一种透射式X荧光装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种透射式X荧光装置，包括X光管、内套、滤光片、内套座、压片、探测器；所述X光管一端镶嵌在内套座上，内套座与探测器连接，内套镶嵌在内套座内部，滤光片固定在内套上，压片位于内套和探测器之间并固定在内套上。本发明专利技术能够降低传统反射式能量色散X荧光仪中的最低检出限；并且能实现实时快速测量。利用透射式的X荧光仪，可以实现实时测量、制样方便、检出限低的测量仪器，目前该仪器的最低检出限比目前反射式X荧光仪器低2个数量级。

【技术实现步骤摘要】
【专利说明】一种透射式X荧光装置
本专利技术属于利用X荧光进行核素分析
，尤其涉及一种透射式X 荧光装置。
技术介绍
现有的能量色散X荧光仪采用反射的方式，主要有以下两种: (I)反射式的X荧光分析仪，只要测出荧光X射线的波长或者能量，就可以知道元素的种类，这就是荧光X射线定性分析的基础。此外，荧光X射线的强度与相应元素的含量有一定的关系，据此，可以进行元素定量分析。反射式的X焚光分析仪缺点: a)难于作绝对分析，故定量分析需要标样。b)对轻元素的灵敏度要低一些。c)容易受相互元素干扰和叠加峰影响。(2 )全反射X荧光TXRF元素分析仪: TXRF利用全反射技术，会使样品荧光的杂散本底比XRF降低约四个量级，从而大大提高了能量分辨率和灵敏率，避免了 XRF和WXRF测量中通常遇到的本底增强或减背效应，大大缩减了定量分析的工作量和工作时间，同时提高了测量的精确度。传统反射式方法的能量色散X荧光仪的缺点:检出限达不到要求；反射角度很小，调试难度大；样品含量少，测量时间长，不适合快速测量。目前只有透射式显微镜，没有见到透射式的X荧光仪的报道。
技术实现思路
本专利技术为解决降低传统反射式能量色散X荧光仪中的最低检出限，仪器装置调试不能太复杂，并且需要能实现实时快速测量的技术问题而提供一种 透射式X荧光装置。本专利技术为解决公知技术中存在的技术问题所采取的技术方案是: 一种透射式X荧光装置包括X光管、内套、滤光片、内套座、压片、探测器；所述X光管一端镶嵌在内套座上，内套座与探测器连接，内套镶嵌在内套座内部，滤光片固定在内套上，压片位于内套和探测器之间并固定在内套上。进一步，所述的内套，采用紫铜内套。进一步，透射式X荧光装置还包括被测样品，被测样品设置在内套上。进一步，所述内套底部设置有方孔，方孔设置为准直器。进一步，内套与内套座设置有通孔。本专利技术具有的优点和积极效果是:本专利技术能够降低传统反射式能量色散X荧光仪中的最低检出限；并且能实现实时快速测量。利用透射式的X荧光仪，可以实现实时测量、制样方便、检出限低的测量仪器，目前该仪器的最低检出限比目前反射式X荧光仪器低2个数量级。很好的克服了传统反射式方法的能量色散X荧光仪的存在的缺点:检出限达不到要求；反射角度很小，调试难度大；样品含量少，测量时间长，不适合快速测量。【附图说明】图1是本专利技术实施例提供的透射式X荧光装置光路图； 图中:1、入射X光；2、滤光片；3、样品；4、被激发的X光；5、探测器。图2是本专利技术实施例提供的透射式X荧光装置结构示意图； 图中:6、X光管；7、内套；8、内套座；9、压片。图3是本专利技术实施例提供的透射式X荧光装置分析原理图； 图4是本专利技术实施例提供的全反射X荧光分析原理图； 图5是本专利技术实施例提供的反射式X荧光仪的光反射上照式图； 图6是本专利技术实施例提供的反射式X荧光仪的光反射下照式图。【具体实施方式】为能进一步了解本
技术实现思路
、特点及功效，兹例举以下实施例，并配合附图详细说明如下。如图1和图2:—种透射式X荧光装置包括X光管6、内套7、滤光片2、内套座8、压片9、探测器5 ;所述X光管6 —端镶嵌在内套座8上，内套座8与探测器5连接，内套7镶嵌在内套座8内部，滤光片2固定在内套7上，压片9位于内套7和探测器之间并固定在内套7上。所述的内套7，采用紫铜内套。透射式X荧光装置还包括被测样品3，被测样品设置在内套上。所述内套7底部设置有方孔，方孔设置为准直器。内套7与内套座8设置有通孔。如图3当光入射到透明或半透明材料表面时，一部分被反射，一部分被吸收，还有一部分可以透射过去。透射是入射光经过折射穿过物体后的出射现象。被透射的物体为透明体或半透明体，如玻璃，滤色片。如图4、5、6、 市场上常见的能量色散X荧光分析仪有全反射X荧光TXRF元素分析仪:全反射X荧光(TXRF)分析技术是十多年前才发展起来的多元素同时分析技术，它突出的优点是检出限低(pg、ng/mL级以下)、用样量少(Ml、ng级)、准确高度(可用内标法)、简便、快速，而且要进行无损分析，成为一种不可替代的全亲的元素分析方法。国际上每两年召开一次TXRF分析技术国际讨论会。该技术被誉为在分析领域是最具有竞争力的分析手段，在原子谱仪领域内处于领先地位。从整个分析领域看，与质谱仪中的ICP-MS和GDMS、原子吸收谱仪中的ETAAS和EAAS以及中子活化分析NAA等方法相比较，TXRF分析在检出限低、定量性好、用样量少、快速、简便、经济、多元素同时分析等方面有着综合优势。在X荧光谱仪范围内，能谱仪(XRF)和波谱仪(WXRF)在最低检出限、定量性、简便性、准确性、经济性等方面，都明显比TXRF差。在表面分析领域内，尤其在微电子工业的大面积硅片表面质量控制中，TXRF已在国际上得到广泛应用。TXRF分析仪工作原理:TXRF利用全反射技术，会使样品荧光的杂散本底比XRF降低约四个量级，从而大大提高了能量分辨率和灵敏率，避免了 XRF和WXRF测量中通常遇到的本底增强或减背效应，大大缩减了定量分析的工作量和工作时间，同时提高了测量的精确度。测量系统的最低探测限(MDL)可由公式计算:MDL=3(Ib/t)1/2M/I(2)这里，是本底计数率，t为测量计数时间，M为被测量元素质量，I代表被测量元素产生的特征峰净计数率，S=I/M就是系统灵敏度，由公式可以看出，提高灵敏底、降低木底计数率、增加计数时间是降低MDL的有效办法。木氏低、灵敏度高正是TXRF方法的长处，因而MDL很低。现有的能量色散X荧光仪采用反射的方式，还有反射式的X荧光分析仪: 反射式的X荧光分析仪即市场上常见的能量色散X荧光分析仪: 元素的原子受到高能辐射激发而引起内层电子的跃迀，同时发射出具有一定特殊性波长的X射线，根据莫斯莱定律，荧光X射线的波长λ与元素的原子序数Z有关，其数学关系如下: λ=κ(ζ- S) -2 式中K和S是常数。而根据量子理论，X射线可以看成由一种量子或光子组成的粒子流，每个光具有的能量为:E=hV =h C/λ 式中，E为X射线光子的能量，单位为keV ;h为普朗克常数；V为光波的频率；C为光速。因此，只要测出荧光X射线的波长或者能量，就可以知道元素的种类，这就是荧光X射线定性分析的基础。此外，荧光X射线的强度与相应元素的含量有一定的关系，据此，可以进行元素定量分析。该X荧光光谱仪的优缺点: a)分析速度高。测定用时与测定精密度有关，但一般都很短，2?5分钟就可以测完样品中的全部待测元素。b) X射线荧光光谱跟样品的化学结合状态无关，而且跟固体、粉末、液体及晶质、非晶质等物质的状态也基本上没有关系。(气体密封在容器内也可分析)但是在高分辨率的精密测定中却可看到有波长变化等现象。特别是在超软X射线范围内，这种效应更为显著。波长变化用于化学位的测定。c)非破坏分析。在测定中不会引起化学状态的改变，也不会出现试样飞散现象。同一试样可反复多次测量，结果重现性好。d) X射线荧光分析是一种物理分析方法，所以对在化学性质上属同一族的元素也能进行分析。e)分析精密度高。f)制样简单，固体、粉末、液体样品等都可以进行分析。缺点: a)难于作绝对分析，故定量分析需要本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种透射式X荧光装置，其特征在于，该透射式X荧光装置包括X光管、内套、滤光片、内套座、压片、探测器；所述X光管一端镶嵌在内套座上，内套座与探测器连接，内套镶嵌在内套座内部，滤光片固定在内套上，压片位于内套和探测器之间并固定在内套上。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：周建斌，钟建军，童云福，王敏，马英杰，周伟，刘易，洪旭，赵祥，喻杰，
申请(专利权)人：四川新先达测控技术有限公司，
类型：发明
国别省市：四川;51