半导体基板保存库、保存法及用它的半导体基板制造方法技术

一种半导体基板保存库、保存方法及用它的半导体基板的制造方法，是在不使收纳容器的构造复杂的情况下在清洁的环境下保存半导体基板实现简便低成本高信赖性的保存库、保管方法及用它的半导体装置的制造方法。保存库（１０４），包括空洞部（１０７）和通道部（１２０）。将通道部（１２０）的通道部门（１０６）与收纳容器（１０１）的盖体（１０２）的面相对紧密连接后，通过将盖体（１０２）从收纳容器（１０１）揭下，可以不使外界气体进入收纳容器（１０１）使空洞部（１０７）与收纳容器（１０１）连通。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种在清洁的环境中保存收纳在收纳容器内的半导体基板的保存库、保存法及用它的半导体基板制造方法。
技术介绍
半导体装置的制造工序的发展，按照工序的规则伴随着工序步骤的增加和工序机械的减少发展而来。再有，因为各种制造设备的处理能力存在着差别，发生了形成半导体装置中的半导体基板由下一道工序的设备处理的等待滞留。通常，滞留中的半导体基板，为了防止粒子或化学物质的附着，在放入洁净的容器的基础上，再保存到称为清洁储存库的保存库。现在，由于半导体装置的制造过程的精细化的进展，能够触动半导体基板的环境，比以前要求更高的清洁性，收纳容器从开放性的运输箱变为SEMI标准中的如称作BOUP(Bottom Opening Unified Pod)或FOUP(FrontOpening Unified Pod)的密闭性及清洁性好的容器。但是，在近年的精细工序中进一步在寻求要求更高的清洁性，维持充分的清洁性，抑制自然氧化膜的形成的方法。作为这样的方法，为用惰性气体置换收纳容器内在收纳容器上设置了提供口和排出口，用一定量的惰性气体在收纳容器中减压循环的方法已为所知(参照专利文件1)。图7，是表示以前例所涉及的半导体基板的保存库的概略图。如图7所示，在封闭容器的底面设置了气体吸引口302，在门面上设置了气体流入口306的收纳容器300，固定在设置于保存库400内的台部441上。台部441上设置了气体吸引器442，气体吸引器442与收纳容器300内的气体吸引口302连接。还有，保存库400的内部充满了清洁的氮气(N2)。这种状态下，从气体吸引口302强行吸引收纳容器300内的气体使收纳容器300内成为低压，这样，因为从气体流入口306箱收纳容器300流入清洁的氮气，收纳容器300内就能由氮气置换。还有，通过保持收纳容器300的低压，收纳容器300内的氮气处于更换状态，就能够维持清洁的环境。(专利文献1)特开2003-92345号公报(日本)(专利技术所要解决的课题)然而，上述的以前的保存库中有必要常时保持收纳容器的低压，在收纳容器上设置气体吸引口及流入口，在保存库的台部也必须设置气体排出器。为此，构造变复杂增加零件的数量加大了故障率和成本，这就成为问题。还有，复杂的形状的收纳容器洗净也困难，洗净时出现药液残留的部分，干燥时出现药液或水分残留的问题。再有，要进行数千次的容器载置及盖/揭动作，气体吸引口及气体排出口就会产生变形，就会出现无法在保存库台部顺利地载置容器而使容器的信赖性出现问题这样的致命的问题。还有，通过将收纳容器内保持减压状态，所以，在收纳容器上会产生很大的疲劳，收纳容器的寿命变短及收纳容器内产生不规则气流就会发生微粒这类问题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于解决上述以前的问题，在不使收纳容器的构造复杂的情况下在清洁的环境下保存半导体基板实现简便低成本信赖性高的保存库、保管方法及用它的半导体装置的制造方法。(解决课题的方法)为达成上述的目的，本专利技术的构成为使保存收纳于收纳容器中的半导体基板的保存库，通过设置在收纳容器上的半导体基板的进出时开放的面进行置换收纳容器内的气体。具体地讲，本专利技术所涉及的半导体基板保存库，是以将形成半导体装置的半导体基板收纳在内部，以通过与一个面设置成开放面的封闭容器和开放面密闭且和可盖/揭的盖体一起形成的收纳容器相结合保存半导体基板的保存库为对象，具有环境控制部，其包含通过在其内部流通清洁气体使其内部的压力保持高于外部的压力的空洞部与向空洞部提供气体的提供气体部，和通道部，其为不使外界气体侵入收纳容器内部而将空洞部和收纳容器连接；另外，通道部，具有相对收纳容器盖体的一面与收纳容器紧密结合的通道部门、与通道部门紧密结合的可盖/揭收纳容器盖体的盖体盖/揭装置，由盖体盖/揭装置揭开盖体，通过使空洞部和收纳容器的连接，使收纳容器的内部和空洞部的内部具有同样的环境为特征的。根据本专利技术的半导体基板保存库，因为具备在保存库上紧密连接收纳容器的状态下可以揭开收纳容器的盖体的通道部，且介于收纳容器的开放面能够进行收纳容器内的气体置换，所以，没有必要在收纳容器及保存库的通道部上设置复杂的气体置换用复杂的吸排气机构。因此，简化了收纳容器及保存库的构造，所以，可降低故障率及成本的同时，收纳容器的洗净变得容易。再有，是在正压状态下进行收纳容器内的气体置换，就可以降低收纳容器的疲劳，可以延长收纳容器的使用寿命。其结果，实现低成本且高信赖性的保存库成为可能。在本专利技术的半导体基板保存库中，空洞部的压力，最好的是外部大气压的1.5倍以上3.0倍以下。通过这样的构成，确实可以置换收纳容器内的气体。在本专利技术的半导体基板保存库中，充满空洞部的气体，最好的是含水量在2％以下且粒径在0.12μm以上的微粒子异物在每0.028立方米中3个以下的气体。通过这样的构成，在清洁的环境中保存半导体基板成为可能，能够控制在半导体基板的表面上的自然氧化膜的生成及粒子的附着。在本专利技术的半导体基板保存库中，充满空洞部的气体，最好的是氮气、氩气、氦气或空气。通过使用这样的气体，确实能够保存半导体基板。本专利技术的半导体基板保存库中，最好的是还包括为将气体的水分浓度(湿度)降至2％以下的除去水分装置。通过这样的构成，确实可以降低空洞部内部的含水量。还有，提供气体部，最好的是至少具有通过过滤气体除去粒子的粒子除去过滤器及除去化学物质的化学过滤器中的一个。通过这样的构成，确实能够提供清洁的气体。本专利技术的半导体基板保存库，最好的是还包括回收从空洞部排出的气体的回收气体管线，通过由回收气体管线回收的气体返回到提供气体部，使从提供气体部提供的气体循环使用。通过这样的构成，可以降低气体使用量。本专利技术的半导体基板保存库，最好的是还包括至少测定空洞部内部的水分、有机化学成份或无机化学成份中一种的浓度的传感器和当传感器测定的值超过所规定的值时，增大空洞部中气体流量的流量控制部。通过这样的构成，确实可以防止半导体基板的污染。本专利技术的半导体基板保存库，最好的是还包括检查半导体基板表面缺陷的检查缺陷装置；取出收纳容器中收纳的半导体基板，移送到检查缺陷装置的半导体基板运送装置。通过这样的构成，在可以进行保存状态检验的同时，还可以进行保存时的检查，能够缩短半导体制造工序中的周转时间。在半导体基板保存库中，最好的是通道部，还具有接传外部和收纳容器的可伸缩的接传台。由此收纳容器的移送变得容易。本专利技术的半导体基板保存库，最好的是还包括保管由盖体盖/揭装置从收纳容器揭下的盖体的保管盖体部和将揭下的盖体向盖体盖/揭装置及保管盖体部移送的盖体搬运装置。这种情况下，最好的是包括复数个通道部。由此可以降低清洁室内的占有空间。再有，将盖体从封闭容器揭下时，最好的是还包括识别盖体与封闭容器的组合的识别部，将揭下的盖体重新盖回原封闭容器。通过这样做，能够确实将盖体返回到原封闭容器上。本专利技术的半导体基板保存库中，最好的是收纳容器为前开式标准容器。本专利技术的半导体基板保存方法，在包括通过在内部流通清洁气体使内部的压力保持比外部的大气压高的空洞部的保存库中，将形成半导体装置的半导体基板收纳到内部，以通过与一个面设置成开放面的封闭容器和开放面密闭且和可盖/揭的盖体一起形成的收纳容器相结合，使外界气体不侵入收纳本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种半导体基板保存库，其特征为：上述半导体基板保存库，是将形成半导体装置的半导体基板收纳在内部，以通过与一个面设置成开放面的封闭容器和使开放面密闭且和可盖／揭的盖体一起形成的收纳容器相结合保存半导体基板，包括：环境控制部，具 有包含通过在其内部流通清洁气体使其内部的压力保持高于外部的压力的空洞部和向空洞部提供气体的提供气体部；通道部，使外界气体不侵入上述收纳容器内部而将上述空洞部和上述收纳容器连接；且上述通道部，具有相对上述收纳容器盖体的一个面与 上述收纳容器紧密结合的通道部门和与上述通道部门紧密结合的可盖／揭上述收纳容器盖体的盖体盖／揭装置，另由上述盖体盖／揭装置揭开上述盖体，通过使上述空洞部和上述收纳容器的连接，使上述收纳容器的内部和上述空洞部的内部具有同样的气体环境。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：横井宏和，青木则茂，宫田毅，小仓毅勇，
申请(专利权)人：松下电器产业株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]