成像装置制造方法及图纸

技术编号:12766472 阅读:51 留言:0更新日期:2016-01-22 17:19
本实用新型专利技术涉及一种成像装置。成像装置的各种实施例可包括配置为从场景捕获热图像数据的焦平面阵列。该实施例可进一步包括从焦平面阵列位移第一距离的传感器窗。该实施例还包括从焦平面阵列位移大于第一距离的第二距离的防护窗,其中第二距离使得防护窗上的损坏或落在防护窗上的碎片在热图像数据中不聚焦。本实用新型专利技术可以降低环境因素和/或其他因素导致的图像伪影。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种成像装置,其特征在于,包括:焦平面阵列,其被配置为从场景捕获热图像数据;传感器窗,其从焦平面阵列位移第一距离;及防护窗,该防护窗从焦平面阵列位移大于第一距离的第二距离,其中,第二距离被预先确定成使得防护窗上的损坏或落在防护窗上的碎片在热图像数据中不聚焦。

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员:J·科斯切娃B·卡温顿C·波施
申请(专利权)人:菲力尔系统公司
类型:新型
国别省市:美国;US

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