【技术实现步骤摘要】
一种一步法合成单分散SiO2微米粒子的方法
本专利技术属于微米材料制备的
,具体涉及一种通过在醇、水体系中,以氨水作为催化剂,TEOS为硅源,十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)为电解质和粒子稳定剂,制备具有良好单分散性的微米级SiO2粒子的方法。技术背景单分散的SiO2微米粒子在很多领域具有完全不同于纳米粒子的广泛的应用价值,如在高性能制陶技术、多相催化、色谱填充柱、抛光等领域。其中,粒子的均一性及微米级尺寸,是SiO2粒子在这些领域应用的关键。传统的溶胶-凝胶法(如法),一般是在醇、水溶剂中,以氨水作为催化剂,水解、缩合正硅酸四乙酯制备单分散的SiO2粒子,但粒子尺寸一般最大不超过亚微米级(0.5μm)。为克服这种尺寸限制,很多课题小组发展了不同的方法改进粒子的尺寸及单分散性。如Konno小组,在体系中利用电解质(LiCl、NaCl和KCl)添加的方法,制备出微米级SiO2粒子。虽然该方法制备的SiO2粒子最大尺寸可达6.6μm,但尺寸的单分散性较难控制,粒子易凝胶化,此外,他们采用硅源多次注入的方法,操作较麻烦且需用大量TEOS;再如Delville小组,利用种子生长法,不断滴加醇稀释的TEOS,通过控制种子尺寸及滴加速度,可以很好抑制二次成核,改进粒子单分散性,最终合成出2μm单分散性良好的SiO2粒子,但该方法也存在操作麻烦、费时、且TEOS用量大等问题;此外,还有些课题小组,如Ren小组,利用集胞藻细胞作为模板,制备出了具有良好蛋白分离效果的SiO2微米粒子,粒子的尺寸与形貌与细胞模板近似,但该方法在合成过程中,细胞需要预处理,操作较麻烦 ...
【技术保护点】
一种一步法合成单分散SiO2微米粒子的方法,具体有以下步骤:以氨水作为催化剂,十六烷基三甲基溴化铵作为电解质,在醇/水体系中催化、水解正硅酸四乙酯,得到单分散的SiO2微米粒子,所述的醇/水体系是指按体积比5∶3的乙醇和水的混合溶剂,在所述的醇/水体系中,氨水浓度为0.162~0.181mol/L,十六烷基三甲基溴化铵浓度为5.36×10‑3~5.37×10‑3mol/L,正硅酸四乙酯的浓度为0.054~0.055mol/L。
【技术特征摘要】
1.一种一步法合成单分散SiO2微米粒子的方法,具体有以下步骤:以氨水作为催化剂,十六烷基三甲基溴化铵作为电解质,在醇/水体系中催化、水解正硅酸四乙酯,得到单分散的SiO2微米粒子,所述的醇/水体系是指按体积比5∶3的乙醇和水的混合溶剂,在所述的醇/水体系中,氨水浓度为0.162~0.181mol/L,十六烷基三甲基溴化铵浓度为5.36×10-3~5.37×10-3mol/L,正硅酸四乙酯的浓度为0.054~0.055mol/L;各原料的加样顺序为:乙醇、水、氨水、十六烷基三甲基溴化铵,最后加正硅...
【专利技术属性】
技术研发人员:韩延东,董贺,郭子龙,王皓南,杨文胜,
申请(专利权)人:吉林大学,
类型:发明
国别省市:吉林;22
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