光学玻璃熔炼装置制造方法及图纸

技术编号:12632578 阅读:53 留言:0更新日期:2016-01-01 11:33
本实用新型专利技术提供一种可以改善玻璃液的腐蚀作用的光学玻璃熔炼装置。光学玻璃熔炼装置,包括炉墙和保温层,在所述保温层对应液位线的水平高度位置采用镂空结构。本实用新型专利技术在保温层对应液位线的水平高度位置采用镂空结构后,陶瓷坩埚炉体使用寿命得到明显提升,并且兼顾了熔炉节能降耗的需求;冷风装置的设置保证了炉体使用前期的节能降耗需求和炉体后期的使用寿命需求,改善了玻璃液对熔炼装置的腐蚀作用,提高了光学玻璃熔炼装置的使用寿命。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种光学玻璃熔制成型技术,特别是涉及一种用于低粘度高腐蚀光学玻璃的陶瓷坩祸熔制装置。技术背景在光学玻璃熔炼生产中,陶瓷坩祸由于其良好的耐腐蚀性和较低的成本被广泛使用,陶瓷坩祸的通常结构如图1所示,玻璃粉料或玻渣经过加料口 I进入炉腔4中,通过烧嘴9和电极5提供的能源实现熔化,鼓泡器提供气流动力推动实现玻璃液的翻滚均化,最后玻璃液经过出料口 7进入澄清或成型工序。该装置的缺点是:进入炉腔4内未熔化的玻璃粉料在鼓泡器的作用下在玻璃液表面翻动,会对炉墙8产生冲刷,特别是炉墙8的液位线3 (玻璃液面)处会受到较严重的腐蚀,通常炉墙8位于液位线3的位置会首先变薄穿孔,另夕卜,由于保温层6的保温作用,阻止了变薄的炉墙8逐渐增强的散热作用,导致炉墙8的腐蚀现象无法得到缓解。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是提供一种可以改善玻璃液的腐蚀作用的光学玻璃熔炼装置。本技术解决技术问题所采用的技术方案是:光学玻璃熔炼装置,包括炉墙和保温层,在所述保温层对应液位线的水平高度位置采用镂空结构。所述镂空结构为:在保温层对应液位线上30mm至液位线下50mm位置不使用或者减少使用保温砖。所述镂空结构长度为所对应炉腔的宽度。在所述镂空结构处设置风冷装置。所述风冷装置采用2-3个外接的导风管与正对镂空结构的冷却风入口连通。所述冷却风入口设置5-9个。本技术的有益效果是:在保温层对应液位线的水平高度位置采用镂空结构后,陶瓷坩祸炉体使用寿命得到明显提升,并且兼顾了熔炉节能降耗的需求;冷风装置的设置保证了炉体使用前期的节能降耗需求和炉体后期的使用寿命需求,改善了玻璃液对熔炼装置的腐蚀作用,提高了光学玻璃熔炼装置的使用寿命。【附图说明】图1是现有的光学玻璃条料熔炼装置的主视图的剖视图。图2是本技术的装置的主视图的剖视图。图3是图2的侧视图。【具体实施方式】如图2、3所示,本技术在保温层6对应液位线3的水平高度位置采用镂空结构13,也就是:在保温层6对应液位线3上30mm至液位线3下50mm位置不使用或者适当减少使用保温砖。镂空结构13长度为所对应炉腔4的宽度。本技术在上述镂空结构13处设置风冷装置14。风冷装置14可采用2_3个外接的导风管17与正对镂空结构13的冷却风入口 16连通,冷却风入口 16通常可设置5-9个。使用过程中,炉墙8位于液位线3位置会首先出现比较严重的腐蚀,此时可采用风冷装置14对冷却风强度进行调节,逐渐加大冷却风的强度,以加强炉墙8的散热,从而减缓炉墙8位于液位线3位置的腐蚀。以上描述的是炉墙8四面中一面的结构,其余三面采用相同结构。【主权项】1.光学玻璃熔炼装置,包括炉墙(8)和保温层¢),其特征在于:在所述保温层(6)对应液位线(3)的水平高度位置采用镂空结构(13)。2.如权利要求1所述的光学玻璃熔炼装置,其特征在于:所述镂空结构(13)为:在保温层(6)对应液位线(3)上30mm至液位线(3)下50mm位置不使用或者减少使用保温砖。3.如权利要求1所述的光学玻璃熔炼装置,其特征在于:所述镂空结构(13)长度为所对应炉腔(4)的宽度。4.如权利要求1所述的光学玻璃熔炼装置,其特征在于:在所述镂空结构(13)处设置风冷装置(14)。5.如权利要求4所述的光学玻璃熔炼装置,其特征在于:所述风冷装置(14)采用2-3个外接的导风管(17)与正对镂空结构(13)的冷却风入口(16)连通。6.如权利要求5所述的光学玻璃熔炼装置,其特征在于:所述冷却风入口(16)设置5-9 个。【专利摘要】本技术提供一种可以改善玻璃液的腐蚀作用的光学玻璃熔炼装置。光学玻璃熔炼装置,包括炉墙和保温层,在所述保温层对应液位线的水平高度位置采用镂空结构。本技术在保温层对应液位线的水平高度位置采用镂空结构后,陶瓷坩埚炉体使用寿命得到明显提升,并且兼顾了熔炉节能降耗的需求;冷风装置的设置保证了炉体使用前期的节能降耗需求和炉体后期的使用寿命需求,改善了玻璃液对熔炼装置的腐蚀作用,提高了光学玻璃熔炼装置的使用寿命。【IPC分类】C03B5/00【公开号】CN204918346【申请号】CN201520714952【专利技术人】吴缙伟, 肖波, 孔祥杭, 朱李均, 艾明富, 杨浩鑫 【申请人】成都光明光电股份有限公司【公开日】2015年12月30日【申请日】2015年9月14日本文档来自技高网...

【技术保护点】
光学玻璃熔炼装置,包括炉墙(8)和保温层(6),其特征在于:在所述保温层(6)对应液位线(3)的水平高度位置采用镂空结构(13)。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:吴缙伟肖波孔祥杭朱李均艾明富杨浩鑫
申请(专利权)人:成都光明光电股份有限公司
类型:新型
国别省市:四川;51

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1