感器，然后在每一个遮盖的与传感器对应的位置上开设两个凹槽，这两个凹槽的深浅不同，传感器可以根据凹槽的深浅反馈出不同的信号值，系统根据两个传感器反馈来的信号值判断出遮盖的尺寸。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及安装在腔体上的遮盖尺寸的识别装置，尤其涉及安装在湿法工艺腔体上的遮盖尺寸的识别装置。
技术介绍
半导体的湿法工艺腔体中，为了实现不同晶圆尺寸的兼容，具有不同尺寸(直径圆周)的遮盖。例如较大圆周的遮盖配合300mm晶圆,较小圆周的遮盖配合200mm晶圆。不同的晶圆有对应的处理，因此在处理时需要获知晶圆的大小。用人工方法去判断晶圆的大小显然费时费力，由于不同尺寸的遮盖有对应的晶圆大小，因此如何用机器而不是人工去识别出遮盖的尺寸是本领域亟待解决的技术问题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于解决上述问题，提供了一种遮盖自动识别装置，可自动识别出与腔体接合的遮盖的尺寸，进而识别出腔体内的晶圆的大小。本专利技术的技术方案为:本专利技术揭示了一种遮盖自动识别装置，用于识别与腔体接合的遮盖的尺寸类型，包括:第一传感器，位于腔体上的遮盖接合处；第二传感器，位于腔体上的遮盖接合处，与第一传感器的位置并列；第一凹槽，位于遮盖上，且遮盖与腔体接合时第一凹槽的位置与第一传感器的位置相对应；第二凹槽，位于遮盖上，与第一凹槽的位置并列，且遮盖与腔体接合时第二凹槽的位置与第二传感器的位置相对应；其中第一凹槽与第二凹槽的深度不同，第一传感器和第二传感器基于第一凹槽和第二凹槽的不同深度反馈不同的信号值，基于信号值识别遮盖的尺寸类型。根据本专利技术的遮盖自动识别装置的一实施例，第一种尺寸的遮盖的第一凹槽的深度小于第二凹槽的深度，当第一遮盖与腔体接合时，第一传感器基于第一凹槽的深度反馈信号值1，第二传感器基于第二凹槽的深度反馈信号值0。根据本专利技术的遮盖自动识别装置的一实施例，第二种尺寸的遮盖的第一凹槽的深度大于第二凹槽的深度，当第二遮盖与腔体接合时，第一传感器基于第一凹槽的深度反馈信号值0，第二传感器基于第二凹槽的深度反馈信号值1。根据本专利技术的遮盖自动识别装置的一实施例，第一传感器和第二传感器反馈的信号值还可以识别系统错误信息。根据本专利技术的遮盖自动识别装置的一实施例，遮盖自动识别装置应用于安装在湿法工艺腔体上的遮盖尺寸的识别。本专利技术对比现有技术有如下的有益效果:本专利技术的方案是在腔体和遮盖接合的位置上安装两个传感器，然后在每一个遮盖的与传感器对应的位置上开设两个凹槽，这两个凹槽的深浅不同，传感器可以根据凹槽的深浅反馈出不同的信号值，系统根据两个传感器反馈来的信号值判断出遮盖的尺寸。相较于现有的技术，本专利技术无需人工，实现了遮盖尺寸、晶圆尺寸的自动化识别，提高了生产效率，降低了生产成本。【附图说明】图1示出了本专利技术的遮盖自动识别装置的较佳实施例(大尺寸遮盖)的立体图。图2示出了本专利技术的遮盖自动识别装置的较佳实施例(小尺寸遮盖)的立体图。图3、图4示出了大尺寸遮盖与腔体接合的原理图。图5、图6示出了小尺寸遮盖与腔体接合的原理图。【具体实施方式】为详细说明本专利技术的
技术实现思路
、构造特征、所达成目的及效果，下面将结合实施例并配合图式予以详细说明。图1示出了遮盖是大尺寸的遮盖时，遮盖自动识别装置的立体图。图3是其俯视图，图4是其剖视图。请同时参见图1、图3和图4，遮盖自动识别装置的第一传感器2和第二传感器3位于腔体上的遮盖接合处，第一传感器2和第二传感器3的位置是并列的。在遮盖1上并列设有第一凹槽10和第二凹槽11，第一凹槽10的深度大于第二凹槽11的深度。当遮盖1与腔体接合时，第一凹槽10的位置与第一传感器2的位置对应，第二凹槽11的位置与第二传感器3的位置对应。由于传感器都有一个感应范围，第一传感器2在第一凹槽10中，由于第一凹槽10的深度大于第一传感器2的感应范围，导致第一传感器2检测不到信号，因此反馈信号值0。第二传感器3在第二凹槽11中，由于第二凹槽11的深度小于第二传感器3的感应范围，第二传感器3检测到信号后反馈信号值1。因此当系统接收到第一传感器2反馈的信号值0和第二传感器3反馈的信号值1时，就能判断出接合在腔体上的遮盖是大尺寸遮盖。图2示出了遮盖是小尺寸的遮盖时，遮盖自动识别装置的立体图。图5是其俯视图，图6是其剖视图。请同时参见图2、图5和图6，遮盖自动识别装置的第一传感器2和第二传感器3位于腔体上的遮盖接合处，第一传感器2和第二传感器3的位置是并列的。在遮盖4上并列设有第一凹槽40和第二凹槽41，第一凹槽40的深度小于第二凹槽41的深度。当遮盖4与腔体接合时，第一凹槽40的位置与第一传感器2的位置对应，第二凹槽41的位置与第二传感器3的位置对应。由于传感器都有一个感应范围，第一传感器2在第一凹槽40中，由于第一凹槽40的深度小于第一传感器2的感应范围，导致第一传感器2检测到信号后反馈信号值1。第二传感器3在第二凹槽41中，由于第二凹槽41的深度大于第二传感器3的感应范围，第二传感器3检测不到信号，因此反馈信号值0。因此当系统接收到第一传感器2反馈的信号值1和第二传感器3反馈的信号值0时，就能判断出接合在腔体上的遮盖是小尺寸遮盖。也就是说，系统是根据第一传感器2和第二传感器3反馈的信号值来判断遮盖是属于大尺寸还是小尺寸，亦即，当检测到信号值为01时为大尺寸，信号值为10时为小尺寸，而信号值为00或者11时则表示系统发生错误。综上所述，本专利技术通过上述实施方式及相关图式说明，己具体、详实的揭露了相关技术，使本领域的技术人员可以据以实施。而以上所述实施例只是用来说明本专利技术，而不是用来限制本专利技术的，本专利技术的权利范围，应由本专利技术的权利要求来界定。【主权项】1.一种遮盖自动识别装置，用于识别与腔体接合的遮盖的尺寸类型，包括: 第一传感器，位于腔体上的遮盖接合处； 第二传感器，位于腔体上的遮盖接合处，与第一传感器的位置并列； 第一凹槽，位于遮盖上，且遮盖与腔体接合时第一凹槽的位置与第一传感器的位置相对应； 第二凹槽，位于遮盖上，与第一凹槽的位置并列，且遮盖与腔体接合时第二凹槽的位置与第二传感器的位置相对应； 其中第一凹槽与第二凹槽的深度不同，第一传感器和第二传感器基于第一凹槽和第二凹槽的不同深度反馈不同的信号值，基于信号值识别遮盖的尺寸类型。2.根据权利要求1所述的遮盖自动识别装置，其特征在于，第一种尺寸的遮盖的第一凹槽的深度小于第二凹槽的深度，当第一遮盖与腔体接合时，第一传感器基于第一凹槽的深度反馈信号值1，第二传感器基于第二凹槽的深度反馈信号值0。3.根据权利要求1所述的遮盖自动识别装置，其特征在于，第二种尺寸的遮盖的第一凹槽的深度大于第二凹槽的深度，当第二遮盖与腔体接合时，第一传感器基于第一凹槽的深度反馈信号值0，第二传感器基于第二凹槽的深度反馈信号值1。4.根据权利要求1所述的遮盖自动识别装置，其特征在于，第一传感器和第二传感器反馈的信号值还可以识别系统错误信息。5.根据权利要求1所述的遮盖自动识别装置，其特征在于，遮盖自动识别装置应用于安装在湿法工艺腔体上的遮盖尺寸的识别。【专利摘要】本专利技术公开了一种遮盖自动识别装置，可自动识别出与腔体接合的遮盖的尺寸，进而识别出腔体内的晶圆的大小。其技术方案为：本专利技术是在腔体和遮盖接合的位置上安装两个传感器，然后在每一个遮盖的与传感器对应的位置上开设两个凹槽，这两个凹槽的深浅不同，传感器可以根据凹槽的深浅反馈出不同的信号值，系统根据两个传感器反馈来的信号值判断出遮盖的尺寸。【IP本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种遮盖自动识别装置，用于识别与腔体接合的遮盖的尺寸类型，包括：第一传感器，位于腔体上的遮盖接合处；第二传感器，位于腔体上的遮盖接合处，与第一传感器的位置并列；第一凹槽，位于遮盖上，且遮盖与腔体接合时第一凹槽的位置与第一传感器的位置相对应；第二凹槽，位于遮盖上，与第一凹槽的位置并列，且遮盖与腔体接合时第二凹槽的位置与第二传感器的位置相对应；其中第一凹槽与第二凹槽的深度不同，第一传感器和第二传感器基于第一凹槽和第二凹槽的不同深度反馈不同的信号值，基于信号值识别遮盖的尺寸类型。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：张镇磊，金一诺，张怀东，王坚，王晖，
申请(专利权)人：盛美半导体设备上海有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31