投射光学系统及投影装置制造方法及图纸
【技术实现步骤摘要】
【专利说明】投射光学系统及投影装置本申请是申请人日东光学株式会社于2012年7月5日提出的PCT申请PCT/JP2012/004384于2014年03月04日进入国家阶段的申请号为201280043000.9、专利技术名称为投射光学系统及投影装置的专利技术专利申请的分案申请。
本专利技术涉及投影装置的投射光学系统。
技术介绍
在日本国专利公开公报2004 — 258620号(文献1)中记载了这样的技术:为了谋求投射画面的大画面化并缩小投射装置外的投影空间，采用包含反射面的成像光学系统，并且实现了还能够校正色像差的投射光学系统以及使用这样的投射光学系统的图像投射装置。为此，在文献1中记载了这样的内容:在光阀的投影侧自光阀侧起按第1、第2光学系统的顺序配置第1、第2光学系统，第1光学系统包含1个以上折射光学系统，具有正焦度，第2光学系统包含1个以上具有焦度的反射面，具有正焦度，使利用光阀形成的图像在第1及第2光学系统的光路上成像为中间图像，使中间图像进一步放大而投射在屏幕上。在日本国专利公开公报2004 — 295107号(文献2)中记载了实现这样的变焦光学系统的...
【技术保护点】
一种投射光学系统，其从缩小侧的第1像面向放大侧的第2像面进行投射，其中，该投射光学系统具有：变焦光学系统，其包含多个透镜，利用从缩小侧入射的光、经由在上述变焦光学系统的内部形成的第1中间图像而在放大侧形成第2中间图像；以及反射光学系统，其包含位于比上述第2中间图像靠放大侧的位置的具有正折射力的第1反射面。
【技术特征摘要】
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