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一种一步法合成单分散SiO2微米粒子的方法技术

技术编号:12737895 阅读:141 留言:0更新日期:2016-01-20 22:22
本发明专利技术的一种一步法合成单分散SiO2微米粒子的方法属于微米材料制备的技术领域。具体方法为:以氨水作为催化剂,CTAB作为电解质,在醇/水体系中催化、水解正硅酸四乙酯,得到单分散的SiO2微米粒子。本发明专利技术操作简单、TEOS用量少在醇/水体系中只起到电解质和粒子稳定剂作用、制备条件温和,得到的SiO2粒子单分散性好,尺寸可达2μm。

【技术实现步骤摘要】
一种一步法合成单分散SiO2微米粒子的方法
本专利技术属于微米材料制备的
,具体涉及一种通过在醇、水体系中,以氨水作为催化剂,TEOS为硅源,十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)为电解质和粒子稳定剂,制备具有良好单分散性的微米级SiO2粒子的方法。技术背景单分散的SiO2微米粒子在很多领域具有完全不同于纳米粒子的广泛的应用价值,如在高性能制陶技术、多相催化、色谱填充柱、抛光等领域。其中,粒子的均一性及微米级尺寸,是SiO2粒子在这些领域应用的关键。传统的溶胶-凝胶法(如法),一般是在醇、水溶剂中,以氨水作为催化剂,水解、缩合正硅酸四乙酯制备单分散的SiO2粒子,但粒子尺寸一般最大不超过亚微米级(0.5μm)。为克服这种尺寸限制,很多课题小组发展了不同的方法改进粒子的尺寸及单分散性。如Konno小组,在体系中利用电解质(LiCl、NaCl和KCl)添加的方法,制备出微米级SiO2粒子。虽然该方法制备的SiO2粒子最大尺寸可达6.6μm,但尺寸的单分散性较难控制,粒子易凝胶化,此外,他们采用硅源多次注入的方法,操作较麻烦且需用大量TEOS;再如Delville小组,利用种子生长法,不断滴加醇稀释的TEOS,通过控制种子尺寸及滴加速度,可以很好抑制二次成核,改进粒子单分散性,最终合成出2μm单分散性良好的SiO2粒子,但该方法也存在操作麻烦、费时、且TEOS用量大等问题;此外,还有些课题小组,如Ren小组,利用集胞藻细胞作为模板,制备出了具有良好蛋白分离效果的SiO2微米粒子,粒子的尺寸与形貌与细胞模板近似,但该方法在合成过程中,细胞需要预处理,操作较麻烦,TEOS在细胞模板上的水解、缩合也较难控制,最终粒子的尺寸与形貌由于细胞模板的多样性,往往都较差。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是,克服
技术介绍
存在的问题,提供一种操作简便、TEOS用量少,一步法合成微米级的单分散良好的SiO2粒子的方法。具体的技术方案如下:一种一步法合成单分散SiO2微米粒子的方法,具体有以下步骤:以氨水作为催化剂,十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)作为电解质,在醇/水体系中催化、水解正硅酸四乙酯,得到单分散的SiO2微米粒子,所述的醇/水体系是指按体积比5∶3的乙醇和水的混合溶剂,在醇/水体系中,氨水浓度为0.162~0.181mol/L,十六烷基三甲基溴化铵浓度为5.36×10-3~5.37×10-3mol/L,正硅酸四乙酯的浓度为0.054~0.055mol/L。在本专利技术的一步法合成单分散SiO2微米粒子的方法中,比较好的加样顺序为:乙醇、水、氨水、十六烷基三甲基溴化铵,最后加正硅酸四乙酯。本专利技术的一步法合成单分散SiO2微米粒子的方法中,更具体的步骤为:在25mL乙醇体系中,加入15mL水,再加入0.5mL质量分数25~28%的分析纯氨水溶液(6.65~7.40mmol)和0.08g分析纯CTAB(0.22mmol),反应温度恒定到25℃,在CTAB全部溶解后,加入0.5mL(2.23mmol)正硅酸四乙酯,继续在25℃恒定温度条件下,搅拌3小时,反应结束后离心去上清,水洗两遍后,120℃将粒子烘干,再550℃煅烧5小时除去杂质,得到纯净的单分散良好的SiO2微米粒子。在本专利技术的一步法合成单分散SiO2微米粒子的方法中,醇、水体积比例严格限定为5∶3,如果体积比例高于1.67,或低于1.66,都不易制备出单分散的SiO2微米粒子。有益效果:因为本专利技术的方法采用的是一步法,不需多步注入硅源或种子再生长,TEOS用量极少,此外,少量CTAB在本专利技术的醇、水条件下,形成不了液晶相,不能起到模板剂作用,只能起到电解质和粒子稳定剂作用,因此,该单分散的SiO2微米粒子的合成方法更简便有效,单分散性更好,粒子尺寸能达到2μm。附图说明图1为本专利技术实施例获得的具有单分散性的SiO2微米粒子的透射电子显微镜(TEM)图像。图2是本专利技术实施例获得的具有单分散性的SiO2微米粒子的高分辨透射电子显微镜(HTEM)图像。具体实施方式以下是本专利技术的实施例用到的基础条件,但本专利技术能实施的范围并不限于这些条件,也不限于这些实施例:环境温度25℃,1个大气压;乙醇,密度0.79g/mL,分子量46g/mol;水,密度1g/mL,分子量18g/mol;氨水,密度0.90~0.91g/mL,质量分数25~28%,摩尔浓度13.3~14.8mol/L,分子量17g/mol;十六烷基三甲基溴化铵(CTAB),分子量364.45g/mol;TEOS,密度0.931g/mL,分子量208.33g/mol。实施例:在25mL乙醇体系中,加入15mL水,再加入0.5mL分析纯氨水溶液(质量分数25~28%),0.08gCTAB(分析纯),反应温度恒定到25℃时,CTAB全部溶解后,加入0.5mL正硅酸四乙酯,继续在25℃恒定温度条件下,搅拌3小时,反应结束后离心去上清,水洗两遍后,120℃将粒子烘干,再550℃煅烧5小时除去CTAB等杂质,得到2μm的单分散良好的SiO2微米粒子,其TEM图如图1所示,HTEM图如图2所示,从图2可以看出,粒子的微观结构中并没有出现有序介孔结构,而是微孔结构。本文档来自技高网
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一种一步法合成单分散SiO2微米粒子的方法

【技术保护点】
一种一步法合成单分散SiO2微米粒子的方法,具体有以下步骤:以氨水作为催化剂,十六烷基三甲基溴化铵作为电解质,在醇/水体系中催化、水解正硅酸四乙酯,得到单分散的SiO2微米粒子,所述的醇/水体系是指按体积比5∶3的乙醇和水的混合溶剂,在所述的醇/水体系中,氨水浓度为0.162~0.181mol/L,十六烷基三甲基溴化铵浓度为5.36×10‑3~5.37×10‑3mol/L,正硅酸四乙酯的浓度为0.054~0.055mol/L。

【技术特征摘要】
1.一种一步法合成单分散SiO2微米粒子的方法,具体有以下步骤:以氨水作为催化剂,十六烷基三甲基溴化铵作为电解质,在醇/水体系中催化、水解正硅酸四乙酯,得到单分散的SiO2微米粒子,所述的醇/水体系是指按体积比5∶3的乙醇和水的混合溶剂,在所述的醇/水体系中,氨水浓度为0.162~0.181mol/L,十六烷基三甲基溴化铵浓度为5.36×10-3~5.37×10-3mol/L,正硅酸四乙酯的浓度为0.054~0.055mol/L;各原料的加样顺序为:乙醇、水、氨水、十六烷基三甲基溴化铵,最后加正硅...

【专利技术属性】
技术研发人员:韩延东董贺郭子龙王皓南杨文胜
申请(专利权)人:吉林大学
类型:发明
国别省市:吉林;22

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