光写入头定位机构、处理单元及图像形成装置制造方法及图纸

一种光写入头定位机构、处理单元及图像形成装置，用以解决附着在潜像载置体上的调色剂等异物侵入到间隔构件和潜像载置体的接触面之间后不再能够确保光写入头对潜像载置体的定位精度的问题。内侧感光体接触面(21a1)具有的圆弧形状的曲率半径被设定在感光体(2)的半径以下。然后，外侧感光体接触面(21a2)具有的圆弧形状的曲率半径被设定为大于感光体。间隔构件(21)因为配置在其上方的光写入头(4)的负载而朝向感光体一侧被按压，并且接触面(21a)的表面形状变形为沿着感光体的表面形状的形状，从而使得接触面与感光体的表面密接。由此能够防止异物侵入到间隔构件和感光体的之间，并高精度地维持光写入头对感光体的位置。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及确定光写入头对潜像载置体的位置的光写入头定位机构，以及包括该机构的处理单元和图像形成装置。
技术介绍
作为对感光体鼓得的潜像载置体曝光后形成潜像的曝光装置，公知的有采用由LED或有机EL元件等构成的光写入头的图像形成装置。在这样的图像形成装置中，因为需要高精度地确定光写入头相对于潜像载置体的位置，所以一般地是设有对潜像载置体来进行光写入头定位的光写入头定位机构。例如，在专利文献1中记载了作为光写入头定位机构而采用了设置在潜像载置体和光写入头之间的间隔构件。专利文献1记载的间隔构件和潜像载置体的接触面的曲率半径要小于潜像载置体的曲率半径，更进一步地，通过使得间隔构件具有弹性，来使得间隔构件与潜像载置体的表面密接。如此，在采用间隔构件来对潜像载置体进行光写入头的定位的构成中，因为存在着后述的间隔构件的配置空间问题，所以采用的是相对于潜像载置体而具有多个接触面的间隔构件。【专利文献1】(日本)特许第4073234号公报
技术实现思路
但是，由于间隔构件具有多个接触面，导致各接触面和潜像载置体不会充分密接，因为间隔构件和潜像载置体的接触位置不稳定，就会产生光写入头对潜本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光写入头定位机构，其包括被设置在载置潜像的潜像载置体和对所述潜像载置体曝光后形成潜像的光写入头之间并决定所述光写入头相对于所述潜像载置体的位置的间隔构件，其特征在于，所述间隔构件在所述潜像载置体的轴方向上设有多个与所述潜像载置体的接触面，并且，所述多个的接触面包括：具有在所述潜像载置体半径以下的曲率半径的圆弧的所述接触面，和具有大于所述潜像载置体半径的曲率半径的圆弧的所述接触面，或者，与所述潜像载置体的表面接触的平面状的所述接触面。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：荒泽信一，吉见贵博，中村贤二，
申请(专利权)人：株式会社理光，
类型：发明
国别省市：日本;JP