一种表面局部被银的钼电极制造技术

技术编号:12544024 阅读:86 留言:0更新日期:2015-12-19 12:43
本发明专利技术公开了一种表面局部被银的钼电极,包括钼电极本体,所述电极以金属钼成型,为一直径范围为1~4mm且高度范围为1.5~2mm的圆柱体,圆柱体顶端和底部覆以厚度为1±0.1um的银层。本发明专利技术通过在钼电极表面进行局部被银,不仅改善了钼电极的焊接性能,而且节约了成本。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及电路元件,尤其是一种表面局部被银的钼电极
技术介绍
钼电极高温强度高,使用寿命长,有较高的使用温度和表面电流强度,基于这些优点,它通常应用于日用玻璃、光学玻璃、保温材料、玻璃纤维、稀土工业等领域,但由于钼在较高的温度下其抗氧化性能较差,影响了其焊接性能,当钼电极通过焊接与外部电子电件连接时,如果在电极的焊接结构表面覆以其它易焊材料,将能改善其焊接性能。
技术实现思路
本专利技术提出一种表面局部被银的钼电极,通过在钼电极表面进行局部被银,不仅改善了钼电极的焊接性能,而且节约了成本。本专利技术采用以下技术方案。—种表面局部被银的钼电极,包括钼电极本体,所述电极以金属钼成型,为一直径范围为l~4mm且高度范围为1.5~2mm的圆柱体,圆柱体顶端和底部覆以厚度为I ±0.1um的银层。所述圆柱体顶端、底部与银层的接触端面,其粗糙度为1.6。所述银层为通过真空镀膜固接于电极圆柱体顶端和底部的银层。所述银层为通过被银工艺烧渗固接于电极圆柱体顶端和底部,且纯度为Ag999.9的银层。所述银层为被银工艺完成后再经退火处理的银层。所述银层在圆柱体上的覆盖方法依次分为以下步骤:本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种表面局部被银的钼电极,包括钼电极本体,其特征在于:所述电极以金属钼成型,为一直径范围为1~4mm且高度范围为1.5~2mm的圆柱体,圆柱体顶端和底部覆以厚度为1±0.1um的银层。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:赵桂林徐善理
申请(专利权)人:福建省南平市三金电子有限公司
类型:发明
国别省市:福建;35

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